专利名称：解析版图设计的方法
技术领域：
本发明涉及半导体制造领域，特别涉及解析版图设计的方法。
背景技术：
目前，集成电路生产厂一般都是根据设计公司提供的版图设计文件来制造相应的集成电路产品。这些版图设计文件通常被设计公司以一种特定的文件格式，例如GDS，提供给这些集成电路生产厂。集成电路生产厂在对于所获得的版图设计文件进行相关的正确性检查之后，就会从版图设计文件中提取相关的版图设计，来制造相应的光罩图形。例如，集成电路生产厂会应用相应的解析工具从版图设计文件中解析出各个器件的刻线(reticle)图形，以此来制造相应的光罩。 图1所示为目前解析版图设计文件来制造光罩的一种方法示意图。参照图1所示，当获得版图设计文件后，首先执行步骤s10，进行图形计算，也就是将版图设计文件中包含的版图设计的信息进行还原，以获得相应的刻线图形；然后执行步骤s20，将所述刻线图形转变成可以为制造光罩图形的机器识别的文件格式；接着执行步骤s30，基于获得的刻线图形，制造光罩。 图2所示为应用解析工具进行上述图形计算的一种示意图。参照图2所示，当解析工具获得版图设计文件后，从起始点(start)开始沿顺时针方向的路径进行图形计算，并且终止于结束点(end)。由于图形计算的起始点和结束点为同一点，因而在图形计算过程中经过的路径构成了一个封闭的矩形区间。则解析工具就会根据该图形计算的结果而生成矩形的刻线图形IO。 在图形计算的过程中，上述解析工具通常可以根据以下两种参数进行计算来生成刻线图形WINDPATH以及WINDING,其中WINDPATH是指生成刻线图形时经过的路径，WINDING是指生成刻线图形时所形成的封闭区间。 对于例如路径计算，可以包括两种计算方式第一种计算方式，在图形计算的过程中将版图设计文件中包含的每一条可能的路径都予以考虑，其中一些路径可能形成重叠的图形；第二种计算方式，在图形计算的过程中将版图设计文件中一些可能导致形成重叠图形的路径进行优化。 而对于例如封闭区间计算，也可以包括两种计算方法第一种计算方式，在图形计算的过程中，在路径形成的图形的中心点设置分界线，将经过分界线的向上路径的值设置为"+l"，将经过分界线的向下路径的值设置为"-l"，计算所有经过分界线的路径的值的和，若计算得到的和为0，以所计算的路径形成的封闭区间为刻线图形，若计算得到的和为非O，以所计算的路径形成的封闭区间为空洞；第二种计算方式，在图形计算的过程中，在路径形成的图形的中心点设置分界线，将经过分界线的向上路径的值设置为"+ l"，将经过分界线的向下路径的值设置为"-l"，计算所有经过分界线的路径的值的和，若计算结果为奇数，以所计算的路径形成的封闭区间为刻线图形，若计算结果为偶数，以所计算的路径形成的封闭区间为空洞(hole)。
而在图形计算的过程中，解析工具也会发现一些不正确的版图设计。参照图3所示，当解析工具获得版图设计文件后，从起始点(start)开始沿顺时针方向的路径进行图形计算，并且终止于结束点(end)。由于起始点和结束点并不是同一点，因而在图形计算过程中经过的路径无法构成一个封闭的区间。则解析工具也无法根据该图形计算的结果而生成刻线图形，此时解析工具会报错而给出该版图设计出错的信息。 图3所示的版图设计错误只是一个较易为解析工具发现的错误。另外还有一些版图设计的错误是解析工具无法判别的。 例如参照图4a所示，当解析工具获得版图设计文件后，从起始点(start)开始沿顺时针方向的路径进行图形计算，并且终止于结束点(end)。由于起始点和结束点是同一点，因而在图形计算过程中经过的路径可以构成一个封闭的区间。然而，在图形计算过程中经过的路径，实际上可以形成两个封闭区间，封闭区间11以及封闭区间11中的封闭区间12。因此，解析工具根据该图形计算的结果将可能生成两种不同的刻线图形，即按上述的路径或封闭区间的两种计算方式将得到不同的刻线图形。 以路径计算为例，参照图4b所示，解析工具可以选择包含重叠的情况，而生成刻线图形13 ;而参照图4c所示，解析工具也可以选择优化重叠的情况，而生成刻线图形14。
以封闭区间计算为例，参照图4c所示，解析工具可以选择计算0或非O，而生成刻线图形14 ;而参照图4b所示，解析工具也可以选择计算奇、偶值，而生成刻线图形13。
对于解析工具来说，其并不能得知哪种刻线图形是符合原始的版图设计的。因此，解析工具可能生成与原始版图设计不符的刻线图形。从而，使得后续根据该刻线图形制造的光罩也是错误的，最终导致生产出的集成电路产品与版图设计完全不符。
发明内容
本发明要解决的是，现有技术解析版图设计可能形成错误刻线图形的问题。
为解决上述问题，本发明提供一种解析版图设计的方法，包括 获得版图设计文件后，进行图形预检来检测版图设计文件是否存在使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计； 若不存在使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计，则进行图形计算获得刻线图形； 将所述刻线图形转变成可以为制造光罩的机器识别的文件格式。 与现有技术相比，上述所公开的具有以下优点通过图形预检，以能够唯一获得刻
