专利名称：光记录介质的记录装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种光记录介质的记录装置，更特别地，涉及一种光记录介质的记录装置，其中当照射激光以在光记录介质上记录信息时，用作激光强度调整的指标的评价函数响应激光的反射光进行调整。
背景技术：
相关申请的交叉引用本发明包括了与2006年1月25日向日本专利局提交的日本专利申请JP2006-015867相关的主题，在此将其全部内容引入作为参考。
在相关技术领域中已知各种光记录介质，例如其上可以记录数字信息的光盘。
特别地，作为使用有机染料形成的其上可以一次性记录数字信息的一次写入光记录介质，已知CD-R(可记录光盘)、DVD+R、DVD-R(可记录数字通用光盘)等等。同时，作为使用相变型材料形成的其上可以重写数据的可擦除型光记录介质，已知CD-RW(可重写光盘)、DVD-RW(可重写数字通用光盘)、DVD-RAM(数字通用光盘-随机存取存储器)、BD-RE(可重写蓝光盘)等等。
尽管所述光记录介质通常在严格管理的生产线上制造，然而有时会出现不同制造商的制造方法间差异导致的染料成分或合金成分的分散或者制造批量之间的差异。
特别地，使用有机染料形成的一次写入光记录介质有时遭受翘曲或表面挠曲，或者所述翘曲或表面挠曲的状态有时根据制造过程或用户的使用状态或存储状态而发生变化。需要注意的是，光记录介质的翘曲是光记录介质变形为像展开的伞形的状态。同时，光记录介质的表面挠曲是当旋转光记录介质时，响应旋转角度，其记录表面像波浪一样横向挠曲的状态。
如果以这种方式发生记录层或光记录介质的染料或合金成分的分散，或者光记录介质的翘曲或表面挠曲，那么即使光记录介质的制造商和母模是相同的，在光记录介质的记录表面上的信息的记录状态也变得不同。因此，在再现信息时，不是总能得到再现信号的固有品质，导致难以进行数据的解码。
因此，作为调整用于在光记录介质上进行记录的激光的强度以便再现信号的品质可保持固定的方法，已知的各种控制方法包括OPC(最佳功率校准)和运行OPC。
根据OPC，在记录数据之前，向作为光记录介质的试写入区域的PCA(功率校准区域)照射预定图案的激光以执行试写入。然后，再现以这种方式写入的数据，并根据某一评价基准确定最优的激光强度，从而提高记录品质。
同时，根据运行OPC，当向光记录介质照射用于记录的激光以记录所需信息时，检测激光的反射光，并响应检测到的反射光的强度，校正要照射的激光强度。
应用OPC和运行OPC，从而一旦开始在光记录介质上记录信息，光记录介质的PCA中的OPC就执行一次，并以OPC确定的激光强度开始在光记录介质上记录信息。以后，激光强度由运行OPC调整为适当的状态。
需要注意的是，光记录介质可能遭受在制造过程中形成记录介质期间其内周和外周部分分散的困扰，并且激光的最佳强度常常沿着光记录介质的直径方向不同。
为了反映在光记录介质的内周和外周部分的激光强度的适当差异，当执行运行OPC时，使用评价函数。
评价函数由特性曲线表示，该特性曲线表示关于激光强度的坑的深度信息。在运行OPC中，激光强度根据该特性曲线进行调整，从而信息可以以高品质写入光记录介质。
需要注意的是，尽管在运行OPC中，检测在用激光在光记录介质上记录信息时激光的反射光，以执行激光强度的调整，然而由于检测到的反射光不同于读出记录信息时的反射光，因此可能反射光不能正确地反映记录状态。
因此，近来还存在以下描述的对策，从而可以应用具有更适当强度的激光执行记录过程。具体而言，当正在进行在光记录介质上的信息记录过程时，中断该过程，并再现在所述中断之前记录的信息，基于再现所述记录过程的再现时的反射光的检测结果，执行激光强度的调整。描述的这种方法例如在日本专利公开No.2004-234812中公开。
发明内容
