一种遮光型探测器平板的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种遮光型探测器平板，包括：遮光层和原料层，所述遮光层由遮光玻璃构成，所述原料层的上层为设置偏置电压的电极板，下一层为非晶硒材料板，再下一层为电荷收集电极板，最下层为电荷读出电路板，所述遮光层通过玻璃胶安装在所述原料层的上下两表面，通过上述方式，本发明能够有效地遮蔽光对平面的照射，防止平面出现曝光的现象，从而导致设备的精确度不准，甚至损坏。
【专利说明】一种遮光型探测器平板
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种探测器平板，特别涉及一种遮光型探测器平板。
【背景技术】
[0002]随着科学技术的不断提高，人们对于设备的要求也越来越高，不仅要求着设备的耐用性，还要求着设备的精确性能更加突出、优越，现阶段，传统平板探测器的精确度虽然较高，但是其平面较容易受环境影响，特别是由于被晒后出现平板曝光的现象，而导致平板的不稳定性和精确性。
【发明内容】
[0003]本发明主要解决的技术问题是提供一种遮光型探测器平板，能够有效地遮蔽光对平面的照射，防止平面出现曝光的现象，从而导致设备的精确度不准，甚至损坏。
[0004]为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是:提供一种遮光型探测器平板，包括:遮光层和原料层，所述遮光层由遮光玻璃构成，所述原料层的上层为设置偏置电压的电极板，下一层为非晶硒材料板，再下一层为电荷收集电极板，最下层为电荷读出电路板，所述遮光层通过玻璃胶安装在所述原料层的上下两表面。
[0005]在本发明的一较佳实施例中，所述遮光层的厚度为0.1-0.3mm。
[0006]在本发明的一较佳实施例中，所述原料层的厚度为l_3mm。
[0007]本发明的有益效果:本发明采用在平面的原料层表面安装遮光层，能够有效地遮蔽光对平面的照射，防止平面出现曝光的现象，从而导致设备的精确度不准，甚至损坏。
【专利附图】
【附图说明】
[0008]图1为本发明在一较佳实施例中的结构示意图。
[0009]图中各组件及附图标记分别为:1、遮光层，2、原料层，21、设置偏置电压的电极板，22、非晶硒材料板，23、电荷收集电极板，24、电荷读出电路板。
【具体实施方式】
[0010]下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
[0011]请参考图1在本发明的实施例中，一种遮光型探测器平板，包括:遮光层I和原料层2，所述遮光层I由遮光玻璃构成，所述原料层2的上层为设置偏置电压的电极板21，下一层为非晶硒材料板22，再下一层为电荷收集电极板23，最下层为电荷读出电路板24，所述遮光层I通过玻璃胶安装在所述原料层2的上下两表面。
[0012]进一步说明，由于遮光玻璃拥有较好的遮光效果，当在使用的过程中，外部光线射向平板的时后，采用遮光玻璃作为遮光层I的材料能够有效地抵制光线的进入，从而减少平板曝光现象的发生。[0013]在本发明的另一较佳实施例中，所述遮光层I的厚度为0.1-0.3mm。
[0014]进一步说明，由于遮光层I的厚度直接影响着遮光效果的好坏，但是厚度过厚则会导致射线无法进入平板中，使得整个设备都失效，因此采用遮光层I的厚度为
0.1-0.3mm。
[0015]在本发明的另一较佳实施例中，所述原料层2的厚度为l_3mm。
[0016]进一步说明，由于原料层2的厚度直接影响着平板接受射线的能力，但是厚度过厚则会增加成本预算，因此采用原料层2的厚度为l_3mm。
[0017]以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的【技术领域】，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
【权利要求】
1.一种遮光型探测器平板，其特征在于:包括:遮光层和原料层，所述遮光层由遮光玻璃构成，所述原料层的上层为设置偏置电压的电极板，下一层为非晶硒材料板，再下一层为电荷收集电极板，最下层为电荷读出电路板，所述遮光层通过玻璃胶安装在所述原料层的上下两表面。
2.根据权利要求1所述的遮光型探测器平板，其特征在于:所述遮光层的厚度为0.1-0.3mm。
3.根据权利要求1所述的遮光型探测器平板，其特征在于:所述原料层的厚度为l-3mm。
【文档编号】G01D5/12GK103743418SQ201310657438
【公开日】2014年4月23日 申请日期:2013年12月9日 优先权日:2013年12月9日
【发明者】范波 申请人:江苏龙信电子科技有限公司