一种等离子体发射光谱仪的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及机械领域，特别涉及到一种用于光谱分析的光谱仪。
【背景技术】
[0002]等离子体发射光谱仪用于测定各种物质(可溶解于盐酸、硝酸、氢氟酸等)中的常量、微量、痕量元素的含量。仪器具有高效、抗干扰型强、自动化程度高、操作简便、稳定可靠、测试范围广、分析速度快、检出限低等特点，其广泛应用于稀土、地质、冶金、化工、环保、临床医药、石油制品、半导体、食品、生物样品、刑事科学、农业研究等各个领域。电感耦合等离子体(ICP)是由高频电流经感应线圈产生高频电磁场，使工作气体形成等离子体，并呈现火焰状放电(等离子体焰炬)，达到10000K的高温，是一个具有良好的蒸发一原子化一激发一电离性能的光谱光源，而且由于这种等离子体焰炬呈环状结构，有利于从等离子体中心通道进样并维持火焰的稳定。在现有的光谱仪中，对于进料方式大多采用压缩注射方式，也即采用压力将物料直接注射到混合雾化器内，对于该方式，由于压缩需要消耗较为大的电量，整体功率无法有效降低，同时，由于现有的光谱分析仪内部结构复杂，其造成了成本无法有效降低的问题。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型要解决的技术问题是提供一种低功耗及节能方式进行光谱分析的光谱仪结构。
[0004]通过以下技术方案实现上述目的:
[0005]—种等离子体发射光谱仪，设有相互结合的采样室、火焰隔离室以及光谱分析室，所述的采样室包括雾化器和蠕动栗，所述的蠕动栗由两相互分离的压块和固定转子组成，所述的压块为一半圆形，压块一端固定于固定转子外侧，另一端沿固定点转动而与固定转子相接触，一采样管环绕于所述固定转子及压块之间，且采样管的出口与所述雾化器的进样管口连接，所述的雾化器还接有一排液管，排液管绕于所述固定转子及压块之间，且排液管的出口与所述采样管的出口在固定转子及压块之间环绕方向相反；雾化器依次通过一氩气管道及快速连接口与外部连接，所述的雾化器中部设有一注射头，注射头接入火焰隔离室内。
[0006]作为对上述一种等离子体发射光谱仪的进一步描述，所述压块外侧还设有固定条，所述固定条一端由固定轴连接，另一端绕固定轴转动而与压块相接触。
[0007]作为对上述一种等离子体发射光谱仪的进一步描述，所述火焰隔离室包括燃烧耦合器、阀盖、护环、径向管道和轴向管道，所述燃烧耦合器位于火焰隔离室与采样室结合部，燃烧耦合器包括锁夹、固定卡簧和接通火焰隔离室与采样室的注射通道，采样室的雾化器固定于燃烧耦合器上，且注射头插入注射通道中，固定卡簧夹持所述的雾化器；所述护环固定于径向管道处，固定径向管道位置，所述阀盖固定于轴向管道处，控制轴向管道物料的通断，所述的径向管道及轴向管道相互垂直，且径向管道位于轴向管道出口的正下方。
[0008]作为对上述一种等离子体发射光谱仪的进一步描述，所述的光谱分析室设有入射狭缝、棱镜和反射镜，所述入射狭缝位于光谱分析室与火焰隔离室的结合部，入射狭缝与所述的轴向管道位于同一水平面且与火焰隔离室相通。
[0009]本实用新型的有益效果是:由于将采样管和排液管同时环绕于固定转子及压块之间，当两者相压合时，采样管和排液管的液体将被挤压向两端，固定转子向一方向转动，采样管从而被挤压向上输送，而相反环绕方向的排液管即被挤压向下输送，从而达到使用一装置同时实现输入输出推送的目的，其相对于一般电机的气压推送方式更为节能。而火焰隔离室的耦合器可配合雾化器进行固定以及无缝注射，令两部分的结合使用更为紧密。同时，火焰隔离室的径向管道和轴向管道设置使电离时更为合理。
【附图说明】
[0010]图1为本新型带采样室和火焰隔离室的结构示意图；
[0011]图2为蠕动栗的结构示意图；
[0012]图3为雾化器位置的结构示意图；
[0013]图4为火焰隔离室的结构示意图；
[0014]图5为光谱分析室内的光线反射分析示意图。
【具体实施方式】
[0015]以下结合附图对本实用新型进行进一步说明:
[0016]以下实施例中所提到的方向用语，例如“上、下、左、右”仅是参考附图的方向，因此，使用的方向用语是用来说明并非用来限制本实用新型。
[0017]如图1-3所示，一种等离子体发射光谱仪，设有相互结合的采样室1、火焰隔离室2以及光谱分析室3，所述的采样室1包括雾化器11和蠕动栗12，所述的蠕动栗12由两相互分离的压块13和固定转子14组成，所述的压块13为一半圆形，压块13 —端固定于固定转子外侧，另一端沿固定点转动而与固定转子14相接触，一采样管9环绕于所述固定转子14及压块13之间，且采样管的出口与所述雾化器11的进样管口连接，所述的雾化器11还接有一排液管8，排液管8绕于所述固定转子14及压块13之间，且排液管8的出口与所述采样管9的出口在固定转子14及压块13之间环绕方向相反；雾化器11依次通过一氩气管道7及快速连接口 6与外部连接，所述的雾化器11中部设有一注射头，注射头接入火焰隔离室2内。在采样室中，将采样管绕于压块13和固定转子14两者之间后，通过固定转子14的转动，可对采样管进行挤压，采样管的采样液体即随压力而被挤压向两端，其中一端经过进样管口进入雾化器11 ;对于排液管8，由于其出口设置与采样管9相互相反，因而经过固定转子的同一方向挤压，废液将向相反的出口方向挤压，从而达到利用一挤压装置实现进料、出液同时进行，其注射及排出利用率更高，从而可在一定程度上降低了功耗。