然而，即使在光记录介质上的信息记录过程被中断，并且然后应用强度调整的激光重新启动，由于运行OPC包括根据用于记录的激光的反射光进行的激光强度调整，因此还存在这样的可能性重启之后，激光强度可能偏离通过运行OPC校正的适当强度。因此，存在这样的可能性如果记录过程被中断，频繁地重复激光的重新调整和记录过程的重新启动，记录过程的处理时间可能变得非常长。
然而，由于用于运行OPC的适当的评价函数根据待用光记录介质的类型而不同，因此优选地为每一种类型的光记录介质都准备适当的函数。然而，由于光记录介质的制造分散，所准备的评价函数可能并不适于光记录介质。
因此，需要提供一种光记录介质的记录装置，可以通过该记录装置执行记录过程，同时尽可能长时间地保持适当的激光强度。
根据本发明的实施例，提供了一种光记录介质的记录装置，包括光拾取部分，配置成向光记录介质照射激光以在光记录介质上执行信息记录或从中再现信息；控制部分，配置成控制光拾取部分；以及存储部分，配置成预先存储评价函数，该评价函数用于在将要在光记录介质上记录信息时，响应于激光的反射光调整激光强度；控制部分可用于在记录过程的中途中断在光记录介质上的信息记录过程，并再现中断之前记录的信息，然后基于再现时的反射光检测结果调整该评价函数。
在该光记录介质记录装置中，在记录过程的中途中断在光记录介质上的信息记录过程，并再现在中断之前记录的信息。此后，基于再现时反射光的检测结果调整评价函数。因此，在恢复记录过程之后，可以基于适当的评价函数调整激光强度，并可以在光记录介质的全部区域实现稳定的高品质的记录过程。
该光记录介质记录装置可以被配置成在存储部分中预先存储多个评价函数，且控制部分通过基于再现时反射光的检测结果选择评价值之一，来调整评价函数。
在该光记录介质记录装置中，由于预先存储了多个评价函数，并通过基于再现时反射光的检测结果选择所存储的评价值之一，来调整评价函数。因此，即使光记录介质具有一些制造分散，也可以响应于该分散使用适当的评价函数。
在这种情况下，光记录介质的记录可以被配置成执行在光记录介质上的信息记录过程之前，控制部分使得多个测试数据记录在光记录介质上提供的试写入区域中，同时改变激光强度，并使用存储在存储部分中的评价函数中预定的一个评价记录状态，而不管光记录介质的类型，并且当执行在光记录介质上的信息记录过程时根据再现测试数据时反射光的检测结果确定激光强度。
在该光记录介质记录装置中，在执行在光记录介质上的信息记录过程之前，将多个测试数据记录在光记录介质上提供的试写入区域中，同时改变激光强度。然后，不管光记录介质的类型，应用存储部分中存储的预定评价函数之一评价记录状态。此后，当执行在光记录介质上的信息记录过程时，根据再现测试数据时反射光的检测结果确定激光强度。因此，可以应用光记录介质的试写入区域有效地指定适当的激光强度。
或者，该光记录介质记录装置可以配置成在执行在光记录介质上的信息记录过程之前，控制部分使得多个测试数据记录在光记录介质上提供的试写入区域中，同时改变激光强度，并使用存储在存储部分中的预定评价函数中与光记录介质的类型相对应的评价函数来评价记录状态，并根据再现测试数据时反射光的检测结果，确定当执行在光记录介质上的信息记录过程时激光的强度。
在该光记录介质记录装置中，在执行在光记录介质上的信息记录过程之前，将多个测试数据记录在光记录介质上提供的试写入区域中，同时改变激光强度。然后，使用存储在存储部分中的预定评价函数中与光记录介质的类型相应的评价函数评价记录状态。此后，根据再现测试数据时反射光的检测结果，确定当执行在光记录介质上的信息记录过程时激光的强度。因此，可以应用光记录介质的试写入区域有效地指定适当的激光强度。
控制部分可以通过产生校正评价函数来调整评价函数，所述校正评价函数通过根据再现时反射光的检测结果、借助于评价函数的平移或类似手段来校正评价函数而获得。
