专利名称：母盘基片及母盘制作方法
技术领域：
本发明涉及用于创建高密度浮雕结构(high-density relief structure)的母盘基片(master substrat )，尤其涉及制作用于光 盘的大规模制造的压模(stamper)的母盘基片，或者用于创建微接 触印刷的印模(stamp)的母盘基片。此外，本发明涉及用于在母盘 基片上提供高密度浮雕结构的方法，以及用于在包含有机染料层的母 盘基片上提供高密度浮雕结构的方法。本发明还涉及分别用于制作压 模、光盘、印模、和缩微印刷品的方法。
背景技术：
基于光学处理而制造的浮雕结构可以例如用作压模，用于只读存 储器(ROM)和预刻凹槽一次写入(R)和可重写(RE)盘的大规模复 制。在复制过程中使用的、这样的压模的制造被称为母盘制作 (mastering )。
在传统的母盘制作中，利用经调制的聚焦激光束来照射旋涂在玻 璃基片上的一个薄感光层。激光束的调制导致母盘基片的一些部分曝 露于UV光下，而在要形成的凹坑之间的中间区域保持未曝露。当盘 旋转、并且将聚焦激光束逐渐拉到盘的外侧时，保持了交替的被照射 区域的螺旋形。在第二步骤中，在所谓的显影过程中溶解曝露区域以 最后得到在光致抗蚀剂层内部的物理洞(hole)。诸如NaOH和KOH 之类的碱性液体用于溶解该曝露区域。母盘基片的结构化表面随后用 薄Ni层覆盖。在电镀过程中，这个溅射沉积的Ni层进一步生长为包 含逆凹坑结构(inverse pit structure)的厚度可管理的Ni基片， 这个具有突出凸起的Ni基片被与母盘基片分离，并且被称为压模。
相转变母盘制作(phase-transition mastering, PTM )是一种相 对新的、制作用于光盘的大规模制造的高密度ROM和RE/R压模的方 法。相转变材料可以经由激光感应加热，从初始的未写状态转换到不 同的状态。记录堆叠(recording stack)的加热可以例如导致混合、 熔化、非晶化(amorphisation)、相分离、分解等。初始或者写入
状态这两相中的一相在酸或者碱性显影液中比另一相溶解得要快。以 这种方法，可以将写入的数据图案转换为具有突出凸起或者凹坑的高 密度浮雕结构。同样在这种情况下，被构图的基片可以用作用于高密 度光盘的大规模制造的压模或者用于微接触印刷的印模。
在这方面，早已提出将快速生长的相变材料和记录堆叠用于相转 变母盘制作。生长占优势的相变材料在非晶和结晶相的溶解速率方面 具有高反差。通过结晶材料的熔化-淬火而获得的非晶标记可以在诸
如K0H和NaOH之类的浓缩传统碱性显影液中、而且在像HC1、 HN03和 112304那样的酸中溶解。在标记尾部的重新结晶可用于以受控制方式降 低标记长度。特别是在最小标记12的情况下，标记尾部的重新结晶 可以导致长度短于光斑大小的新月形(crescent)标记。以这种方法， 可以增加切向的数据密度。
这样的材料系统的难题可能是需要相对大量的记录叠层来优化记 录堆叠的热和光学性状。另一个困难是利用这样的材料系统制作深的 凹坑结构的能力。
因此，本发明的目的是提供开头所述类型的方法和母盘基片，其 允许基于相对简单的记录堆叠进行母盘制作。
发明内容
这个目的由独立权利要求的特征来解决。在从属权利要求中概述 了本发明的进一步开发和优选实施例。
根据本发明的第一方面，上述目的由用于创建高密度浮雕结构的 母盘基片所解决，该母盘基片尤其是制作用于光盘的大规模制造的压 模的母盘基片，或者是用来创建用于微接触印刷的印模的母盘基片， 其中提供了有机染料层用于创建该高密度浮雕结构。这个解决方案基 于这样的发现，即当前例如结合CD-R和DVD+R应用使用的有机染料 层也适合于结合母盘制作过程使用。有机染料层的厚度例如在20和 150 nm之间，并且优选为在60和80 nm之间。
对于根据本发明的母盘基片的一些实施例，有机染料层包含平坦
的下表面。有机染料层的平坦下表面使得能够形成高密度浮雕结构， 其例如与在传统应用中用于寻轨的任何预刻凹槽图案无关。
