一种陶瓷吸水率水位控制装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种陶瓷吸水率控制装置，尤其是涉及一种可控制真空度和水位的陶瓷吸水率水位控制装置。包括真空容器和与真空容器配合使用的真空容器盖，所述的真空容器外壁上部设置有至少一个的进水孔和至少一个的抽真空孔，所述的真空容器内部设置有进水水位探头和测真空装置，所述真空容器底部设置有排水阀。该装置可保证真空度和水位，从而控制陶瓷制品的吸吮率达到标准。不会因外界因素影响真空度。进水的水位可以确保一致，不会因进水的流量影响水位。整体流程全自动，不需要人监看。
【专利说明】
一种陶瓷吸水率水位控制装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种陶瓷吸水率控制装置，尤其是涉及一种可控制真空度和水位的陶瓷吸水率水位控制装置。
【【背景技术】】
[0002]陶瓷吸水率检测仪是采用真空法对日用陶瓷、建筑卫生陶瓷、电瓷、砖瓦、水泥制品的吸水率进行测定的仪器。传统的陶瓷吸水率控制装置采用时间继电器来控制真空度以及进水的水位，但是传统的陶瓷吸水率控制装置在抽真空速度减弱或者进水的流量减弱时，会使真空度不足或者达不到水位标准，从而使陶瓷的吸水率达不到应有的效果标准。因此有必要提供一种可自动控制真空度和水位的陶瓷吸水率水位控制装置。
【
【发明内容】
】
[0003]本实用新型旨在解决上述问题而提供一种可控制真空度和水位的陶瓷吸水率水位控制装置。
[0004]为实现上述目的，本实用新型的一种陶瓷吸水率水位控制装置，包括真空容器10和与真空容器10配合使用的真空容器盖20，所述的真空容器10外壁上部设置有至少一个的进水孔40和至少一个的抽真空孔51，所述的真空容器10内部设置有进水水位探头30和测真空装置80，所述真空容器10底部设置有排水阀70。
[0005]进一步的，所述的抽真空孔51为两个，均与真空栗50连接。
[0006]进一步的，所述的真空栗50与测真空装置80连接，所述的测真空装置80连接有第一时间继电器。
[0007]进一步的，所述的进水水位探头30可在真空容器10内部上下移动。
[0008]进一步的，所述的真空容器10底部还设置有排水水位探头60，所述的排水水位探头60与排水阀70连接。
[0009]进一步的，所述的进水水位探头30连接有第二时间继电器，第二时间继电器连接排水阀70。
[0010]进一步的，所述的真空容器10和真空容器盖20之间设置有密封圈21。
[0011]本实用新型的贡献在于提供了一种可保证陶瓷吸水率的控制装置，该装置可保证真空度和水位，从而控制陶瓷制品的吸吮率达到标准。不会因外界因素影响真空度。进水的水位可以确保一致，不会因进水的流量影响水位。整体流程全自动，不需要人监看。
【【附图说明】】
[0012]图1为本实用新型结构不意图。
【【具体实施方式】】
[0013]下列实施例是对本实用新型的进一步解释和补充，对本实用新型不构成任何限制。
[0014]实施例1
[0015]如图1所示，本实施例的一种陶瓷吸水率水位控制装置包括真空容器10和与真空容器10配合使用的真空容器盖20，所述的真空容器10外壁上部设置有一个的进水孔40和一个的抽真空孔51，所述的真空容器10内部设置有进水水位探头30和测真空装置80，所述真空容器10底部设置有排水阀70。需要对陶瓷进行吸水率控制时，将陶瓷放入到真空容器10内，将真空容器盖20盖住，然后通过抽真空孔51对真空容器10进行抽真空，当真空达到需要的标准时进行保持，保持设定的时间段后，从进水孔40往真空容器10内注水，当水量到达进水水位探头30时停止再注水，保持真空容器10中的水量对陶瓷进行浸泡，浸泡时间完毕后，从抽真空孔51排气，从排水阀70排水。上述操作中，真空度标准值、真空度的保持时间、浸泡时间均是可以根据需要进行设定的，可适合多种需求的用户，该种设计可避免传统吸水率水位控制装置抽真空速度减弱或者进水的流量减弱，使真空度不足或者达不到满意水位的问题。