在该光记录介质记录装置中，通过产生校正评价函数来调整评价函数，所述校正评价函数通过根据再现时反射光的检测结果、借助于评价函数的平移或类似手段来校正评价函数而获得。因此，预先准备的评价函数的数目可以最小化。因此，可以降低存储部分的存储容量，并可以期望控制部分的控制效率增强。
当激光强度超出与在光记录介质上记录信息的开始时刻的激光强度相应的预定范围时，控制部分可以通过根据评价函数调整激光强度来中断记录过程。
在该光记录介质记录装置中，当激光强度超出与在光记录介质上记录信息的开始时刻的激光强度相应的预定范围时，通过根据评价函数调整激光强度而中断记录处理。因此，可以仅仅当需要所述中断时，才中断记录过程。因此，中断的次数可以最小化，并且记录过程可以高效地执行。
本发明的上述和其它特征和优点将从以下说明和所附权利要求以及相关的附图中变得明显，其中附图中相同的部件或元件由相同的附图标记表示。
图1是根据本发明的实施例的光记录介质记录装置的方框图；图2是图示光记录介质记录装置的光记录介质记录电路的控制处理器的控制过程的流程图，其中存在多个评价函数；图3是图示光记录介质记录装置中应用的β和不对称值的图；图4A和4B是图示评价函数的控制目标值确定方法的图；图5是图示评价函数调整方法的图，其中在光记录介质记录装置中应用多个评价值；图6是图示光记录介质记录装置的光记录介质记录电路的控制处理器的控制过程的流程图，其中存在单个评价函数；以及图7是图示评价函数调整方法的图，其中在光记录介质记录装置中应用一个评价值。
具体实施例方式
根据本发明的光记录介质记录装置包括光拾取部分，配置成向光记录介质照射激光以在光记录介质上执行信息记录或从中再现信息；控制部分，配置成控制光拾取部分；以及存储部分，配置成预先存储评价函数，该评价函数用于当将要在光记录介质上记录信息时，响应于激光的反射光，调整激光强度。在该光记录介质记录装置中，控制部分在记录过程的中途中断在光记录介质上信息记录过程，并再现在中断之前记录的信息，然后基于再现时反射光的检测结果，调整所述评价函数。
简言之，基于记录过程时的记录状态调整待用于运行OPC的评价函数。然后，当恢复记录过程时，可以基于适当的评价函数执行激光强度的调整。因此，可以执行稳定的高品质的记录过程。特别地，由于评价函数被调整，因此可以对光记录介质的全部区域执行高品质的记录过程。
以下，描述本发明的优选实施例。图1显示了一种光记录介质记录装置，其包括应用了本发明的光记录介质记录电路。
参照图1，该光记录介质记录装置包括用于驱动光记录介质10旋转的主轴马达11，以及用于向由主轴马达11旋转的光记录介质10上照射激光并从光记录介质10接收照射光的反射光的光拾取部分12。
主轴马达11由伺服处理器13控制的第一马达驱动器14驱动。
光拾取部分12包括用于向光记录介质10的记录表面照射激光的激光二极管(未示出)，以及用于接收激光的反射光的多个光接收元件(未示出)。激光二极管由激光器驱动器16控制以照射具有所需强度的激光，该激光器驱动器16由用作控制部分的控制处理器15控制。
用作存储所需评价函数的存储部分的存储器17连接到控制处理器15，从而控制处理器15根据存储器17中存储的评价函数执行激光的强度控制。
光接收元件接收照射在光记录介质10的记录表面上的激光的反射光，并输出RF(射频)信号。输出的RF信号输入至RF放大器18并被其放大，并输入到控制处理器15和伺服处理器13。
光拾取部分12通过由伺服处理器13控制的第二马达驱动器19控制螺纹马达(thread motor)20，从而螺纹马达20在光记录介质10的直径方向上向后和向前移动光拾取部分12。特别地，光拾取部分12连接到螺杆21，该螺杆21为了互锁移动而通过螺纹部件22连接于螺纹马达20的输出轴，使得通过螺纹马达20旋转螺杆21，来沿着螺杆21前后移动光拾取部分12。