然而，对于根据本发明的母盘基片的其它实施例，优选为有机染
料层包含预刻凹槽的下表面。例如，承载预刻凹槽有机染料层的预刻 凹槽基片可用于制作高密度浮雕结构，其中该预刻凹槽导致所谓的超 级分辨率，这是因为仅仅窄的凹槽填充了染料而相邻的岸台几乎没有 用染料覆盖。
利用根据本发明的母盘基片的优选实施例，有机染料层的染料从
下列组中选出AZ0 、青色素(cyanine )、 酞花青染料 (phthalocyanine)。
根据本发明的第一通用实施例，有机染料层由聚碳酸酯承载。这 样的未写母盘基片提供了通过应用激光脉冲在染料-聚碳酸酯交界面 处形成凸起的可能性。这是由于这样的事实，即对于例如酞花青染料 那样的一些类型染料，如就这点而论众所周知的那样，染料和聚碳酸 酯的混合出现在染料/聚碳酸酯交界面处。在传统应用中，这些凸起 导致光程长度的减少并且还有助于写入标记的读出。与此相反，本发 明的一个方面是通过由刻蚀过程除去剩余染料层来将这些凸起用于创 建高密度浮雕结构。利用这个刻蚀过程，剩余染料层不是被有选择地 刻蚀，即写入和未写染料二者都被除去。然而，在聚碳酸酯和染料之 间、以及在聚碳酸酯/染料混合物和剩余染料层之间存在选择性刻蚀。
这样的、根据第一通用实施例的母盘基片的处理产生这样的母盘 基片，其中该母盘基片包含高密度浮雕结构，该高密度浮雕结构由有 机染料层和聚碳酸酯层之间的交界面处、由激光脉冲创建的凸起形 成。
根据依据本发明的母盘基片的第二通用实施例，有机染料层布置 在玻璃基片之上。这个解决方案基于这样的发现，即已经由激光脉冲 漂白的有机染料层中的区域可能对于刻蚀过程、特别是诸如K0H和 NaOH之类的碱性刻蚀液变得敏感。
依据本发明第二通用实施例的母盘基片(即如上所述处理的母盘 基片)产生这样的母盘基片，其中所述母盘基片包含在有机染料层中
形成的高密度浮雕结构。
对于第二通用实施例，优选为在玻璃基片和染料层之间布置金属 反射器层。这样的金属反射器层可以是例如Ni层。金属反射器层的 厚度例如在5和100 nm之间，并且优选为在10和40 nm之间。提供 了金属反射器层以增强染料层中的吸收剖面。它也将锐化有机染料层 中的吸收剖面，并且因此导致更陡峭的热退化(degrade) /漂白区域。 对于根据本发明的母盘基片的全部实施例，如果记录堆叠还包含 布置在有机染料层之上的吸收层，则这是有利的。这样的吸收层的厚 度例如在5和40nm之间，并且优选为在5和10nm之间。该吸收层优 选为经由刻蚀或者剥落除去。这样的吸收层也增强了有机染料层中的 吸收剖面。
根据本发明的第二方面，上述目的由一种用于在包含有机染料层 的母盘基片上提供高密度浮雕结构的方法所解决，所述方法包含下列 步骤
- 在母盘基片的要形成凹坑的区域上应用染料漂白激光脉冲；以 及
- 通过刻蚀过程除去有机染料层中的漂白区域。 这种方法优选为应用于根据本发明的母盘基片的第二通用实施
例。可以通过使用碱性刻蚀液或者酸性刻蚀液执行刻蚀过程。此外在 这种情况下，染料层可以具有AZO染料、青色素或者酞花青染料类型。 根据本发明的第三方面，上述目的通过一种用于在母盘基片上提 供高密度浮雕结构的方法来解决，所述方法包含下列步骤
- 提供母盘基片，所述母盘基片至少包含聚碳酸酯层，所述聚碳 酸酯层承载有机染料层；
- 通过应用激光脉冲在染料/聚碳酸酯交界面处形成凸起；以及
- 通过刻蚀过程除去剩余染料层。
根据本发明第三方面的方法优选为基于根据上述第一通用实施例 的母盘基片执行。
根据本发明的第四方面，提供了一种用来制作用于光盘(50)的 大规模制造的压模的方法，所述方法包含下列步骤
-提供包含有机染料层的母盘基片；
- 在母盘基片的要形成凹坑的区域上应用染料漂白激光脉冲；
- 通过刻蚀过程除去有机染料层中的已漂白区域；以及 -基于该母盘基片制作压模。
根据本发明的第五方面，提供了一种制作光盘的方法，所述方法 包含下列步骤
-提供包含有机染料层的母盘基片；
