一种扫描电镜的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及扫描电镜领域，尤其涉及一种具有离子溅射功能的扫描电镜。
【背景技术】
[0002]扫描电镜，也称为扫描电子显微镜，扫描电镜利用聚焦的电子束在测试样品的表面进行扫描，以获得测试样品表面的微观结构图像。
[0003]在使用扫描电镜进行测试时，往往需要在测试样品的表面镀上一层金属颗粒，使得测试样品表面上局部聚集的电子发散，否则过多的电子聚集在测试样品表面将影响扫描电镜中电子枪所发射的电子束，导致显示的图像扭曲。
[0004]现有技术中，为了能够消除测试样品表面局部聚集的电子的影响，在使用如图1所示的扫描电镜对测试样品进行扫描之前，通常会将固定在载台3上的测试样品(并未在图1中示出)连同载台3，一并放入一种称为离子溅射仪(并未在图1中示出)的设备内，并使用离子溅射仪在真空条件下将特定的金属离子镀到测试样品的表面，之后，将载台3和固定其上的镀有金属离子的测试样品，放入如图1所示的扫描电镜中进行扫描。
[0005]但是，采用现有技术的方式在针对测试样品进行测试的过程中，首先需要使用离子溅射仪在测试样品的表面镀上金属离子，而离子溅射仪的工作环境也为真空环境，那么，就需要在使用离子溅射仪时进行抽真空，这将消耗一定的时间，当离子溅射过程结束后，再将载台3连同镀有金属离子的测试样品放入扫描电镜中还需要抽真空，使得扫描电镜的工作环境也变为真空环境，该过程同样需要消耗一定的时间。显然，现有技术中使用扫描电镜获得测试样品表面微观结构的过程较为繁琐，导致测试效率较低。
【实用新型内容】
[0006]本实用新型实施例提供一种具有离子溅射功能的扫描电镜，用以解决现有技术中使用扫描电镜对测试样品进行测试的过程较为繁琐、测试效率低的问题。
[0007]本实用新型提供一种扫描电镜，包括:系统舱，与所述系统舱密封连接的气闸，所述气闸内设有用于承载测试样品的载台，所述气闸内设有溅射靶，所述溅射靶朝向所述载台，所述溅射靶与所述载台之间不贴合。
[0008]进一步地，在所述溅射靶朝向所述载台的一面，设有溅射材料涂层。
[0009]进一步地，所述溅射靶朝向所述载台一面的尺寸不小于所述载台的尺寸。
[0010]进一步地，所述载台设于所述气闸底部，所述溅射靶设于所述气闸顶部。
[0011]与现有技术相比，本实用新型实施例提供的扫描电镜，在其气闸内设有溅射靶，由于扫描电镜和离子溅射仪均工作在真空环境，那么，只需在扫描电镜的气闸内进行抽真空，从而达到溅射靶可工作的真空环境，完成离子溅射过程，并在此基础上，调整气闸的真空度，使得真空度达到扫描电镜的真空环境，可见，通过该溅射靶，可直接在气闸内完成离子溅射的过程，并且，可以在扫描电镜的气闸内完成抽真空操作，有效提升了测试的便捷性及效率。
【附图说明】
[0012]此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本实用新型的一部分，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:
[0013]图1为现有技术中的扫描电镜的结构示意图；
[0014]图2为本实用新型实施例提供的一种扫描电镜的结构示意图。
【具体实施方式】
[0015]为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型具体实施例及相应的附图对本实用新型技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0016]如图2所示，本实用新型实施例提供了一种扫描电镜Dl，在图2中显示了扫描电镜Dl内与本实用新型相关的主要部件。具体的，扫描电镜Dl包括系统舱10、与所述系统舱10密封连接的气闸20，在图2中，气闸20中设有用于承载测试样品的载台202，在气闸20中还设有溅射靶204，溅射靶204朝向载台202，且溅射靶204与载台202之间相互间隔不贴合，二者之间具有一定的距离。
[0017]在图2中所示的系统舱10中包含电子枪101、载台基座102等部件，由于是现有技术，故在本实用新型中不再过多赘述。
[0018]进一步地，溅射靶204朝向载台202的一面，设置有溅射材料涂层205，包括但不限于:金、铀金、铜等导电金属材料涂层。