进一步地，光拾取部分12可以由伺服处理器13控制的致动器驱动器23进行调整，从而调整其与光记录介质10的距离。
控制处理器15用作以上述方式配置的光记录介质记录装置的控制部分，该控制处理器15基于图2中图示的流程图，在执行运行OPC的同时执行在光记录介质上的信息记录过程。此处假定用作存储部分的存储器17中存储有多个评价函数。进一步地，在控制部分预先设置的预定时刻执行记录过程的中断。
首先，该光记录介质记录装置在开始在光记录介质上记录所需信息时执行OPC(最佳功率校准)。
在OPC中，执行在PCA(功率校准区域)中的步进写入(步骤S1)，其中PCA是光记录介质10的试写入区域。步进写入是这样一个记录过程从控制处理器15输出预定图案的测试数据，并且对于每一固定的时间段以固定的时间间隔改变将输出的激光强度，以执行对PCA的写入。
通常于光记录介质10的最内圆周部分和最外圆周部分都提供PCA。光记录介质10的最内圆周部分和最外圆周部分用于，在该步进写入期间基于将在运行OPC中应用的各种评价函数采集数据。
在由该步进写入进行的记录过程结束之后，控制处理器15再现在各个条件写入的测试数据，并根据再现信号计算β和/或对称值(步骤S2)。
β和/或对称值代表再现信号的振幅对称的偏移量，并用从光拾取部分12中输出的RF信号的波形(作为光记录介质10的再现结果)进行表示，如图3中所示，通过以下表达式表示不对称值＝[(I14H+I14L)/2-(I3H+I3L)/2]/I14β＝[(RFAv-I14L)/2-(I14H+RFAv)/2]/I14控制处理器15指定用来从计算出的β和/或不对称值获得最佳记录状态的激光强度(步骤S3)。然后，控制处理器15为各个评价函数指定目标值，利用所述目标值，可以输出具有指定强度的激光(步骤S4)。
评价函数中的目标值的指定是对激光强度的指定，使用该激光强度的指定，在通过绘制不同激光强度(功率)下的β值而获得的β曲线上获得了最优β值，所述曲线如图4A中所示。该指定进一步指定控制目标值，借助于此，可针对该控制目标值从图4B中图示的评价函数的输出特性曲线输出具有指定强度的激光。
进一步地，控制处理器15根据计算出的β和/或不对称值以及指定的激光强度指定最适当的评价函数(步骤S5)。
在本实施例中，对于多个评价函数中的每个，执行激光强度的指定和评价函数的指定。然而，也可以仅使用对于光记录介质10是适合的评价函数，来进行这种指定，所述适合的评价函数通过在开始在光记录介质10上记录所需信息时，读取记录在光记录介质10上的光记录介质10的标识信息、根据光记录介质10的类型来指定。
通过以这种方式仅使用对于光记录介质10是最佳的评价函数来执行OPC，可以有效地利用PCA指定适当的激光强度。
或者，可以总是使用预定评价函数指定激光强度来执行步进写入，而不管光记录介质10的类型。当总是仅仅使用预定评价函数时，可以有利于OPC的控制，并可以有效地利用PCA指定适当的激光强度。
在激光强度的指定和评价函数的指定之后，控制处理器15将要从光拾取部分12输出的激光的强度设置为由OPC指定的强度，并开始在光记录介质10上记录所需信息的过程(步骤S6)。
在记录过程结束之前，控制处理器15执行运行OPC，并根据由运行OPC指定的评价函数控制激光强度。如果不再有要记录的信息，则控制处理器15结束记录过程(步骤S7)。
另一方面，如果在记录过程期间到达预先设定的预定时刻，则控制处理器15中断记录过程(步骤S8)。
在本实施例中，当检测到光拾取部分12在光记录介质10的直径方向上移动预定尺寸时，在步骤S8执行记录过程的中断。然而，另外，可以在每经过预定时间段之后或者响应于检测到完成预定量信息的记录，执行所述记录过程的中断。
否则，可以响应于检测到激光强度超出预定的强度范围，来执行记录过程的中断，其中根据由运行OPC的激光强度控制根据预先指定的激光强度设定该强度范围。
