一种磁场测量分析系统的制作方法
【专利摘要】本发明涉及到一种通过霍尔探头的磁场测量分析装置。包括机架装置、安装在机架装置顶端的横向移动装置，安装在机架装置上端且与横向移动装置成“十”字交叉联接的纵向移动装置，随横向移动装置左右移动且随纵向移动装置上下移动的霍尔探针，在所述横向移动装置上设有横向刻度尺，在所述纵向移动装置上设有纵向刻度尺,通过高斯仪上的霍尔探头的霍尔效应对磁铁表面分不同需要进行定点法进行磁场测量，采集不同点的磁场强度，并通过相应的软件绘制出磁场的曲线图，根据测量获得的磁钢排布的磁场均匀性，可用于磁钢的安装及调整，提高了磁场排布的均匀性，具有测量过程方面快捷、测量结果精确、稳定可靠等特点。
【专利说明】一种磁场测量分析系统
【技术领域】
[0001]本发明涉及到一种磁场测量分析装置，尤其涉及到一种通过霍尔探头的磁场测量分析系统。
【背景技术】
[0002]目前镀膜玻璃采用的磁控溅射技术，磁控溅射已发展为工业镀膜生产中的技术之一，在批量镀膜生产中特别关注靶材利用率、膜层均匀性、沉积速率及溅射过程稳定性等方面的问题，在磁控溅射镀膜设备中，磁钢只能单独测量，磁钢安装好后，没法有效的测量磁场的均匀性，因此会使等离子体产生局部収缩效应。
[0003]镀膜玻璃的膜厚均匀性是镀膜玻璃的非常重要的一个性能指标，它会直接影响到产品的外观质量和使用效果。国家标准要求低辐射玻璃光学性能允许最大偏差为1.5%，当均匀性超过一定范围时，肉眼即可从玻璃面感觉到色差。当前的建筑幕墙玻璃都是采用大面积镀膜玻璃，在此控溅射中，约束金属离子溅射区域磁场的均匀性直接影响着所镀膜层的均匀性，因此保证磁场均匀性问题一直是工艺调试中十分重要而又令人头疼的问题；目前国内很多生产设备的厂家只能利用量具测量单个磁铁的磁场强度，装配好后，不能很好的测量磁场的均匀性，进行调整和优化。
【发明内容】
[0004]为了解决现有技术中磁场强度分布不均匀，难以测量的缺陷，本发明提供一种磁场测量分析系统。
[0005]针对上述的技术问题，达到上述的技术目的，本发明提供一种磁场测量分析系统，其采用的技术方案为一种磁场测量分析系统，其包括机架装置、安装在机架装置上端的横向移动装置，安装在机架装置上端且与横向移动装置“十”字交叉的纵向移动装置，可随横向移动装置左右移动和纵向移动装置上下移动的霍尔探针，在横向移动装置上设有横向刻度尺，在纵向移动装置上设有纵向刻度尺。
[0006]本发明的优先实施方案是，在机架装置的上端、霍尔探针下方位设有被测部件，所述被测部件通过定位装置固定。
[0007]本发明的优先实施方案是，所述横向移动装置包括第一手轮、第一齿轮齿条，横向直线导轨，所述霍尔探针可通过横向直线导轨内导轨进行左、右移动，所述第一手轮转动，带动第一齿轮齿条运动，进一步带动霍尔探针在横向直线导轨内左、右移动。
[0008]本发明的优先实施方案是，所述横向刻度尺安装在横向直线导轨的上，通过横向刻度尺观测到霍尔探针在横向直线导轨的移动距离。
[0009]本发明的优先实施方案是，所述纵向移动装置包括第二手轮、第二齿轮齿条，纵向直线导轨，所述霍尔探针测量机构通过其上的滑块安装在纵向直线导轨内，所述第二手轮转动，带动第二齿轮齿条运动，进一步带动霍尔探针测量机构在纵向直线导轨内做上、下移动。[0010]本发明的优先实施方案是，所述霍尔探针测量机构包括第一手轮、第一齿轮齿条、横向直线导轨、霍尔探针、横向刻度尺。
[0011]本发明的优先实施方案是，在机架装置的顶端安装有一个高斯仪，所属高斯仪于霍尔探针测量装置相连，通过高斯仪的数字现实屏，显示采集各点的磁场强度。
[0012]本发明的优先实施方案是，所属机架装置的底端移动脚轮，所属移动脚轮的下端还设有支撑板。
[0013]本发明的一种优先实施方案是，在霍尔探针的上端还设有上下移动装置，通过上下移动装置可微调霍尔探针与被测部件上下之间的距离。
[0014]本发明的技术效果是，通过高斯仪上的霍尔探头的霍尔效应对磁铁表面分不同需要进行定点法进行磁场测量，采集不同点的磁场强度，并通过相应的软件绘制出磁场的曲线图，根据测量获得的磁钢排布的磁场均匀性，可用于磁钢的安装及调整，提高了磁场排布的均匀性。本发明具有测量过程方面快捷、测量结果精确、稳定可靠等特点。
【专利附图】
【附图说明】
[0015]附图1为本发明的结构示意图。
[0016]1-机架装置；2_横向移动装置；3_纵向移动装置；4_横向刻度尺；5_纵向刻度尺；6_定位装置；7_移动脚轮；8_支撑板；9_上下移动装置；10_被测部件；11_第二手轮；12-第一手轮；13-霍尔探针；14-霍尔探针测量机构；15-第一齿轮；16-第二齿轮；17_高斯仪；19_横向直线导轨；20_纵向直线导轨；21_位移感应器；100_霍尔探针测量装置。
【具体实施方式】
[0017]为了更清楚的叙述本发明的技术方案，下面结合附图对本发明做进一步的说明。
[0018]参照图1所示，一种磁场测量分析系统包括机架装置1，设置在机架装置I上端的纵向移动装置3和横向移动装置2，其中，纵向移动装置3与横向移动装置2成“十”字交叉型。