- 在母盘基片的要形成凹坑的区域上应用染料漂白激光脉冲；
- 通过刻蚀过程除去有机染料层中的已漂白区域；
- 基于所述母盘基片制作压模；以及
- 使用所述压模制作光盘。
根据本发明的第六方面，提供了 一种用来制作用于微接触印刷的 印模的方法，所述方法包含下列步骤 -提供包含有机染料层的母盘基片；
- 在母盘基片的要形成凹坑的区域上应用染料漂白激光脉冲； 國通过刻蚀过程除去有机染料层中的已漂白区域；以及
-基于该母盘基片制作所述印模。
根据本发明的笫七方面，提供了一种用于制作缩微印刷品的方 法，所述方法包含下列步骤
-提供包含有机染料层的母盘基片；
- 在母盘基片的要形成凹坑的区域上应用染料漂白激光脉冲；
- 通过刻蚀过程除去有机染料层中的已漂白区域； -基于所述母盘基片制作印模；以及
- 使用所述印模制作缩微印刷品。
根据本发明的第八方面，提供了一种用来制作用于光盘的大规模 制造的压模的方法，所述方法包含下列步骤
- 提供母盘基片，所述母盘基片至少包含聚碳酸酯层，所述聚碳 酸酯层承载有机染料层；
- 通过应用激光脉冲在所述染料/聚碳酸酯交界面处形成凸起；
- 通过刻蚀过程除去剩余染料层；以及 -基于所述母盘基片制作所述压模。
根据本发明的笫九方面，提供了一种用于制作光盘的方法，所述 方法包含下列步骤
- 提供母盘基片，所述母盘基片至少包含聚碳酸酯层，所述聚碳 酸酯层承载有机染料层；
- 通过应用激光脉冲在所述染料/聚碳酸酯交界面处形成凸起；
- 通过刻蚀过程除去剩余染料层；
- 基于所述母盘基片制作压模；以及
- 使用所述压模制作光盘。 根据本发明的第十方面，提供了一种用来制作用于微接触印刷的
印模的方法，所述方法包含下列步骤
- 提供母盘基片，所述母盘基片至少包含聚碳酸酯层，所述聚碳 酸酯层承载有机染料层；
- 通过应用激光脉冲在所述染料/聚碳酸酯交界面处形成凸起；
- 通过刻蚀过程除去剩余染料层；以及 -基于所述母盘基片制作所述印模。
根据本发明的第十一方面，提供了一种用于制作缩微印刷品的方 法，所述方法包含下列步骤
-提供母盘基片，所述母盘基片至少包含聚碳酸酯层，所述聚碳 酸酯层承载有机染料层；
- 通过应用激光脉冲在所述染料/聚碳酸酯交界面处形成凸起；
- 通过刻蚀过程除去剩余染料层；
- 基于所述母盘基片制作印模；以及
- 使用所述印模制作缩微印刷品。
参考下文中描述的实施例，本发明的这些及其它方面将变得明显 并且得到阐述。
此外，显然可以与结合本发明的第一到第三方面公开的实施例和 细节相对应地、进一步开发根据本发明第四到第十一方面的解决方 案，而且即使所有这些相应特征的组合目前没有利用所附权利要求明 确地主张权利，它们也应该被j人为是因此而公开了 。
图la到lc示意性地示出了在由根据本发明的方法处理期间、根
据本发明的母盘基片的第一通用实施例的第一示例； 图ld分别示意性地示出了压模和印模的制作。 图le示意地示出了光盘的制作； 图lf示意地示出了缩微印刷品的制作；
图2a到2c示意性地示出了在由根据本发明的方法处理期间、根 据本发明的母盘基片的第一通用实施例的笫二示例；
图2d示出了基于根据图2a到2c的母盘基片而进行的实际实验 结果的截面分析；
图3a到3c示意性地示出了在由根据本发明的方法进行处理期 间、根据本发明的母盘基片的第二通用实施例的第一示例； 图3d分别示意性地示出了压模和印模的制作； 图3e示意地示出了光盘的制作。 图3f示意地示出了缩微印刷品的制作；
图4a到4c示意性地示出了在由根据本发明的方法进行处理期 间、根据本发明的母盘基片的第二通用实施例的第二示例；以及
图4d示出了基于根据图4a到4c的母盘基片而进行的实际实验 结果的截面分析。
具体实施例
图la到lc示意性地示出了在由根据本发明的方法处理期间、根
据本发明的母盘基片的第一通用实施例的第一示例，其中图la示出 了未处理的母盘基片10，图lb示出了在写入之后的母盘基片10,以 及图lc示出了在刻蚀之后的母盘基片10.
