一种超薄gg触摸屏以及该超薄gg触摸屏的制造工艺的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种超薄GG触摸屏以及该超薄GG触摸屏的制造工艺。
【背景技术】
[0002]超薄GG产品是一种可接收触头等输入讯号的电容式触摸屏装置。近年来各类电子产品中触摸屏的需求不断增大、其要求亦趋向轻、薄化，传统产品的厚度大、重量高；而薄膜电容屏虽然减轻产品重量和降低了产品厚度，但其又无法达到高透过率，触控性能差等缺陷问题日益显现突出，无法满足消费者需求等缺陷问题日益显现突出。
【发明内容】
[0003]本发明为了解决上述问题而提供的一种超薄GG触摸屏，所述超薄GG触摸屏依次包括:超薄强化玻璃，打底油墨，氧化物膜层，电极导电层，防短路绝缘层，连接导电层，防刮绝缘层，其中，所述超薄强化玻璃的厚度小于或等于0.15_。
[0004]具体地，所述电极导电层作为所述超薄GG触摸屏第一层X/Y电极的导电层。
[0005]具体地，所述超薄GG触摸屏与触控IC芯片连接，所述连接导电层作为超薄GG触摸屏X/Y电极与触控IC连接的导电层。
[0006]6、本发明还提供一种所述超薄GG触摸屏的制造工艺，所述制造工艺包括以下步骤:
[0007]步骤A、通过真空溅射镀膜，在超薄强化玻璃GLASS原片表面镀氧化物膜层頂；
[0008]步骤B、通过紫外线曝光、显影，在超薄强化玻璃GLASS背面的非视窗区制作打底油墨BM ；
[0009]步骤C、通过真空溅射镀膜，在超薄强化玻璃GLASS原片表面镀电极导电层ITOl ;
[0010]步骤D、通过紫外线曝光、显影，制作第一导电层ITOl的图案；
[0011]步骤E、通过紫外线曝光、显影，制作防短路绝缘层OCl ;
[0012]步骤F、通过真空溅射镀膜，在超薄强化玻璃GLASS原片表面上镀连接导电层MT ;
[0013]步骤G、通过紫外线曝光、显影，将连接导电层MT制作成金属导线；
[0014]步骤H、通过紫外线曝光、显影，制作防刮绝缘层0C2，基本形成超薄GG触摸屏。
[0015]优选地，在所述步骤H之后还包括以下步骤:
[0016]步骤1、丝印保护胶；
[0017]步骤J、切割；
[0018]步骤L、柔性电路板FPC绑定；
[0019]步骤M、贴保护膜。
[0020]本发明的有益效果在于:对于上述结构的超薄GG触摸屏，由于直接采用小于或等于0.15_的超薄强化玻璃作为基材，相比传统减薄工艺，减少了化学减薄、大片组合、大片分离等3个难度最大、损失成品率最高的工序，实现了触摸屏的轻、薄化，也提高了生产效率。
【附图说明】
[0021]图1为本发明超薄GG触摸屏的结构示意图；
[0022]图2为本发明超薄GG触摸屏制造工艺的流程图；
[0023]图3为本发明打底油墨BM的紫外线曝光、显影过程示意图。
【具体实施方式】
[0024]下面结合附图对本发明作进一步阐述:
[0025]如图1所示，超薄GG触摸屏依次包括:超薄强化玻璃GLASS，打底油墨BM，氧化物膜层頂，电极导电层IT01，防短路绝缘层OCl (绝缘桥)，连接导电层MT，防刮绝缘层0C2。该超薄GG触摸屏具有视窗区和非视窗区。且超薄GG触摸屏与触控IC芯片连接。
[0026]超薄强化玻璃GLASS作为超薄GG触摸屏的基底，其厚度h小于或等于0.15_。打底油墨BM(Black Matrix)为黑色油墨，设置在超薄强化玻璃GLASS背面的非视窗区，具有高遮盖性，平整性，绝缘性等特性。其主要起的作用有两点:一是遮光性，防止从触摸屏的正面看到金属等反光性强的X/Y电极引线；二是触摸屏产品的外观形状定型性，即第一层BM打底油墨的形状确定了触摸屏的外观形状。氧化物膜层IM为氧化铌，用于消除蚀刻纹路。电极导电层ITOl为氧化铟锡，作为触摸屏X/Y电极的导电层。防短路绝缘层OCl用于防止触摸屏X/Y电极之间产生短路。连接导电层MT为钼铝钼金属层，作为触摸屏X/Y电极与触控IC芯片连接的导电层。防刮绝缘层0C2用于保护触摸屏金属导线。
[0027]如图2所示，本发明还涉及一种上述超薄GG触摸屏的制造工艺，该制造工艺包括以下步骤:
[0028]步骤1、清洗超薄强化玻璃GLASS ;
[0029]步骤2、通过真空溅射镀膜，在超薄强化玻璃GLASS原片表面镀氧化物膜层頂；
[0030]步骤3、通过紫外线曝光、显影，在超薄强化玻璃GLASS背面的非视窗区制作打底油墨BM ；