通过以这种方式根据激光强度执行记录过程的中断决定，可以仅仅当由于不正常的激光强度而决定需要中断记录过程时，才中断记录过程。因此，可以减少中断的次数，并可以高效地执行记录过程。
需要注意的是，用作中断决定的依据的强度范围可以是根据环境要求的任意强度范围。优选地，参照由中断决定中断的激光输出的开始时刻的强度设定该范围。
如果在步骤S8要中断记录过程的时刻没有到来，则控制处理器15将处理返回到步骤S6以进行运行OPC。
如果记录过程在步骤S8被中断，则控制处理器15再现在中断之前记录在光记录介质10上的信息(步骤S9)。然后，控制处理器15根据再现信号计算β和/或不对称值(步骤S10)。
然后，如果在步骤S11确定在步骤S10得到的β和/或不对称值落入在步骤S2得到的β和/或不对称值的允许范围内，则控制处理器15将处理返回至步骤S6以恢复运行OPC。
另一方面，如果在步骤S11确定β和/或不对称值超出该允许的范围，则控制处理器15改变评价函数(步骤S12)。特别地，参照图5，控制处理器15平移在中断之前所应用的评价函数，使得如此校正的评价函数可以通过记录过程开始时的运行OPC目标值和中断后通过测量计算得出的β值之间的交叉点。然后，控制处理器15选择存储器17(用作存储部分)中存储的评价函数之一，将其作为要使用的新评价函数，该评价函数表现出与校正的评价函数的误差最小。
然后，控制处理器15将处理返回至步骤S6，从而根据新的评价函数恢复运行OPC。
通过以这种方式检测β和/或不对称值的变化，并当β和/或不对称值的变化量显著时改变评价函数，可以使用在光记录介质10上记录信息的时刻具有最高可控制性的评价函数，调整激光的输出强度。因此，可以在光记录介质10的全部区域上执行具有高品质的稳定记录过程。
特别地，由于预先准备多个评价函数，因此即使光记录介质10具有制造分散，也可以应用对于该分散适合的记录过程。
当根据新的评价函数恢复在光记录介质10上的记录过程时，输出的激光强度可能突然发生变化，并使得记录特性恶化。因此，输出的激光强度低速变化。
控制处理器15重复从步骤S6到步骤S12的处理步骤，并当在步骤S7检测到记录过程结束时结束该处理。
现在，参照图6详细描述在存储器17中仅仅预先存储一个评价函数时，在光记录介质上的信息记录过程。需要注意的是，假定在由控制部分预先设定的预定时刻执行对记录处理过程的中断，这与此前描述的应用多个评价函数的记录过程相似。
首先，光学记录介质记录装置通过在PCA中执行步进写入，在开始光记录介质上的所需信息记录时执行OPC，其中PCA是光记录介质10的试写入区域(步骤T1)。
在步进写入进行的记录过程结束之后，控制处理器15再现在各种条件下写入的测试数据，并根据再现信号计算β和/或不对称值(步骤T2)。
控制处理器15指定激光强度，借助于此从计算出的β和/或不对称值得到的最佳记录状态(步骤T3)。然后，控制处理器15指定可以用来输出指定强度的激光的评价函数的目标值(步骤T4)。
此后，控制处理器15将要从光拾取部分12输出的激光的强度设置为OPC指定的强度，并开始在光记录介质10上记录所需信息的过程(步骤T5)。
在记录过程结束之前，控制处理器15执行运行OPC，并根据评价函数控制激光强度。如果不再有要被记录的信息，则控制处理器15结束记录过程(步骤T6)。
另一方面，当预先设定的预定时刻在记录处理状态中到来时，控制处理器15中断记录过程(步骤T7)。
如果在步骤T7中记录过程被中断的时刻没有到来，则控制处理器15将处理返回至步骤T5以继续运行OPC。
如果记录过程在步骤T7被中断，则控制处理器15再现在中断之前记录在光记录介质10上的信息(步骤T8)。然后，控制处理器15根据再现信号计算β和/或不对称值(步骤T9)。
然后，如果在步骤T10确定在步骤T9得到的β和/或不对称值落入在步骤T2中得到的β和/或不对称值的允许范围内，则控制处理器15将处理返回至步骤T5以恢复运行OPC。