母盘基片10包含有机染料层12，其中的有机染料例如为酞花青 染料。有机染料层12的厚度例如为70 nm。有机染料层12由具有平 坦上表面的聚碳酸酯层14所承载。由此，形成染料/聚碳酸酯交界面 16。
如图lb可以看出的，通过将激光脉冲应用到有机染料层12的区 域30上，在染料/聚碳酸酯交界面16处形成了凸起20。
图lc示出了在利用异丙醇(iso - propanole)刻蚀之后的母盘 基片10。写入和未写染料层二者都被除去了，但是在聚碳酸酯层14 和有机染料层12之间以及凸起20和有机染料层12之间存在选择性 刻蚀。
图ld分别示意性地示出了压模40和印模42的制作.压模40和 印模42分别在高密度浮雕结构24的基础上形成。为了提供金属层， 例如，在母盘基片10的记录堆叠中形成的高密度浮雕结构24上賊射 沉积薄Ni层。这个Ni层随后电化学生长为厚度可管理的压模40或 者印模42。从母盘基片10中分离压模40或者印模42，并且对它们 进行进一步处理(清洁，冲压等)。
图le示意性地示出了本领域技术人员众所周知的、基于压模40 制作光盘50。
图If示意性地示出了本领域技术人员也众所周知的、基于印模42 制作缩微印刷品52。
图2a到2c示意性地示出了在由根据本发明的方法进行处理期 间、根据本发明的母盘基片的第一通用实施例的第二示例，其中图2a 示出了未处理的母盘基片10，图2b示出了在写入之后的母盘基片10， 以及图2c示出了在刻蚀之后的母盘基片10。
图2a所示的记录堆叠结构及其处理，除了聚碳酸酯层14包含其 中形成凸起20的预刻凹槽24之外，与结合图la到lc描述的相同。 此外，提供了在有机染料层12之上的可选吸收层22以引起吸收。
在其中最初存在大部分染料的凹槽24中创建凸起(仅仅示出了 一个凸起20)。酞花青染料是用于基于凸起形成的母盘制作的最适当 染料。对于蓝光(Blu _ ray)盘母盘制作，优选为利用405 nm进行 记录，但是其它波长也是可能的.虽然酞花青染料是优选的，但是在 这个波长处具有足够吸收作用的全部染料材料都可以用于这个应用。
图2d示出了基于根据图2a到2c的母盘基片而进行的实际实验 结果的截面分析。为了最后得到图2d所示的结构，记录一传统的DVD+R 盘，剥离金属层，并且在异丙醇中溶解剩余的已写入和未写染料层。
图3a到3c示意性地示出了在由根据本发明的方法进行处理期 间、根据本发明的母盘基片的第二通用实施例的第一示例，其中图3a 示出了未处理的母盘基片10，图3b示出了在写入之后的母盘基片10， 以及图3c示出了在刻蚀之后的母盘基片10。
图3a所示的记录堆叠包含其上提供了金属层26的玻璃基片28。 提供了金属层26以增强在由金属层26承栽的有机染料层12中的吸 收剖面。在有机染料层12之上提供了吸收层"来引起吸收。
图3b示出了在已经应用了染料漂白激光脉冲来漂白其中要形成 凹坑的区域30之后的母盘基片10。
图3c示出了在例如利用20 % KOH刻蚀之后的母盘基片10。可以 从图3c中看出，有机染料层12中的未写区域仍然存在，并且形成凹 坑32。以这种方法，可以形成高密度浮雕结构。
图3d分别示意性地示出了压模40和印模42的制作。压模40和 印模42分别在高密度浮雕结构20的基础上形成。为了提供金属层，
例如，在母盘基片10的记录堆叠中形成的高密度浮雕结构20上溅射 沉积薄Ni层。随后将这个Ni层电化学地生长为厚度可管理的压模40 或者印模42。从母盘基片10中分离压模40或者印模42,并且对它 们进行进一步处理(清洁，冲压等)。
图le示意性地示出了本领域技术人员众所周知的、基于压模40 制作光盘50。
图If示意性地示出了本领域技术人员也众所周知的、基于印模42 制作缩微印刷品52。
图4a到4c示意性地示出了在由根据本发明的方法进行处理期 间、根据本发明的母盘基片的第二通用实施例的第二示例，其中图4a 示出了未处理的母盘基片10，图4b示出了在写入之后的母盘基片10， 以及图4c示出了在刻蚀之后的母盘基片10。
母盘基片IO的结构及其处理，除了玻璃基片28包含预刻凹槽24 之外，与结合图3a到3c描述的相同。可以从图4b和4c看出，在两 个相邻预刻凹槽部分之间形成凹坑32。
图4d示出了基于根据图4a到4c的母盘基片而进行的实际实验 结果的截面分析。为了最后得到图4d所示的截面，记录一个传统的 DVD+R盘，并且经由20% KOH中20分钟的溶解来化学地除去已写入 和漂白区域。图4d中，凹槽结构也是清楚可见的.