线图形的版图设计生成刻线图形，从而避免生成的刻线图形不符合原始版图设计。
图1是现有技术解析版图设计文件来制造光罩的一种方法示意图； 图2是现有技术应用解析工具进行图形计算的一种示意图； 图3是版图设计错误的一种示意图； 图4a是现有技术应用解析工具进行图形计算的另一种示意图； 图4b是图4a解析后获得的一种刻线图形示意图； 图4c是图4a解析后获得的另一种刻线图形示意 图5是本发明解析版图设计文件的方法的一种实施方式 图6是图5所示方法中图形预检的一种实施例图。
具体实施例方式
参照图5所示，本发明解析版图设计文件的方法的一种实施方式，可以包括
步骤slOO，获得版图设计文件后，进行图形预检； 步骤sllO，根据图形预检结果，检测版图设计文件中是否存在使得解析工具生成
多种刻线图形的版图设计，若存在，执行步骤sl20，若不存在，执行步骤s130 ; 步骤si20，生成提醒信息； 步骤sl30，进行图形计算获得刻线图形； 步骤sl40，将所述刻线图形转变成可以为制造光罩的机器识别的文件格式。
上述实施方式中，通过图形预检，来检测版图设计文件中是否存在使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计。若存在所述使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计，就将所述版图设计生成提醒信息，以反馈给版图设计文件的提供者或线上人员进行检查，确认该使用哪种刻线图形。而若不存在所述使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计，则可通过图形计算获得相应的刻线图形，并经过格式转变成为可为制造光罩的机器识别的文件格式。 从而，保证了经过上述版图设计文件解析后获得的刻线图形，是符合原始版图设计的。 参照图6所示，在一个实施例中，所述图形预检包括如下步骤 步骤slOl，以路径的第一种计算方式进行图形计算获得第一刻线图形； 步骤s102，以路径的第二种计算方式进行图形计算获得第二刻线图形； 步骤sl03，比较第一刻线图形和第二刻线图形，若第一刻线图形和第二刻线图形
相同，则执行步骤sll04，若第一刻线图形和第二刻线图形不相同，则执行步骤sl05; 步骤sl04，确定所述版图设计文件中不存在使得解析工具生成多种刻线图形的版
图设计； 步骤sl05，确定所述版图设计文件中存在使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计。 可选的，在步骤s105中，除了确定所述版图设计文件中存在使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计之外，还可输出比较结果，并给出第一刻线图形和第二刻线图形的差异部分。 下面以应用解析工具"CKwin"程序进行图形预检为例，对上述图形预检的过程进行进一步说明。 仍以图4a所示的版图设计为例，"CKwin"程序首先执行步骤s101，以路径的第一种计算方式进行图形计算获得第一刻线图形。在该种计算方式中，"CKwin"程序将图4a所示的版图设计中包含的每一条可能的路径都予以考虑，其中包括了路径形成的封闭区间11和封闭区间12，因而相应生成图4b所示的第一刻线图形13，并将第一刻线图形13以文件"ye. cflt"存储。 接着，"CKwin"程序执行步骤s102，以路径的第二种计算方式进行图形计算获得第二刻线图形。在该种计算方式中，"CKwin"程序将图4a所示的版图设计中一些可能导致出现重叠图形的路径进行优化，即仅考虑路径形成的封闭区间ll，而不考虑封闭区间12，因而相应生成图4c所示的第二刻线图形14，并将第二刻线图形14以文件"no. cflt"存储。
接下来，"CKwin"程序执行步骤s103，比较第一刻线图形和第二刻线图形。此处，"CKwin"程序其实是对所述的文件"ye. cflt"和文件"no. cflt"所包含的各图层的图形信息进行异或计算。若第一刻线图形和第二刻线图形完全相同，则异或计算的结果将全部为"O";而若第一刻线图形和第二刻线图形存在差异，则该差异部分的异或计算的结果将为"1 "。 根据上述描述，此处第一刻线图形13和第二刻线图形14显然不同，则"CKwin"程序执行步骤sl05，确定所述版图设计文件中存在使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计。并且可选地执行步骤sl05，输出比较过程文件(log file)以表示比较结果；或输出描述第一刻线图形13和第二刻线图形14的差异部分的异或结果文件(xor. cflt)以表示比较结果；或同时输出比较过程文件和异或结果文件来表示比较结果。 其中，所述比较过程文件(log file)包含了对第一刻线图形13和第二刻线图形14进行比较的过程中，各图层的比较结果。假定第一刻线图形13和第二刻线图形14包含图层1、2、3、4、6，而封闭区间12对应的图层为图层6，则所述比较过程文件(log file)的内容如下 Layer 1 ;0 is 0. K. ! !
