专利名称：全自控无级调压双无级变速高精度研磨抛光机的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种机械设备，特别是一种用于人工晶体、金相样品制备的全自控无级调压双无级变速高精度研磨抛光机。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的全自控无级调压双无级变速高精度研磨抛光机，包括有机架、防护罩、载样盘、研磨盘。载样盘安装在立式载样盘电机轴上的联轴器上，载样盘电机与安装在导柱、导套上的加压臂相连接，在载样盘上安装有快换卡头，载样盘的两侧设有调整其工作位置的可调位紧定手柄，载样盘的右侧设有显示器，显示器上安装有指示灯，指示灯下面设有左右翻页键、增减按键、研磨盘按键、载样盘按键、工作定时按键，显示器下部还设有压力表及调压旋钮。在载样盘的下部设有研磨盘，在研磨盘的底部连接有传动机构。机架为钢制结构，其上设有绿色按钮开关及红色按钮开关。研磨盘安装在防护罩内。
本发明的优点与积极效果为1.样件固定在专用载样盘上利用快换卡头，可方便的安装在装有弹性联轴器的载样盘电机上，工作时可避免因刚接触研磨盘面产生冲击而损坏样件的情况发生。
2.样件接触研磨抛光时，通过气缸横臂施加压力，压力大小可预先设置亦可在工作时随时调整，最大可达700N，无级调整能满足不同人工晶体和金相样品研磨抛光要求。
3.工作时研磨盘转速在50～300r/min，载样盘转速在50～250r/min范围内无级调整，可以先预置，亦可在工作时随时调整。
4.工作时间可在0～99h范围内任意设置，自动研磨抛光，到时停机。
5.机架结构采用优质型钢焊接而成，强度大、刚性好。
6.核心件采用不锈钢精密加工而成。
7.全部气动件、电气元件性能可靠，经久耐用。
以上操作完成后，按动左右翻页键(12)，使显示器(14)显示研磨盘转速状态后，按动研磨盘按键(16)，键上方指示灯(15)亮，安装在防护罩(2)内的研磨盘(4)开始转动，观察研磨盘(4)的转速是否合适，以便进行调整。研磨盘(4)下部与传动机构(6)相连接，用于调整研磨盘(4)的位置，传动机构(6)为三角皮带传动。再按动一次研磨盘按键(16)，指示灯(15)灭，研磨盘(4)停止转动。再按动左右翻页键(12)，使显示器(14)显示载样盘转速状态，按动载样盘按键(17)，键上方指示灯(15)亮，载样盘(3)开始转动，观察载样盘(3)的转速是否合适，以便进行调整。再按动一次载样盘按键(17)，指示灯(15)灭，载样盘(3)停止转动。在研磨盘按键(16)、载样盘按键(17)两键上的指示灯熄灭的状态下，按动工作定时按键(19)，键上方指示灯(15)亮，转动调压旋钮(11)增在压力至使安装在导柱、导套上的加压臂(5)能够带动载样盘(3)下行，设备开始运行倒计时，运行时间结束，三个指示灯熄灭，研磨盘(4)、载样盘(3)停止转动，加压臂(5)带动载样盘(3)自动升起，工作结束。如果在工作中出现死机，须按动安装在机架(1)上的红色按钮开关(9)，程序重新操作。
样件需抛光时，将研磨盘取下，换上抛光盘，按上述步骤操作即可。
载样盘(3)工作时，压在研磨盘(4)上的位置需要调整时，可拧松可调位紧定手柄(18)，水平移动载样盘电机至合适位置后，将可调位紧定手柄(18)旋紧即可。
本发明中的研磨盘为铸铁制成，抛光盘为铸铝制成，载样盘为不锈钢制成。
权利要求
1.全自控无级调压双无级变速高精度研磨抛光机，包括有机架、防护罩、载样盘、研磨盘，其特征在于所述的载样盘(3)安装在立式载样盘电机轴上的联轴器上，载样盘电机与安装在导柱、导套上的加压臂(5)相连接，在载样盘(3)上安装有快换卡头，载样盘(3)的两侧设有调整其工作位置的可调位紧定手柄(18)，载样盘(3)的右侧设有显示器(14)，显示器(14)上安装有指示灯(15)，指示灯(15)下面设有左右翻页键(12)、增减按键(13)、研磨盘按键(16)、载样盘按键(17)、工作定时按键(19)，显示器(14)下部还设有压力表(10)及调压旋钮(11)；在载样盘(3)的下部设有研磨盘(4)，在研磨盘(4)的底部连接有传动机构(6)。
2.如权利要求1所述的全自控无级调压双无级变速高精度研磨抛光机，其特征在于机架(1)为钢制结构，其上设有绿色按钮开关(8)及红色按钮开关(9)。
3.如权利要求1所述的全自控无级调压双无级变速高精度研磨抛光机，其特征在于研磨盘(4)安装在防护罩(2)内。
全文摘要
本发明涉及一种机械设备，特别是一种用于人工晶体、金相样品制备的全自控无级调压双无级变速高精度研磨抛光机。全自控无级调压双无级变速高精度研磨抛光机，包括有机架、防护罩、载样盘、研磨盘。载样盘安装在立式载样盘电机轴上的联轴器上，载样盘电机与安装在导柱、导套上的加压臂相连接，在载样盘上安装有快换卡头，载样盘的两侧设有调整其工作位置的可调位紧定手柄。在载样盘的下部设有研磨盘，在研磨盘的底部连接有传动机构。这种研磨抛光机可对人工晶体、陶瓷、金相样品制备进行研磨抛光。
文档编号H01L21/304GK1462666SQ03133828
公开日2003年12月24日 申请日期2003年6月27日 优先权日2003年6月27日
发明者江晓平, 张革, 李景春 申请人:沈阳科晶设备制造有限公司