另一方面，如果在步骤T10确定β和/或不对称值超出允许范围，则控制处理器15改变评价函数。特别地，参照图7，控制处理器15平移在中断之前应用的评价函数，使得如此校正的评价函数可以通过开始记录过程时的运行OPC目标值和中断后通过测量计算出的β值之间的交叉点。
然后，控制处理器15设定已校正的评价函数，将其作为新的目标值，由于该校正的评价函数，校正评价函数的β值变得与在步骤T2得到的值相等(步骤T11)。
然后，控制处理器15将处理返回至步骤T5，从而根据新的目标值的控制目标值恢复运行OPC。
以这种方式，在准备一个评价值的情况下，通过根据β值平移评价函数来调整可用于获得期望β值的控制目标值，可以在光记录介质10的全部区域中执行高品质的稳定的记录过程。
控制处理器15重复从步骤T5到步骤T11的处理步骤，然后当在步骤T6检测到记录过程结束点时结束该处理。
虽然已经应用特定术语说明了本发明的优选实施例，然而所述说明是用于示例的目的，并应该理解可以在不脱离以下权利要求的精神实质和范围的情况下作出改变和变更。
权利要求
1.一种光记录介质记录装置，包括光拾取部分，配置成向光记录介质照射激光以在光记录介质上记录信息或从中再现信息；控制部分，配置成控制所述光拾取部分；以及存储部分，配置成预先存储评价函数，所述评价函数用于当将要在光记录介质上记录信息时，响应于激光的反射光来调整激光强度；其中所述控制部分可用于在记录过程的中途，中断在光记录介质上记录信息的过程，并再现在中断之前记录的信息，然后根据再现时反射光的检测结果调整评价函数。
2.根据权利要求1的光记录介质记录装置，其中在所述存储部分中预先存储多个评价函数，所述控制部分通过根据再现时反射光的检测结果选择评价值之一来调整评价函数。
3.根据权利要求2的光记录介质记录装置，其中，在执行在光记录介质上的信息记录过程之前，所述控制部分使得多个测试数据记录在光记录介质上提供的试写入区域中，同时改变激光强度，并且不管光记录介质的类型，使用存储在所述存储部分中的评价函数中预定的一个评价记录状态，并根据再现测试数据时反射光的检测结果，确定当执行在光记录介质上的信息记录过程时激光的强度。
4.根据权利要求2的光记录介质记录装置，其中，在执行在光记录介质上的信息记录过程之前，所述控制部分使得多个测试数据记录在光记录介质上提供的试写入区域中，同时改变激光强度，并使用存储在所述存储部分中的预定评价函数中与光记录介质的类型相对应的评价函数评价记录状态，并根据再现测试数据时反射光的检测结果，确定当执行在光记录介质上的信息记录过程时激光的强度。
5.根据权利要求1的光记录介质记录装置，其中所述控制部分通过产生校正评价函数来调整评价函数，所述校正评价函数通过根据再现时反射光的检测结果、借助于评价函数的平移或类似手段来校正评价函数而得到。
6.根据权利要求1到5中的任一个的光记录介质记录装置，其中当激光强度超出预定范围时，所述控制部分通过根据评价函数调整激光强度而中断记录过程，所述预定范围与开始在光记录介质上记录信息的时刻的激光强度相对应。
全文摘要
本申请公开了一种光记录介质记录装置，包括光拾取部分，配置成向光记录介质照射激光以在光记录介质上记录信息或从中再现信息；控制部分，配置成控制光拾取部分；以及存储部分，配置成预先存储评价函数，所述评价函数用于当将要在光记录介质上记录信息时，响应于激光的反射光来调整激光强度；控制部分可用于在记录处理过程的中途中断在光记录介质上记录信息的过程，并再现在中断之前记录的信息，然后根据再现时反射光的检测结果，调整评价函数。
文档编号G11B7/09GK101034566SQ20071010062
公开日2007年9月12日 申请日期2007年1月25日 优先权日2006年1月25日
发明者山本拓矢 申请人:索尼株式会社