[0016]实施例2
[0017]如图1所示，所述的抽真空孔51为两个，均与真空栗50连接，真空栗50对真空容器10进行抽真空。
[0018]实施例3
[0019]如图1所示，本实施例在实施例2的基础上增加了一个第一时间继电器，所述的真空栗50与测真空装置80连接，所述的测真空装置80连接有第一时间继电器。当测真空装置80检测到真空容器10内的真空度达到标准，这时第一时间继电器启动，控制真空栗50不再进行抽真空，保持真空度标准值一定的时间。
[0020]实施例4
[0021]如图1所示，本实施例中，所述的进水水位探头30可在真空容器10内部上下移动。由于针对不同的陶瓷产品，需要的水位是不相同的，因此，进水水位探头30可上下移动方便的实现了对不同水位的检测，用户体验度高。
[0022]实施例5
[0023]如图1所示，本实施例中，所述的真空容器10底部还设置有排水水位探头60，所述的排水水位探头60与排水阀70连接。真空容器10排水时，当水位达到排水水位探头60，排水水位探头60则控制排水阀70不再进行排水。
[0024]实施例6
[0025]如图1所示，所述的进水水位探头30连接有第二时间继电器，第二时间继电器连接排水阀70。第二时间继电器是控制陶瓷浸泡时间的，当浸泡时间到达了设定的标准值，第二时间继电器则控制排水阀70进行排水。
[0026]实施例7
[0027]如图1所示，所述的真空容器10和真空容器盖20之间设置有密封圈21。保证真空容器10与真空容器盖20之间密封。
[0028]尽管通过以上实施例对本实用新型进行了揭示，但本实用新型的保护范围并不局限于此，在不偏离本实用新型构思的条件下，对以上各构件所做的变形、替换等均将落入本实用新型的权利要求范围内。
【主权项】
1.一种陶瓷吸水率水位控制装置，包括真空容器(10)和与真空容器(10)配合使用的真空容器盖(20)，其特征在于:所述的真空容器(10)外壁上部设置有至少一个的进水孔(40)和至少一个的抽真空孔(51)，所述的真空容器(10)内部设置有进水水位探头(30)和测真空装置(80)，所述真空容器(10)底部设置有排水阀(70)。2.如权利要求1所述的一种陶瓷吸水率水位控制装置，其特征在于:所述的抽真空孔(51)为两个，均与真空栗(50)连接。3.如权利要求2所述的一种陶瓷吸水率水位控制装置，其特征在于:所述的真空栗(50)与测真空装置(80)连接，所述的测真空装置(80)连接有第一时间继电器。4.如权利要求1所述的一种陶瓷吸水率水位控制装置，其特征在于:所述的进水水位探头(30)可在真空容器(10)内部上下移动。5.如权利要求4所述的一种陶瓷吸水率水位控制装置，其特征在于:所述的真空容器(1)底部还设置有排水水位探头(60)，所述的排水水位探头(60)与排水阀(70)连接。6.如权利要求5所述的一种陶瓷吸水率水位控制装置，其特征在于:所述的进水水位探头(30)连接有第二时间继电器，第二时间继电器连接排水阀(70)。7.如权利要求1所述的一种陶瓷吸水率水位控制装置，其特征在于:所述的真空容器(10)和真空容器盖(20)之间设置有密封圈(21)。
【文档编号】G01N33/38GK205484341SQ201620152030
【公开日】2016年8月17日
【申请日】2016年2月29日
【发明人】关志欣
【申请人】佛山市华洋仪器有限公司