专利名称：用于三甲基铝中微量杂质分析的三甲基铝HCl分解装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种用于三甲基铝中微量杂质分析的三甲基铝HCl分解装置。
背景技术：
三甲基铝(TMAl)是LED外延生长用非常重要的一种金属有机化合物。其化学性质非常活泼，遇水爆炸、遇氧燃烧。所以必须在特定的气氛中将其分解成性质温和的无机物才能进入仪器进行杂质元素测定，根据方程式2 (CH3) 3A1+1202 = A1203+9H20+6C02 ；TMAl在少量空气中会缓慢氧化成Al2O3，分解过程中会形成不同晶型的Al2O3，有些晶型的Al2O3无法完全溶解，从而造成分析结果的偏差。根据方程式(CH3) 3A1+3HC1 = A1C13+3CH4 ；采用HCl气体与TMAl反应生成可溶性的AlCl3,用于后续的杂质元素分析。 发明内容本实用新型的目的是克服现有技术存在的不足，提供一种用HCl分解三甲基铝样品的装置，用于TMAl中微量杂质元素分析。本实用新型的目的通过以下技术方案来实现用于三甲基铝中微量杂质分析的三甲基铝HCl分解装置，特点是包括HCl气体发生装置和样品分解室，高纯氮气保护装置连接HCl气体发生装置，HCl气体发生装置上安装浓硫酸分液漏斗，HCl气体发生装置连通浓硫酸干燥瓶，浓硫酸干燥瓶连通样品分解室，样品分解室中设有取样瓶，样品分解室连通缓冲瓶，缓冲瓶连通NaOH溶液吸收罐。进一步地，上述的用于三甲基铝中微量杂质分析的三甲基铝HCl分解装置，其中， 所述样品分解室为密闭的手套箱。本实用新型技术方案的实质性特点和进步主要体现在采用HCl分解TMA1，形成可溶性的AlCl3,装置结构简单、分解速度快、反应平和、 易于操作、分析结果重复性好。
以下结合附图对本实用新型技术方案作进一步说明
图1 本实用新型的构造示意图。图中各附图标记的含义见下表
权利要求1.用于三甲基铝中微量杂质分析的三甲基铝HCl分解装置，其特征在于包括HCl气体发生装置和样品分解室，高纯氮气保护装置连接HCl气体发生装置，HCl气体发生装置上安装浓硫酸分液漏斗，HCl气体发生装置连通浓硫酸干燥瓶，浓硫酸干燥瓶连通样品分解室，样品分解室中设有取样瓶，样品分解室连通缓冲瓶，缓冲瓶连通NaOH溶液吸收罐。
2.根据权利要求1所述的用于三甲基铝中微量杂质分析的三甲基铝HCl分解装置，其特征在于所述样品分解室为密闭的手套箱。
专利摘要本实用新型提供一种用于三甲基铝中微量杂质分析的三甲基铝HCl分解装置，包括HCl气体发生装置和样品分解室，高纯氮气保护装置连接HCl气体发生装置，HCl气体发生装置上安装浓硫酸分液漏斗，HCl气体发生装置连通浓硫酸干燥瓶，浓硫酸干燥瓶连通样品分解室，样品分解室中设有取样瓶，样品分解室连通缓冲瓶，缓冲瓶连通NaOH溶液吸收罐。可避免氧化分解法中产生的不溶性的Al2O3造成分析结果的偏差，具有过程简单、易于操作、反应平和、同一样品分析结果重复性好等优点。
文档编号G01N1/28GK202024917SQ201120044280
公开日2011年11月2日 申请日期2011年2月22日 优先权日2011年2月22日
发明者吕宝源, 孙明璐, 徐春菊, 潘兴华, 王佳铭, 邱良德 申请人:江苏南大光电材料股份有限公司