一种改进的ogs超薄触摸屏制作方法
【专利摘要】本发明公开一种改进的OGS超薄触摸屏制作方法，其包括如下步骤：A、对已经镀好氧化铟锡薄膜与盖板颜色的盖板玻璃进行切割、精雕、钢化，得到所需要的盖板玻璃白片。B、在盖板玻璃白片上丝印耐酸图形，然后进行蚀刻，得到氧化铟锡薄膜图形与可视区的图形。C、在非可视区丝印导电银浆，与氧化铟锡导电膜线路搭接，得到OGS超薄触摸屏。本发明降低了制作OGS触摸屏前期设备的投入，提高了生产效率，并降低了触摸屏的成本，同时还保留了OGS触摸屏轻薄的特点。
【专利说明】一种改进的OGS超薄触摸屏制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及OGS触摸屏制作【技术领域】，尤其涉及一种改进的OGS超薄触摸屏制作方法。
【背景技术】
[0002]由于现在主流的手机都在走轻薄化路线，所以触摸屏产品也在向轻薄化方向发展，以适应市场的需求，这样就产生了 OGS触摸屏。传统的OGS触摸屏都是采用磁控溅射的方式在盖板玻璃上镀上氧化铟锡薄膜，再镀上一层钥铝钥金属走线层，而且盖板玻璃的颜色也要采用磁控溅射的方式溅镀上去，然后再进行黄光蚀刻出所需要的图形。但是，黄光蚀刻是需要用大片玻璃进行曝光、显影、蚀刻，切割成小片后的玻璃还要进行二次强化，再加上前期是使用磁控溅射溅镀钥铝钥金属走线层，这样就导致设备投入高、开模的费用高，成本居高不下，在市场上很难进行大面积推广。其中，OGS (One Glass Solution)即一体化触控，一块玻璃同时起到保护玻璃和触摸传感器的双重作用。
【发明内容】
[0003]本发明的目的在于通过一种改进的OGS超薄触摸屏制作方法，来解决以上【背景技术】部分提到的问题。
[0004]为达此目的，本发明采用以下技术方案:
[0005]一种改进的OGS超薄触摸屏制作方法，其包括如下步骤:
[0006]A、对已经镀好氧化铟锡薄膜与盖板颜色的盖板玻璃进行切割、精雕、钢化，得到所需要的盖板玻璃白片；
[0007]B、在盖板玻璃白片上丝印耐酸图形，然后进行蚀刻，得到氧化铟锡薄膜图形与可视区的图形；
[0008]C、在非可视区丝印导电银浆，与氧化铟锡导电膜线路搭接，得到OGS超薄触摸屏。
[0009]特别地，所述步骤B具体包括:在盖板玻璃白片上丝印耐酸图形，然后进行湿法蚀亥IJ，得到氧化铟锡薄膜图形与可视区的图形。
[0010]本发明提供的改进的OGS超薄触摸屏制作方法用丝网印刷导电银浆线路的方式替代了磁控溅射溅镀钥铝钥金属线路，降低了设备的投入，提高了生产效率，并降低了触摸屏的成本，同时还保留了 OGS触摸屏轻薄的特点。
【专利附图】
【附图说明】
[0011]图1为本发明实施例提供的改进的OGS超薄触摸屏制作方法流程图。
【具体实施方式】
[0012]下面结合附图和实施例对本发明作进一步说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部内容。
[0013]请参照图1所示，图1为本发明实施例提供的改进的OGS超薄触摸屏制作方法流程图。
[0014]本实施例中改进的OGS超薄触摸屏制作方法具体包括如下步骤:
[0015]步骤S101、对已经镀好氧化铟锡薄膜与盖板颜色的盖板玻璃进行切割、精雕、钢化，得到所需要的盖板玻璃白片。
[0016]步骤S102、在盖板玻璃白片上丝印耐酸图形，然后进行蚀刻，得到氧化铟锡薄膜图形与可视区的图形。于本实施例，所述蚀刻方法采用湿法蚀刻工艺。
[0017]步骤S103、在非可视区丝印导电银浆，与氧化铟锡导电膜线路搭接，得到OGS超薄触摸屏。
[0018]与传统OGS触摸屏制作方法相比，本发明用丝网印刷导电银浆线路的方式替代了磁控溅射溅镀钥铝钥金属线路，降低了设备的投入，提高了生产效率，并降低了触摸屏的成本，同时还保留了 OGS触摸屏轻薄的特点。
[0019]注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
【权利要求】
1.一种改进的OGS超薄触摸屏制作方法，其特征在于，包括如下步骤: A、对已经镀好氧化铟锡薄膜与盖板颜色的盖板玻璃进行切割、精雕、钢化，得到所需要的盖板玻璃白片； B、在盖板玻璃白片上丝印耐酸图形，然后进行蚀刻，得到氧化铟锡薄膜图形与可视区的图形； C、在非可视区丝印导电银浆，与氧化铟锡导电膜线路搭接，得到OGS超薄触摸屏。
2.根据权利要求1所述的改进的OGS超薄触摸屏制作方法，其特征在于，所述步骤B具体包括:在盖板玻璃白片上丝印耐酸图形，然后进行湿法蚀刻，得到氧化铟锡薄膜图形与可视区的图形。
【文档编号】G06F3/041GK103472954SQ201310444468
【公开日】2013年12月25日 申请日期:2013年9月26日 优先权日:2013年9月26日
【发明者】吴国峰 申请人:无锡宇宁光电科技有限公司