根据本发明的母盘基片和方法可以例如用来制作用于BD - ROM 和BD - R / RE盘的大规模制造的压模。
最终，应当注意到，也可以采用未在上面描述的等同物和修改而 没有背离附属权利要求中定义的本发明的范围。
权利要求
1、一种用于创建高密度浮雕结构的母盘基片(10)，尤其是用于制作压模的母盘基片或者用于创建印模的母盘基片，其中所述压模用于光盘的大规模制造，而所述印模用于微接触印刷，其中，提供一有机染料层(12)来创建高密度浮雕结构。
2、 如权利要求1所述的母盘基片(10),其中，所述有机染料 层U2)包含平坦下表面.
3、 如权利要求1所述的母盘基片(10)，其中，所述有机染料 层(12)包含预刻凹槽的下表面。
4、 如权利要求1所述的母盘基片(10),其中，所述有机染料 层(12)的染料从下列组中选出AZ0、青色素、酞花青染料。
5、 如权利要求1所述的母盘基片(10)，其中，所述有机染料 层(12)由聚碳酸酯(14)承载。
6、 如权利要求1所述的母盘基片(10)，其中，所述母盘基片 (10)包含高密度浮雕结构，所述高密度浮雕结构由有机染料层(12)和聚碳酸酯层(14)之间的交界面(16)处、由激光脉冲创建的凸起 (20)形成。
7、 如权利要求1所述的母盘基片(10) 层(12)布置在玻璃基片(28)上。
8、 如权利要求1所述的母盘基片(10) 包含在有机染料层中形成的高密度浮雕结构。
9、 如权利要求7所述的母盘基片(70) 片和染料层之间布置金属反射器层。
10、 如权利要求1所述的母盘基片(10) (12)之上布置吸收层(22)。
11、 一种用于在包含有机染料层(12)的母盘基片(10)上提供 高密度浮雕结构的方法，所述方法包含下列步骤- 在该母盘基片(10)的要形成凹坑(32 )的区域(30)上应 用染料漂白激光脉冲；以及- 通过刻蚀过程除去有机染料层(12)中的已漂白区域(30)。
12、 一种用于在母盘基片(10)上提供高密度浮雕结构的方法， 所述方法包含下列步骤，其中，所述有机染料 ，其中，所述母盘基片 ，其中，在所述玻璃基 ,其中，在所述染料层 - 提供母盘基片(10)，所述母盘基片(10)至少包含聚碳酸酯 层(14 ),而所述聚碳酸酯层(14 )承载有机染料层(12 );- 通过应用激光脉冲，在染料/聚碳酸酯交界面(16)处形成凸 起(20);以及- 通过刻蚀过程除去剩余染料层。
13、 一种用于制作压模(40)的方法，所述压模(40)用于光盘 (50)的大规模制造，所述方法包含下列步骤-提供包含有机染料层(12)的母盘基片(10);- 在该母盘基片(10)的要形成凹坑(32 )的区域(30)上应 用染料漂白激光脉冲；- 通过刻蚀过程除去有机染料层(12)中的已漂白区域(30); 以及- 在所述母盘基片(10)的基础上制作所述压模(40)。
14、 一种用于制作光盘(50)的方法，所述方法包含下列步骤 -提供包含有机染料层(l2)的母盘基片(10);- 在该母盘基片(10)的要形成凹坑(32 )的区域(30)上应 用染料漂白激光脉冲；- 通过刻蚀过程除去有机染料层(12)中的已漂白区域(30);- 在所述母盘基片(10)的基础上制作压模(40);以及- 使用所述压模HO)来制作光盘00)。
15、 一种用于制作印模(42)的方法，所述印模(42)用于微接 触印刷，所述方法包含下列步骤-提供包含有机染料层(12)的母盘基片(10);- 在该母盘基片(10)的要形成凹坑(32 )的区域(30)上应 用染料漂白激光脉冲；- 通过刻蚀过程除去有机染料层(12)中的已漂白区域(30); 以及- 在所述母盘基片(10)的基础上制作所述印模(42)。