[0019]横向移动装置2包括第一手轮12、第一齿轮齿条15、横向直线导轨19,架设在横向导轨19上的霍尔探针13，霍尔探针13内的齿轮装置与横向直线导轨19螺旋连接，当横向直线导轨19旋转时，可带动霍尔探针13左、右移动。
[0020]从上得知，当转动第一手轮12时，带动第一齿轮齿条15转动，进一步带动横向直线导轨19运动，从而带动霍尔探针13做左、右横向移动。
[0021]在横向直线导轨19上还设有横向刻度尺4，当霍尔探针13在横向直线导轨19做横向运动时，可通过横向刻度尺4观测霍尔探针13移动的距离，在横向刻度尺4内部设有位移感应器21，通过位移感应器21可获得霍尔探针13移动的距离。
[0022]纵向移动装置3包括第二手轮11、第二齿轮16、纵向直线导轨20，其中，霍尔探针测量机构14活动安装在纵向直线导轨20，当转动第二手轮11时，第二手轮11带动第二齿轮16旋转，通过第二齿轮16带动设置在纵向直线导轨20内的霍尔探针测量机构14做上、下运动。
[0023]霍尔探针测量机构14包括第一手轮12、第一齿轮齿条15、横向直线导轨19、霍尔探针13、横向刻度尺14、安装在霍尔探针13内部的位移传感器21。[0024]在纵向直线导轨20内设置有纵向刻度尺5，通过纵向刻度尺5可观测霍尔探针测量机构14的移动距离。
[0025]如图1所示，被测部件10安装在机架装置I顶端中间位置处，其通过定位装置6固定。所述被测部件10为镀膜用的磁钢装置，为了获得镀膜用均匀分布的磁场，在镀膜前期，镀膜操作人员需要通过磁场测量分析装置判断磁钢的磁场分布是否均匀，从而判断镀膜的效果。
[0026]为了获得均匀磁场分布的磁钢装置，在霍尔探针13的上端还设置一个上下移动装置9，所述上下移动装置9可用于霍尔探针13上下间距离的微调。
[0027]以上所述实施例仅表达了本发明的实施方式，其描述较为详细，只要本领域的技术人员在查看到本发明的实施例后，不脱离本发明构思的前提下，所做的改变都属于本发明的保护范围。但本文所述的实施例不能理解为对本发明的保护范围限制。
【权利要求】
1.一种磁场测量分析系统，其特征在于，包括机架装置(I)、安装在机架装置(I)顶端的横向移动装置(2)，安装在机架装置(2)上端且与横向移动装置(2)成“十”字交叉联接的纵向移动装置(3)，随横向移动装置(2)左右移动且随纵向移动装置(3)上下移动的霍尔探针(13)，在所述横向移动装置(2)上设有横向刻度尺(4)，在所述纵向移动装置(3)上设有纵向刻度尺(5)。
2.根据权利要求1所述的磁场测量分析系统，其特征在于，在所述机架装置(I)的上端、霍尔探针(13)下方位设有被测部件(10)，所述被测部件(10)通过定位装置(6)固定。
3.根据权利要求1所述的磁场测量分析系统，其特征在于，所述横向移动装置(2)包括第一手轮(12)、第一齿轮齿条(15)，横向直线导轨(19)，所述霍尔探针(13)可通过所述横向直线导轨(19)内的导轨进行左、右移动，当所述第一手轮(12)转动时，带动所述第一齿轮齿条(15)转动，进一步带动所述霍尔探针(13)在横向直线导轨内(19)左、右移动。
4.根据权利要求1所述的磁场测量分析系统，其特征在于，所述横向刻度尺(4)安装在所述横向直线导轨(19)上，通过所述横向刻度尺(4)可观测到霍尔探针(13)在所述横向直线导轨(19)上的移动距离。
5.根据权利要求1所述的磁场测量分析系统，所述第一手轮(12)、第一齿轮齿条(15)、横向直线导轨(19)、霍尔探针(13)、横向刻度尺(4)结合组成霍尔探针测量机构(14)。
6.根据权利要求1或5所述的磁场测量分析系统，其特征在于，所述纵向移动装置(5)包括第二手轮(11)、第二齿轮齿条(16)，纵向直线导轨(20)，所述霍尔探针测量机构(14)通过其上的滑块安装在纵向直线导轨(20)内，所述第二手轮转动(11)，带动第二齿轮齿条运动(16)，进一步带动霍尔探针测量机构(14)在纵向直线导轨(20)内做上、下移动。
7.根据权利要求1所述的磁场测量分析系统，其特征在于，在机架装置(I)的顶端安装有一个高斯仪(17)，所属高`斯仪(17)与霍尔探针测量装置(15)相连，通过高斯仪(17)的数字显示屏，显示采集各点的磁场强度。
8.根据权利要求1所述的磁场测量分析系统，其特征在于，所述机架装置(I)的底端设有移动脚轮(7 )，所述移动脚轮(7 )的下端还设有支撑板(8 )。
9.根据权利要求1所述的磁场测量分析系统，其特征在于，在所述霍尔探针(17)的上端设有上下移动装置(9)，通过所述上下移动装置(9)可微调霍尔探针(13)与被测部件(10)上下之间的距离。
【文档编号】G01R33/07GK103675723SQ201310720934
【公开日】2014年3月26日 申请日期:2013年12月24日 优先权日:2013年12月24日
【发明者】魏庆瑄, 张俊峰, 李桂良 申请人:上海子创镀膜技术有限公司