[0031]步骤4、通过真空溅射镀膜，在超薄强化玻璃GLASS原片表面镀电极导电层ITOl ;
[0032]步骤5、通过紫外线曝光、显影，制作第一导电层ITOl的图案；
[0033]步骤6、通过紫外线曝光、显影，制作防短路绝缘层OCl ;
[0034]步骤7、通过真空溅射镀膜，在超薄强化玻璃GLASS原片表面上镀连接导电层MT ;
[0035]步骤8、通过紫外线曝光、显影，将连接导电层MT制作成金属导线；
[0036]步骤9、通过紫外线曝光、显影，制作防刮绝缘层0C2，基本形成超薄GG触摸屏；
[0037]步骤10、丝印保护胶，即通过刮板的挤压，使保护胶通过网孔转移到超薄GG触摸屏上；
[0038]步骤11、切割，即利用数控机床，通过刀具切削加工，使制作好X/Y电极的大板触摸屏玻璃分离成小片触摸屏；(一大板触摸屏玻璃中排列着若干具有独立X/Y电极的触摸屏单元。)
[0039]步骤12、柔性电路板FPC绑定；
[0040]步骤13、贴保护膜。
[0041]其中，紫外线曝光、显影过程由采用全自动光刻设备完成。如图3所示，以打底油墨BM的紫外线曝光、显影过程为例，首先在基板(超薄强化玻璃GLASS)上涂布打底油墨BM,然后在打底油墨BM上覆盖一层光阻，再在光阻上覆盖光掩膜，并利用紫外线对基板进行曝光，利用发生光聚合反应将光掩膜上的图案转移到基板上，再通过显影使未发生光聚合反应的部分光阻冲掉，接着通过蚀刻把没有光阻覆盖的部分打底油墨BM去除，最后去掉光阻，完成打底油墨BM的制作。
[0042]对于上述结构的超薄GG触摸屏，由于直接采用小于或等于0.15mm的超薄强化玻璃作为基材，相比传统减薄工艺，减少了化学减薄、大片组合、大片分离等3个难度最大、损失成品率最高的工序，实现了触摸屏的轻、薄化，也提高了生产效率。
[0043]以上所述实施例，只是本发明的较佳实例，并非来限制本发明的实施范围，故凡依本发明申请专利范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均应包括于本发明专利申请范围内。
【主权项】
1.一种超薄GG触摸屏，其特征在于，所述超薄GG触摸屏依次包括:超薄强化玻璃，打底油墨，氧化物膜层，电极导电层，防短路绝缘层，连接导电层，防刮绝缘层，其中，所述超薄强化玻璃的厚度小于或等于0.15_。2.如权利要求1所述的超薄GG触摸屏，其特征在于，所述电极导电层作为所述超薄GG触摸屏第一层X/Y电极的导电层。3.如权利要求2所述的超薄GG触摸屏，其特征在于，所述超薄GG触摸屏与触控IC芯片连接，所述连接导电层作为超薄GG触摸屏X/Y电极与触控IC连接的导电层。4.一种如权利要求1-3所述的任一触摸屏的制造工艺，其特征在于，所述制造工艺包括以下步骤: 步骤A、通过真空溅射镀膜，在超薄强化玻璃GLASS原片表面镀氧化物膜层頂； 步骤B、通过紫外线曝光、显影，在超薄强化玻璃GLASS背面的非视窗区制作打底油墨BM ； 步骤C、通过真空溅射镀膜，在超薄强化玻璃GLASS原片表面镀电极导电层ITOl ; 步骤D、通过紫外线曝光、显影，制作第一导电层ITOl的图案； 步骤E、通过紫外线曝光、显影，制作防短路绝缘层OCl ; 步骤F、通过真空溅射镀膜，在超薄强化玻璃GLASS原片表面上镀连接导电层MT ; 步骤G、通过紫外线曝光、显影，将连接导电层MT制作成金属导线； 步骤H、通过紫外线曝光、显影，制作防刮绝缘层0C2，基本形成超薄GG触摸屏。5.如权利要求4所述制造工艺，其特征在于，在所述步骤H之后还包括以下步骤: 步骤1、丝印保护胶； 步骤J、切割； 步骤L、柔性电路板FPC绑定； 步骤M、贴保护膜。
【专利摘要】本发明涉及一种超薄GG触摸屏，依次包括：超薄强化玻璃，打底油墨，氧化物膜层，电极导电层，防短路绝缘层，连接导电层，防刮绝缘层,其中，所述超薄强化玻璃的厚度小于或等于0.15mm。由于直接采用小于或等于0.15mm的超薄强化玻璃作为基材，因此实现了触摸屏的轻、薄化，也提高了生产效率。
【IPC分类】G06F3/044
【公开号】CN105204705
【申请号】CN201510761253
【发明人】朱星旺, 何军海, 杨旭, 刘晓光, 黄饶
【申请人】湖北仁齐科技有限公司
【公开日】2015年12月30日
【申请日】2015年11月10日