[0019]基于此，由于溅射靶204与载台202之间不贴合，那么，当气闸20处于真空、高电压的工作环境下时，气闸20中残留的气体分子被电离，形成等离子体，溅射材料涂层205中的金属离子受到等离子体的影响，在电场作用下溅射至载台202上的测试样品表面，从而使测试样品表面附着金属离子，也即，在测试样品表面形成导电薄层，完成离子溅射过程。当然，在实际使用时，溅射靶204与载台202之间的距离，将影响导电薄层的密度，所以，溅射靶204与载台202之间的距离可以根据实际使用的需要进行设置，这里并不构成对本实用新型的限定。
[0020]显然，基于如图2所示的气闸20结构，使得可以直接在扫描电镜Dl的气闸20内完成针对测试样品的离子溅射过程，而无需单独使用额外的离子溅射仪，这将有效提升了对测试样品进行测试的便捷性。
[0021]作为本实用新型中的一种可选方式，为了便于在气闸20内进行离子溅射过程，具体地，在图2中可见，载台202设于气闸20的底部，溅射靶204设于气闸20的顶部。
[0022]为了在离子溅射过程中，溅射材料涂层205上的金属离子能够充分溅射至测试样品(测试样品并未在图2中示出)上，作为本实用新型中的一种可选方式，溅射靶204的面积不小于载台202的面积。
[0023]基于本实用新型中的扫描电镜Dl，在实际应用时，可通过以下步骤实现对测试样品的测试过程:
[0024]第一步:将测试样品放置于气闸20内，并密闭气闸20，进行抽真空，使得气闸20中的真空度适于进行离子溅射，并在此时针对气闸20施加高电压，以达到离子溅射所需的电压值，完成对测试样品的离子溅射过程。当然，抽真空和加高电压的过程中，均使用扫描电镜Dl自身适配的装置，也即，在抽真空的过程中，可以使用扫描电镜Dl自身携带的抽真空设备对气闸20进行抽真空操作，之后，可以使用加电压设备对抽真空后的气闸20中施加高电压。显然，这也将提升操作的便捷性。
[0025]第二步:离子溅射过程完毕后，可以调节气闸20内的真空度，使得真空度达到扫描电镜Dl扫描时所需的真空度，并将位于气闸20内的载台基座201上的载台202，通过推送杆203，从舱门103推送进系统舱10中进行扫描。
[0026]综上所述，本实用新型实施例提供的扫描电镜的气闸内设有溅射靶，由于扫描电镜和离子溅射仪均工作在真空环境，那么，只需在扫描电镜的气闸内进行抽真空，从而达到溅射靶可工作的真空环境，完成离子溅射过程，并在此基础上，调整气闸的真空度，使得真空度达到扫描电镜的真空环境，可见，通过该溅射靶，可直接在气闸内完成离子溅射的过程，并且，可以在扫描电镜的气闸内完成抽真空操作，显然，与现有技术不同的是，采用本实用新型中的扫描电镜对测试样品进行扫描时，无需额外的离子溅射仪进行离子溅射，有效地增加了扫描过程的便捷性，也提升了扫描过程的效率。
[0027]以上所述仅为本实用新型的实施例而已，并不用于限制本实用新型。对于本领域技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原理之内所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的权利要求范围之内。
【主权项】
1.一种扫描电镜，包括:系统舱，与所述系统舱密封连接的气闸，所述气闸内设有用于承载测试样品的载台，其特征在于，所述气闸内设有溅射靶，所述溅射靶朝向所述载台，所述溅射靶与所述载台之间不贴合。2.如权利要求1所述的扫描电镜，其特征在于，在所述溅射靶朝向所述载台的一面，设有溅射材料涂层。3.如权利要求1或2所述的扫描电镜，其特征在于，所述溅射靶朝向所述载台一面的面积不小于所述载台的面积。4.如权利要求3所述的扫描电镜，其特征在于，所述载台设于所述气闸底部，所述溅射靶设于所述气闸顶部。
【专利摘要】本实用新型公开了一种扫描电镜，包括：系统舱，与所述系统舱密封连接的气闸，所述气闸内设有用于承载测试样品的载台，所述气闸内设有溅射靶，所述溅射靶朝向所述载台，所述溅射靶与所述载台之间不贴合。正是由于本实用新型中的扫描电镜在其气闸内设有溅射靶，由于扫描电镜和离子溅射仪均工作在真空环境，那么，只需在扫描电镜的气闸内进行抽真空，从而达到溅射靶可工作的真空环境，完成离子溅射过程，并在此基础上，调整气闸的真空度，使得真空度达到扫描电镜的真空环境，可见，通过该溅射靶，可直接在气闸内完成离子溅射的过程，并且，可以在扫描电镜的气闸内完成抽真空操作，有效提升了测试的便捷性及效率。
【IPC分类】G01N23/225
【公开号】CN205209995
【申请号】CN201520988177
【发明人】崔耀晨, 张玉祥
【申请人】昆山国显光电有限公司
【公开日】2016年5月4日
【申请日】2015年12月2日