[0018]作为对上述一种等离子体发射光谱仪的进一步描述，所述压块13外侧还设有固定条5，所述固定条5 —端由固定轴连接，另一端绕固定轴转动而与压块13相接触，以令压块不会受挤压的反作用力影响，固定的位置更稳定。
[0019]作为对上述一种等离子体发射光谱仪的进一步描述，所述火焰隔离室2包括燃烧耦合器21、阀盖22、护环23、径向管道24和轴向管道25，所述燃烧耦合器21位于火焰隔离室2与采样室1结合部，燃烧耦合器21包括锁夹26、固定卡簧27和接通火焰隔离室2与采样室1的注射通道28，采样室1的雾化器11固定于燃烧耦合器21上，且注射头插入注射通道28中，固定卡簧27夹持所述的雾化器11 ;所述护环23固定于径向管道24处，固定径向管道24位置，所述阀盖22固定于轴向管道25处，控制轴向管道25物料的通断，所述的径向管道24及轴向管道25相互垂直，且径向管道24位于轴向管道25出口的正下方，以令电离时维持的火焰恰好对准物料出口处。
[0020]作为对上述一种等离子体发射光谱仪的进一步描述，所述的光谱分析室3设有入射狭缝31、棱镜32和反射镜33，所述入射狭缝31位于光谱分析室3与火焰隔离室2的结合部，入射狭缝31与所述的轴向管道25位于同一水平面且与火焰隔离室2相通。
[0021]本新型将采样室1所挤压的采样液体输入到雾化器处，雾化器再通过输入氩气辅助进行混合，由注射头注射入燃烧耦合器21内，经由轴向管道25进行电离，由与其平行的入射狭缝31入射，并通过光谱分析室3内配置的棱镜32和反射镜33进行光谱分析。
[0022]以上所述并非对本新型的技术范围作任何限制，凡依据本实用新型技术实质对以上的实施例所作的任何修改、等同变化与修饰，均仍属于本新型的技术方案的范围内。
【主权项】
1.一种等离子体发射光谱仪，设有相互结合的采样室、火焰隔离室以及光谱分析室，其特征在于:所述的采样室包括雾化器和蠕动栗，所述的蠕动栗由两相互分离的压块和固定转子组成，所述的压块为一半圆形，压块一端固定于固定转子外侧，另一端沿固定点转动而与固定转子相接触，一采样管环绕于所述固定转子及压块之间，且采样管的出口与所述雾化器的进样管口连接，所述的雾化器还接有一排液管，排液管绕于所述固定转子及压块之间，且排液管的出口与所述采样管的出口在固定转子及压块之间环绕方向相反；雾化器依次通过一氩气管道及快速连接口与外部连接，所述的雾化器中部设有一注射头，注射头接入火焰隔呙室内。2.根据权利要求1所述的一种等离子体发射光谱仪，其特征在于:所述压块外侧还设有固定条，所述固定条一端由固定轴连接，另一端绕固定轴转动而与压块相接触。3.根据权利要求1所述的一种等离子体发射光谱仪，其特征在于:所述火焰隔离室包括燃烧耦合器、阀盖、护环、径向管道和轴向管道，所述燃烧耦合器位于火焰隔离室与采样室结合部，燃烧耦合器包括锁夹、固定卡簧和接通火焰隔离室与采样室的注射通道，采样室的雾化器固定于燃烧耦合器上，且注射头插入注射通道中，固定卡簧夹持所述的雾化器；所述护环固定于径向管道处，固定径向管道位置，所述阀盖固定于轴向管道处，控制轴向管道物料的通断，所述的径向管道及轴向管道相互垂直，且径向管道位于轴向管道出口的正下方。4.根据权利要求3所述的一种等离子体发射光谱仪，其特征在于:所述的光谱分析室设有入射狭缝、棱镜和反射镜，所述入射狭缝位于光谱分析室与火焰隔离室的结合部，入射狭缝与所述的轴向管道位于同一水平面且与火焰隔离室相通。
【专利摘要】本实用新型提供了一种等离子体发射光谱仪，设有相互结合的采样室、火焰隔离室以及光谱分析室，所述的采样室包括雾化器和蠕动泵，一采样管环绕于蠕动泵之间，且采样管的出口与所述雾化器的进样管口连接，所述的雾化器还接有一排液管，排液管绕于蠕动泵之间，且排液管的出口与所述采样管的出口在固定转子及压块之间环绕方向相反；所述的雾化器中部设有一注射头，注射头接入火焰隔离室内。本新型由于将采样管和排液管同时环绕于固定转子及压块之间，采样管从而被挤压向上输送，而排液管即被挤压向下输送，达到使用一装置同时实现输入输出推送的目的，其更为节能；而火焰隔离室的耦合器可配合雾化器进行固定、无缝注射，令两部分的结合使用更为紧密。
【IPC分类】G01N21/73
【公开号】CN205038163
【申请号】CN201520772643
【发明人】黄阳海
【申请人】东莞立创华科检测技术服务有限公司
【公开日】2016年2月17日
【申请日】2015年9月29日