触控屏的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及多功能触控膜领域，特别涉及一种触控屏。
技术背景
[0002]现有技术中的触控屏结构单一，制备工艺复杂，且不具备表面抗炫、抗放射、抗脏污的功能；此外无法实现防辐射和消除表面静电的效果。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型实施例所提供的一种触控屏包括:顶层保护层、上硬化层、聚酯薄膜层、下硬化层、第一铟锡氧化物层、第一绝缘层、油墨层、第二铟锡氧化物层、第二绝缘层、金属层和钝化层；其中，所述顶层保护层、上硬化层、聚酯薄膜层、下硬化层、第一铟锡氧化物层、第一绝缘层、油墨层、第二铟锡氧化物层、第二绝缘层、金属层和钝化层依次叠放连接；其中，所述顶层保护层由对上硬化层上面进行纳米电镀或蒸镀或喷涂等进行表面抗炫、抗放射、抗脏污处理制成；所述上硬化层和所述下硬化层分别由对所述聚酯薄膜层的上下表面进行硬化处理制成。
[0004]本实用新型提供的一种触控屏，层结构简单可采用如下工艺完成加工:在正常PET膜双面溅镀或涂布上Hard coat做表面硬化处理，在贴膜面通过溅镀方式完成透明消隐层及透明导电层，通过黄光制程或印刷制程(干\湿)蚀刻工艺完成透明导电极层电路，同时通过喷涂、印刷、溅镀方式在触控面进行AG+AR+AS表面抗炫、抗放射、抗脏污处理，再次通过采用涂布或印刷工艺将透明绝缘胶将其透明导电极层保护住，最后，附上正背面轻重离型膜进行保护。
【附图说明】
[0005]图1所示为本实用新型实施例提供的一种触控屏的结构示意图。
【具体实施方式】
[0006]下面将结合附图，对本实用新型实施例的实施方式进行清楚、完整地描述。
[0007]图1所示为本实用新型实施例提供的一种触控屏的结构示意图。如图1所示，该触控屏包括:顶层保护层1、上硬化层2、聚酯薄膜层3、下硬化层4、第一铟锡氧化物层5、第一绝缘层6、油墨层7、第二铟锡氧化物层8、第二绝缘层9、金属层10和钝化层11 ;其中，所述顶层保护层1、上硬化层2、聚酯薄膜层3、下硬化层4、第一铟锡氧化物层5、第一绝缘层
6、油墨层7、第二铟锡氧化物层8、第二绝缘层9、金属层10和钝化层11依次叠放连接；其中，所述顶层保护层I由对上硬化层2上面进行纳米电镀或蒸镀或喷涂等进行表面抗炫、抗放射、抗脏污处理制成；所述上硬化层2和所述下硬化层4分别由对所述聚酯薄膜层3的上下表面进行硬化处理制成。
[0008]本实用新型提供的一种触控屏，层结构简单可采用如下工艺完成加工:在正常PET膜双面溅镀或涂布上Hard coat做表面硬化处理，在贴膜面通过溅镀方式完成透明消隐层及透明导电层，通过黄光制程或印刷制程(干\湿)蚀刻工艺完成透明导电极层电路，同时通过喷涂、印刷、溅镀方式在触控面进行AG+AR+AS表面抗炫、抗放射、抗脏污处理，再次通过采用涂布或印刷工艺将透明绝缘胶将其透明导电极层保护住，最后，附上正背面轻重离型膜进行保护。
[0009]上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种触控屏，其特征在于，包括:顶层保护层、上硬化层、聚酯薄膜层、下硬化层、第一铟锡氧化物层、第一绝缘层、油墨层、第二铟锡氧化物层、第二绝缘层、金属层和钝化层；其中，所述顶层保护层、上硬化层、聚酯薄膜层、下硬化层、第一铟锡氧化物层、第一绝缘层、油墨层、第二铟锡氧化物层、第二绝缘层、金属层和钝化层依次叠放连接；其中，所述顶层保护层由对上硬化层上面进行纳米电镀或蒸镀或喷涂等进行表面抗炫、抗放射、抗脏污处理制成；所述上硬化层和所述下硬化层分别由对所述聚酯薄膜层的上下表面进行硬化处理制成。
【专利摘要】本实用新型实施例提供的一种触控屏，包括：顶层保护层、上硬化层、聚酯薄膜层、下硬化层、第一铟锡氧化物层、第一绝缘层、油墨层、第二铟锡氧化物层、第二绝缘层、金属层和钝化层；其中，所述顶层保护层、上硬化层、聚酯薄膜层、下硬化层、第一铟锡氧化物层、第一绝缘层、油墨层、第二铟锡氧化物层、第二绝缘层、金属层和钝化层依次叠放连接；其中，所述顶层保护层由对上硬化层上面进行纳米电镀或蒸镀或喷涂等进行表面抗炫、抗放射、抗脏污处理制成；所述上硬化层和所述下硬化层分别由对所述聚酯薄膜层的上下表面进行硬化处理制成。
【IPC分类】G06F3-041
【公开号】CN204423341
【申请号】CN201520088746
【发明人】蔡志雄, 林杰彬, 郭伟才
【申请人】宽大光电(漳州）有限公司
【公开日】2015年6月24日
【申请日】2015年2月9日