16、 一种用于制作缩微印刷品(52)的方法，所述方法包含下列 步骤-提供包含有机染料层(12)的母盘基片(10);- 在该母盘基片(10)的要形成凹坑(32 )的区域(30)上应 用染料漂白激光脉沖；- 通过刻蚀过程除去有机染料层(12)中的已漂白区域(30);- 在所述母盘基片(10)的基础上制作印模(42);以及- 使用所述印模(42)制作所述缩微印刷品(52)。
17、 一种用于制作压模(40)的方法，所述压模(40)用于光盘 (50)的大规模制造，所述方法包含下列步骤-提供母盘基片(10)，所述母盘基片(10)至少包含聚碳酸酯 层(l4 )，而所述聚碳酸酯层(14 )承载有机染料层(l2 ); - 通过应用激光脉冲，在所述染料/聚碳酸酯交界面(16)处形 成凸起(20);- 通过刻蚀过程除去剩余染料层；以及- 在所述母盘基片(10)的基础上制作所述压模(40)。
18、 一种用于制作光盘(50)的方法，所述方法包含下列步骤-提供母盘基片(10)，所述母盘基片(10)至少包含聚碳酸酯 层(l4 )，而所述聚碳酸酯层(l4 )承栽有机染料层(l2 );- 通过应用激光脉冲，在所述染料/聚碳酸酯交界面(16)处形 成凸起(20);- 通过刻蚀过程除去剩余染料层；- 在所述母盘基片(10)的基础上制作压模(40);以及- 使用所述压模(40)来制作光盘(50)。
19、 一种用于制作印模(42)的方法，所述印模(42)用于微接 触印刷，所述方法包含下列步骤- 提供母盘基片(10)，所述母盘基片(10)至少包含聚碳酸酯 层(l4 )，而所述聚碳酸酯层(l4 )承载有机染料层(l2 );- 通过应用激光脉冲，在所述染料/聚碳酸酯交界面(16)处形 成凸起(20);- 通过刻蚀过程除去剩余染料层；以及- 在所述母盘基片(10)的基础上制作所述印模(42)。
20、 一种用于制作缩微印刷品(52)的方法，所述方法包含下列 步骤- 提供母盘基片(10)，所述母盘基片(10)至少包含聚碳酸酯 层(14 ),而所述聚碳酸酯层(14 )承载有机染料层(12 ); - 通过应用激光脉冲，在所述染料/聚碳酸酯交界面(16)处形 成凸起(20);- 通过刻蚀过程除去剩余染料层；- 在所述母盘基片(10)的基础上制作印模(42);以及- 使用所述印模(42 )制作所述缩微印刷品(52 )。
全文摘要
本发明涉及一种用于创建高密度浮雕结构的母盘基片(10)，尤其是制作用于光盘的大规模制造的压模的母盘基片(10)，或者是创建用于微接触印刷的印模的母盘基片，其中提供了有机染料层(12)用于创建该高密度浮雕结构。本发明还涉及一种用于在包含有机染料层(12)的母盘基片(10)上提供高密度浮雕结构的方法，所述方法包含下列步骤在母盘基片(10)的要形成凹坑(32)的区域(30)上应用染料漂白激光脉冲；以及通过刻蚀过程除去有机染料层(12)中的已漂白区域(30)。本发明还涉及一种用于在母盘基片(10)上提供高密度浮雕结构的方法，所述方法包含下列步骤提供母盘基片(10)，所述母盘基片(10)至少包含聚碳酸酯层(14)，而所述聚碳酸酯层(14)承载有机染料层(12)；通过应用激光脉冲，在所述染料/聚碳酸酯的交界面(16)处形成凸起(20)；以及通过刻蚀过程除去剩余染料层。
文档编号G11B7/26GK101099205SQ200580046167
公开日2008年1月2日 申请日期2005年12月21日 优先权日2005年1月6日
发明者E·R·梅因德斯, H·S·P·鲍曼斯 申请人:皇家飞利浦电子股份有限公司