专利名称：用于生成光盘的母盘的制作方法
技术领域：
本发明涉及用于制造光盘的母盘的制作方法，其中该光盘是一种光记录/再现介质。
通常，高密度光盘如数字通用盘(DVD)-随机存取存储器(RAM)包括槽(groove)1和槽脊(land)2，其中信息沿螺旋式轨道记录，如
图1所示。因此凹坑3分别形成在槽1和槽脊2上，从而在其上面记录期望的信息。由于同时使用槽1和槽脊2，所以与只在槽或在槽脊上记录的普通光盘相比，可以以高密度记录更大量的信息。
光盘通过图2A至2D所示的过程制作。如图2A所示，光敏电阻20镀在衬底10上，然后在旋转衬底10时，按照槽，槽脊和凹坑的图形，用生成槽的激光器30和生成凹坑的激光器30′同时照射光敏电阻20表面，使光敏电阻20曝光。参考数字31和31′表示用于接通/断开激光器的调制器。
接着，如图2B所示，蚀刻剂喷涂在曝光的衬底10上，从而制作出其上形成有槽、槽脊和凹坑的母盘15。
母盘15经压模处理生成如图2C所示的父模25，然后通过注模法拷贝光盘，其中树脂35被注入到装有父模25的模件40中，如图2D所示。
在上述方法中，由于槽脊，槽和凹坑的图形通过曝光然后同时蚀刻形成在光敏电阻层上，所以槽脊，槽和凹坑间的边界不尖锐。于是，在再现光盘信息期间，信息信号的起点和终点不能精确检测，从而增大输出信号不能及时产生的抖动误差。
本发明的目的是提供生产用于形成光盘的母盘的方法，根据这种方法可以高密度记录大量信息并减少抖动误差。
要实现上述目的，本发明的母盘制作方法包含下列步骤在衬底上镀第一光敏电阻层；根据分别对应于槽和槽脊的槽形凹口和槽脊形凸起，使第一光敏电阻层曝光；蚀刻衬底和第一光敏电阻层，从而在衬底上形成槽形凹口和槽脊形凸起；在衬底上镀第二光敏电阻层，从而形成槽和槽脊；根据记录预定信息的凹坑图形使第二光敏电阻层曝光；和蚀刻第二光敏电阻层，从而在槽和槽脊上形成凹坑。
这里衬底是用二氧化硅制造的。
通过参考附图详细描述其优选实施方案，本发明的上述目的和优点将变得更加明显图1是部分地表示现有光盘的透视图；图2A至图2D是说明现有光盘生产过程的视图；图3至图6是根据本发明说明母盘制作方法的视图；图7是根据本发明说明母盘制作方法的流程图。
参照图3至图6以及图7，将描述根据本发明实施方案的母盘制作方法。如图3所示，在步骤300中，第一光敏电阻层110镀在衬底100上。这里衬底是用二氧化硅制成的。然后，在旋转衬底100(步骤310)时，第一光敏电阻层110在激光束210下曝光。这时，第一光敏电阻层110被曝光的图形对应于下述的槽101(见图5)和槽脊102。
在步骤320中，曝光的衬底100通过活性离子蚀刻法进行蚀刻，然后去掉第一光敏电阻层110。因此，如图4所示，分别对应于槽101和槽脊102的槽形凹口101′和槽脊形凸起102′形成在二氧化硅衬底100上。
接着，第二光敏电阻层120镀在二氧化硅衬底100上，如图5所示(步骤330)。这时，第二光敏电阻层120以相同厚度镀在沿槽形凹口101′和槽脊形凸起102′的表面上。于是，槽101和槽脊102通过镀第二光敏电阻层120成形。
至于凹坑的形成，可按照凹坑的图形，用激光照射第二光敏电阻层120，使其曝光以便形成凹坑。凹坑图形形成在槽101和槽脊102上。例如，通过对激光反射镜如镀锌镜(galvano mirror)的微调，可使激光束精确地跟踪槽101和槽脊102。
然后，在步骤350中，蚀刻第二光敏电阻层120，从而在第二光敏电阻层120的槽101和槽脊102上形成凹坑103，如图6所示。因此，母盘的制作完成。
根据本发明，衬底和第二光敏电阻层分别地单独蚀刻，从而在槽，槽脊和凹坑间实现尖锐边界。
用上述母盘以上述方式压制光盘。
通过以下实例，本发明的效果将更为明显。
(实例)按传统工艺生产的母盘(a)和(b)，分别具有容量10兆字节和15.12兆字节。根据本发明生产的母盘(c)和(d)具有深度为λ/6η的槽，其中‘λ’表示再现激光的波长，而‘η’表示光盘的折射率，和深度为λ/4n的凹坑，其中n=1,2,3…。另外，具有波长为430纳米的蓝色激光用做曝光激光器。母盘(a)至(d)以槽角和抖动误差比示于表1。
这里，槽角是槽的一个侧面和盘的水平面间的夹角。(表1)
如表1所示，母盘(a)和(b)的槽角约为50°，而母盘(c)和(d)的槽角约为80°。即，母盘(c)和(d)形成更尖锐的槽角。另外，根据本发明的关于母盘的抖动误差比减至现有母盘的一半。
根据本发明的上述生产方法，在槽，槽脊和凹坑间的边界是尖锐和明显的，从而改进信息记录和再现的特性并实现信息的高密度记录。
权利要求
1．一种制作母盘的方法，包括下列步骤在一衬底上镀第一光敏电阻层；根据分别对应于槽和槽脊的一槽形凹口和一槽脊形凸起的图形使第一光敏电阻层曝光；对衬底和第一光敏电阻层进行蚀刻，从而在衬底上形成槽形凹口和槽脊形凸起；在衬底上镀第二光敏电阻层，从而形成槽和槽脊；根据其中记录有预定信息的凹坑的图形，使第二光敏电阻层曝光；和对第二光敏电阻层进行蚀刻，从而在槽和槽脊上形成凹坑。
2．按照权利要求1的方法，其中，用活性离子蚀刻法进行蚀刻。
3．按照权利要求1的方法，其中衬底是用二氧化硅制造的。
全文摘要
一种生产母盘的方法,包括下列步骤:在一衬底上镀第一光敏电阻层;根据分别对应于槽和槽脊的一槽形凹口和一槽脊形凸起的图形使第一光敏电阻层曝光;蚀刻衬底和第一光敏电阻层,从而在衬底上形成槽形凹口和槽脊形凸起;在衬底上镀第二光敏电阻层,从而形成槽和槽脊;根据记录预定信息的凹坑图形对第二光敏电阻层曝光;并蚀刻第二光敏电阻层,从而在槽和槽脊上形成凹坑。
文档编号G11B7/26GK1211786SQ9810552
公开日1999年3月24日 申请日期1998年3月12日 优先权日1997年9月12日
发明者卢明道, 尹斗燮, 郑承台 申请人:三星电子株式会社