专利名称：一种金相试样抛光支架的制作方法
技术领域：
本实用新型属于分析测试或金相实验仪器领域，具体涉及一种金相试样抛光支架。
背景技术：
一般的金相试样都需要打磨抛光，在抛光的过程中，一方面要手工摆放试样的位置，另一方面还要加水降温，传统的抛光工艺采用手工控制，这种手工抛光工艺存在以下缺陷:(1)工作效率低，例如要完成一个铝合金试样的抛光大约需要60分钟的工时；(2)由于采用手工打磨，加工表面的平整度不高，造成金相表面出现圆弧的现象，从而降低组织显示的清晰度；(3)实验人员的技术熟练程度等人为因素对于抛光质量和抛光实用时间产生较大的影响；(4)由于使用传统手工抛光工艺，因而无法实现大规模的机械自动化抛光。
实用新型内容本实用新型的目的是提供一种结构简单、能够提高抛光质量及工作效率的金相试样抛光工具，可以实现半机械化操作，形成规模化抛光。本实用新型的上述目的通过如下的技术方案来实现:一种金相试样抛光支架，包括支架主体、限位孔、注水孔和固定接头螺栓，所述的支架主体通过固定接头螺栓固定在抛光机外罩上，同时支架主体平面与抛光机转盘平行，在支架主体平面上距离抛光机转盘盘心不同距离的位置 设有限位孔，在支架主体平面上还设有注水孔，注水孔与限位孔处于以抛光机转盘盘心为圆心的同一圆周上。本实用新型，所述的限位孔2最少为一组，每个组中的限位孔2分布在与抛光机转盘盘心不同距离的位置上，每个组中的限位孔2孔径大小相同。本实用新型，所述支架主体平面与抛光机转盘相距2毫米。本实用新型完成一个铝合金式样的抛光仅需15分钟，与现有的手工打磨技术相t匕，明显提高了工作效率；本实用新型能有效的控制试样的抛光面，大大提高试样抛光面的平整度；采用本实用新型后，可实现半机械化操作，因此能够进行批量抛光。与现有技术相比，本实用新型具有如下咋显著效果:(I)本实用新型采用半机械化操作，与传统的手工打磨相比，工作效率明显提高；(2)抛光试样的表面比较平整干净，有限的防止抛光的过程中的试样发热，使之更加符合进一步的组织分析的要求；(3)避免了人为因素对试样抛光质量的影响和时间的浪费；(4)本实用新型结构简单小巧，实用性强，可以实现大规模的机械版自动化抛光。
图1是本实用新型的结构示意图；图2是图1的A向视图。[0015]图中，1.支架主体2.限位孔，3.注水孔，4.固定连接螺栓。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施方式
对本实用新型进行详细说明。如图1和图2所示，本实用新型提供一种金相试样抛光支架，包括支架主体1、限位孔2、注水孔3和固定接头螺栓4，所述的支架主体I通过固定接头螺栓4固定在抛光机外罩上，同时支架主体I平面与抛光机转盘平行，在支架主体I平面上距离抛光机转盘盘心不同距离的位置设有限位孔2，在支架主体I平面上还设有注水孔3，注水孔3与限位孔2处于以抛光机转盘盘心为圆心的同一圆周上；所述的限位孔2最少为一组，每个组中的限位孔2分布在与抛光机转盘盘心不同距离的位置上，每个组中的限位孔2孔径大小相同；所述支架主体I平面与抛光机转盘相距2毫米左右。本实用新型在工作之前，将待抛光试样逐个放入合适孔径和离盘心适当距离的限位孔2中并适当固定，注意不要使试样压抛光绒布太紧，接着用手拨动转盘看试样有没有侦_的趋势，然后，将引流管插在相应的注水孔3处；在工作时，电动机带动转盘以及抛光绒布高速转动，试样在支架上的限位孔2中固定不动，起到抛光作用；在具体实施过程中，在抛光的初期可以将试样放入离盘心较远的限位孔2，以提高抛光速度，抛光的后期，宜放进靠近盘心的限位孔3，以提高抛光的精度，注水孔3用于连接引流管接头，可以保证抛光绒布上试样所处圆周湿润，抛光的同时注水孔3自动加水防止试样发热，防止试样发烧变质。作为本实用新型的一种实施方式，所述支架主体I为有机玻璃，所述引流管及接头为医用点滴用引流管带针头，当转盘随同绒布转动时，打磨试样的下表面，由此快速形成较高精度的抛光面。作为本实用新型的一种实施方式，所述支架主体呈Y字形，各侧臂间的夹角为120°，《壁的厚度为lcm，该种结构为本实用新型的优选方式；在限位孔2中安放试样时，可以先在试样和绒布之间铺垫一张普通纸，在用硬纸镶紧，对于外形规则的试样，可以直接放入合适孔径的限位孔2中，在试样抛光的过程中不容易从限位孔脱落。本实用新型其结构简单小巧，实用性强，可以实现大规模的机械版自动化抛光，可实现试样批 量抛光，既节约了宝贵的时间，又提高了抛光的精度。
权利要求1.一种金相试样抛光支架，包括支架主体(1)、限位孔(2)、注水孔(3)和固定接头螺栓(4)，其特征在于:所述的支架主体(1)通过固定接头螺栓(4)固定在抛光机外罩上，同时支架主体(1)平面与抛光机转盘平行，在支架主体(1)平面上距离抛光机转盘盘心不同距离的位置设有限位孔(2)，在支架主体(1)平面上还设有注水孔(3)，注水孔(3)与限位孔(2)处于以抛光机转盘盘心为圆心的同一圆周上。
2.根据权利要求1所述的一种金相试样抛光支架，其特征在于:所述的限位孔(2)最少为一组，每个组中的限位孔(2)分布在与抛光机转盘盘心不同距离的位置上，每个组中的限位孔(2)孔径大小相同。
3.根据权利要求1所述的一种金相试样抛光支架，其特征在于:所述支架主体平面与抛光机转盘相距2毫 米。
专利摘要一种金相试样抛光支架，涉及一种抛光工具，包括支架主体、限位孔、注水孔和固定接头螺栓，所述的支架主体通过固定接头螺栓固定在抛光机外罩上，同时支架主体平面与抛光机转盘平行，在支架主体平面上距离抛光机转盘盘心不同距离的位置设有限位孔，在支架主体平面上还设有注水孔，注水孔与限位孔处于以抛光机转盘盘心为圆心的同一圆周上；本实用新型的有益效果是，提高了工作效率；能有效控制试样抛光面的平整度，有效控制试样的温度，防止试样发烧变质；可实现试样批量抛光；本实用新型设计简单，易装易拆，效果良好。
文档编号G01N1/32GK203148747SQ20132001749
公开日2013年8月21日 申请日期2013年1月14日 优先权日2013年1月14日
发明者杨志怀 申请人:宝鸡文理学院