晶圆研磨用定位环的制作方法

文档序号:6887743阅读:542来源:国知局
专利名称:晶圆研磨用定位环的制作方法
技术领域
本实用新型涉及一种研磨用夹具,特别有关一种研磨定位环。
如图1-4所示,新型第172349号专利案定位环1之环体2,系由极佳之承载性及耐磨性与耐化学品腐蚀性之聚苯档硫(Polyphenylene sulfidePPS)晶状塑胶一体成型,为正圆形无端环,内径配合待研磨晶圆之外径,用以套合待研磨之晶圆周边定位(图上未示),两者无间隙存在,故环体的旋转中心即为晶圆的旋转中心,且旋转时不致产生位移。环体周壁上有贯穿周壁等角度排列之复数个横向出水孔3,用以出水。本实施例之出水孔3各间隔90°共四个。环体2外周壁顶缘设有同体适当宽度与高度之环形凸缘4,该环形凸缘4上,设有复数个等距离环形排列配合螺护套5压入固定之凹孔6,用以压入配合之螺护套5固定。本实施例之凹孔6各相距30°环形排列共12个,用以分别各压入螺护套5定位。该环形排列之复数个螺护套5位置必需十分正确,用以结合驱动件定位(图上未示),同时用电脑测定旋转中心。
原专利案之晶圆研磨定位环1,系针对保持於适当研磨压力下旋转定位环1带动其中的晶圆旋转,在与以适当相对速度作相对运动的研磨盘研磨剂上,作第一次研磨过程与第二次精研磨过程,两者皆可使用,且避免於第二次精研磨过程中不致破坏第一次研磨成果。
本实用新型的主要目的,是要提供一种新的晶圆研磨用定位环,将上述前案晶圆研磨定位环构造作更进一步设计,在环体下缘增设复数个斜锥状废物槽,用以利用环体研磨旋转时之离心力甩出研磨所产生废物。
本实用新型之其他目的、构造及功能,将参照实施例之图式详细地说明。
本实用新型的目的是这样实现的一种晶圆研磨用定位环,包括有一环体,为正圆形无端环,内径配合待研磨晶圆的外径,用以套合待研磨晶圆,带动晶圆同心旋转;所述环体外周壁顶缘有同体适当宽度与高度的环形凸缘,所述环形凸缘上有复数个等距离环形排列的凹孔,用以分别压嵌入配合之螺护套;一螺护套,配合所述环体环形凸缘上复数个凹孔数量,用以分别压嵌入所述凹孔定位;一出水孔,有复数个,设於所述环体周壁上并贯穿周壁,用以出水;其特征在於所述环体下缘有复数个凹入环体的废物槽,该废物槽是内端封闭渐趋扩大至外周缘而呈斜锥状,用以利用前述晶圆研磨定位环旋转时离心力,将研磨所产生废物经该废物槽甩出。以及所述复数个斜锥状废物槽是以等分等角度设置。
所述复数个斜锥形废物槽的一侧壁与离心力方向一致或相交,另一侧壁与上述侧壁形成一设定夹角。
所述环体是由具极佳的承载性及耐磨性与耐化学品腐蚀性的晶状塑胶一体成形。
本实用新型与前案相比较,所不同者是在环体下缘,增设有复数条凹入环体的废物槽,该废物槽贯穿环体外周缘与内周缘之间,用以在晶圆研磨定位环旋转时,利用其旋转产生之离心力,经过该废物槽甩出研磨所产生废物,可使研磨表面质量提高。


图1为本实用新型前案斜视立体图;图2为图1中II-II位置剖面图;图3、4为图2的局部放大图;图5为本实用新型的正面斜视立体图;图6为图5反面斜视立体图;图7为本实用新型另一实施例的废物槽形状示意图。件号对照1定位环 2环体 3出水孔4环形凸缘5螺护套6凹孔7废物槽 8内周缘9外周缘10弧形端如图7所示,本实用新型之研磨定位环1下缘复数个废物槽7,系配合研磨定位环1使用时旋转离心力方向设置,可为配合离心力方向之其他各种形状之斜锥形,均可达到相同的效果。
权利要求1.一种晶圆研磨用定位环,包括有一环体,为正圆形无端环,内径配合待研磨晶圆的外径,用以套合待研磨晶圆,带动晶圆同心旋转;所述环体外周壁顶缘有同体适当宽度与高度的环形凸缘,所述环形凸缘上有复数个等距离环形排列的凹孔,用以分别压嵌入配合的螺护套;一螺护套,配合所述环体环形凸缘上复数个凹孔数量,用以分别压嵌入所述凹孔定位;复数个出水孔,设於所述环体周壁上并贯穿周壁,用以出水;其特征在于所述环体下缘有复数个凹入环体的废物槽,该废物槽是内端封闭渐趋扩大至外周缘而呈斜锥状,用以利用所述晶圆研磨定位环旋转时离心力,将研磨所产生废物经该废物槽甩出。
2.如权利要求1所述晶圆研磨用定位环,其特征在于所述复数个斜锥状废物槽是以等分等角度设置。
3.如权利要求1所述晶圆研磨用定位环,其特征在于所述复数个斜锥形废物槽的一侧壁与离心力方向一致或相交,另一侧壁与上述侧壁形成一设定夹角”。
4.如权利要求1所述晶圆研磨用定位环,其特征在于,所述环体是由具极佳的承载性及耐磨性与耐化学品腐蚀性的晶状塑胶一体成形。
专利摘要一种晶圆研磨用定位环,包括有一环体,为正圆形无端环,内径配合待研磨晶圆的外径,用以套合待研磨晶圆,带动晶圆同心旋转;所述环体外周壁顶缘有同体适当宽度与高度的环形凸缘,所述环形凸缘上有复数个等距离环形排列的凹孔,用以分别压嵌入配合的螺护套;还有一螺护套,配合所述环体环形凸缘上复数个凹孔数量,用以分别压嵌入所述凹孔定位;及复数个出水孔,设於所述环体周壁上并贯穿周壁,用以出水;其改进部分在於所述环体下缘有复数个凹入环体的废物槽,该废物槽是内端封闭渐趋扩大至外周缘而呈斜锥状,用以利用所述晶圆研磨定位环旋转时离心力,将研磨所产生废物经该废物槽甩出。
文档编号H01L21/68GK2517110SQ0127931
公开日2002年10月16日 申请日期2001年12月24日 优先权日2001年12月24日
发明者陈水源, 陈水生, 陈添丁 申请人:陈水源, 陈水生, 陈添丁
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