Layer 2 ;0 is 0. K. ! !
Layer 3 ;0 is 0. K. !!
Layer 4 ;0 is 0. K. ! ! Layer 6 ;0 have non_zero result, please check ! ! ! 从所述比较过程文件(log file)中就可看出，第一刻线图形13和第二刻线图形14在图层6上是不相同的，也即第一刻线图形13和第二刻线图形14的差异在于，封闭区间12构成的图形。 而相应地，异或结果文件(xor. cflt)则包含了封闭区间12构成的图形的信息。
因此，"CKwin"程序将以比较过程文件(log file)和/或异或结果文件(xor.cflt)，来提示所述版图设计文件中存在使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计。此处该使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计就是图4a所示的版图设计。
当在图形预检的过程中检测到存在使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计时，继续参照图5所示，执行步骤sl20，生成提醒信息。此处即是以所述比较过程文件(logfile)和/或异或结果文件(xor. cflt)生成提醒信息，以反馈给版图设计文件的提供者或线上人员进行检查，确认该使用哪种刻线图形。 从上述说明中可以看到，在图形预检中也可以采用封闭区间的计算方式。
前述已通过框图、流程图和/或实施例进行了详细描述，阐明了本发明方法的不同实施方式。当这些框图、流程图和/或实施例包含一个或多个功能和/或操作时，本领域的技术人员会明白，这些框图、流程图和/或实施例中的各功能和/或操作可以通过各种硬件、软件、固件或实质上它们的任意结合而单独地和/或共同地实施。在一个实施方式中，本说明书中描述的主题的几个部分可通过专用集成电路(ASIC)、现场可编程门阵列(FPGA)、数字信号处理器(DSP)或其他集成形式实现。 另外，本领域的技术人员会认识到，无论用来实际进行分发的负载信号的媒介的类型是什么，本说明书中描述的主题的机理能够以各种形式的程序产品的形式分发，并且，本说明书中描述的主题的示例性实施方式均适用。例如，负载信号的媒介包括但不限于下列可记录型媒介，如软盘、硬盘、光盘(CD)、数字视频光盘(DVD)、数字磁带、计算机存储器等；传输型媒介，如数字和/或模拟通讯媒介(例如光缆、波导、有线通讯链路、无线通讯链路等)。 虽然本发明已以较佳实施例披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。
权利要求
一种解析版图设计的方法，其特征在于，包括获得版图设计文件后，进行图形预检来检测版图设计文件是否存在使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计；若不存在使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计，则进行图形计算获得刻线图形；将所述刻线图形转变成可以为制造光罩的机器识别的文件格式。
2. 如权利要求1所述的解析版图设计的方法，其特征在于，还包括若存在使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计，则生成提醒信息。
3. 如权利要求1所述的解析版图设计的方法，其特征在于，所述图形预检包括以路径的第一种计算方式进行图形计算获得第一刻线图形；以路径的第二种计算方式进行图形计算获得第二刻线图形；比较第一刻线图形和第二刻线图形；若第一刻线图形和第二刻线图形相同，则所述版图设计文件中不存在使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计；若第一刻线图形和第二刻线图形不相同，则所述版图设计文件中存在使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计。
4. 如权利要求3所述的解析版图设计的方法，其特征在于，还包括给出第一刻线图形和第二刻线图形的差异部分。
5. 如权利要求3所述的解析版图设计的方法，其特征在于，所述比较第一刻线图形和第二刻线图形包括对第一刻线图形和第二刻线图形进行异或计算。
6. 如权利要求1所述的解析版图设计的方法，其特征在于，以封闭区间的第一种计算方式进行图形计算获得第一刻线图形；以封闭区间的第二种计算方式进行图形计算获得第二刻线图形；比较第一刻线图形和第二刻线图形；若第一刻线图形和第二刻线图形相同，则所述版图设计文件中不存在使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计；若第一刻线图形和第二刻线图形不相同，则所述版图设计文件中存在使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计。
7. 如权利要求6所述的解析版图设计的方法，其特征在于，还包括给出第一刻线图形和第二刻线图形的差异部分。
8. 如权利要求6所述的解析版图设计的方法，其特征在于，所述比较第一刻线图形和第二刻线图形包括对第一刻线图形和第二刻线图形进行异或计算。
全文摘要
一种解析版图设计的方法，包括获得版图设计文件后，进行图形预检来检测版图设计文件是否存在使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计；若不存在使得解析工具生成多种刻线图形的版图设计，则进行图形计算获得刻线图形；将所述刻线图形转变成可以为制造光罩的机器识别的文件格式。所述解析版图设计的方法能够避免生成的刻线图形不符合原始版图设计。
文档编号G06F17/50GK101770529SQ200810205389
公开日2010年7月7日 申请日期2008年12月31日 优先权日2008年12月31日
发明者游桂美 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司