专利名称：控片的库存管理方法
技术领域：
本发明涉及一种控片(Control Wafer)的库存管理方法，尤其涉及一种具有注册(Register)功能与选择(Select)功能的库存管理方法。
背景技术：
在半导体厂中，可通过控片来监控机台情况与产品规格。若以控片的品质来区分，则控片可分为全新控片、制程控片、以及档片(Dummy Wafer)等三大类。全新控片是指尚未用于任何制程的控片，就如同尚未进行任何制程的全新晶圆；制程控片是指已由制程工程师所定义而即将用于某种制程的控片；至于档片，则是由制程控片经过数次降级(Downgrade)后已无法用来监控制程品质的控片。
若以控片实际所适用的制程来区分，则控片可区分为炉管(Furnace)控片、微影(Photo)控片、化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition；CVD)控片、溅镀(Sputter)控片、蚀刻(Etch)控片、化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing；CMP)控片、研磨(Grinding)控片、以及氧化(Oxidation)控片等。以氧化控片为例，其用于氧化制程中。在氧化制程进行时，产品晶圆与控片同时被置于炉管中。当该氧化制程完成后要获得晶圆的厚度信息时，可量测控片的厚度而不需直接量测产品晶圆的厚度，因而可避免损坏产品晶圆。
在早期的晶圆制造厂中，每一片控片独立使用于某一制程中。因此，当某一控片的品质已降低至某一制程的需求以下时，该控片即需以报废处理，因而造成了控片的浪费。
近年来，晶圆制造厂中对于控片的使用则采用以下做法。当某一控片的品质已降低至某一制程的需求以下时，该控片可降级而用于其它对于控片的品质需求较低的制程。请参考
图1所示的现有控片的降级流程(生命周期)的示意图。在图1中，全新控片300代表尚未用于任何制程的控片。材料表(Bill OfMaterial；BOM)a至材料表z则表示全新控片300实际用于各种不同制程时，制程工程师所需建立的不同的控片材料表。也就是说，某一材料表中记录着某一制程所需进行的一连串步骤与所需使用的一连串配方案(Recipe)。材料表a至材料表z彼此间互有如箭号所示的关系存在。也就是说，控片的降级需依据如图1中所示的流程来进行。例如，当选择全新控片300以用于制程中时，由于全新控片300具有最佳的控片品质，因此其需用于对控片品质的要求最高的制程，因而其可具有材料表a、材料表b、或材料表c。以材料表a而言，当具有该材料表a的控片结束制程后，该控片可降级至对应于材料表d、材料表e、或材料表f的不同制程。依此类推，当控片经过数次降级以用于不同制程后，最后其必然会降至最低品质而具有材料表v、材料表w、材料表y、或材料表z。然后，控片即由于品质已降至最低而成为回收控片400。因此，回收控片400为已无法再降级以用于另一制程的控片。然而，回收控片400可通过磨除其表面的各种薄膜以再度成为全新控片300而回收使用。当回收控片400的厚度不足以再次回收使用时，该控片即需以报废来处理。
图2为现有技术中控片管理中各区独立运作的示意图，其可用以说明控片降级转用时置于不同暂存区(Bank)的原理。扩散区控片10、植入区控片20、研磨区控片30、微影区控片40、溅镀区控片50、化学机械抛光区控片60、与化学气相沉积区控片70等用于不同制程区域的控片。值得一提的是，图2中的材料表A至材料表P与图1中的材料表a至材料表z中的每一个材料表(共42个)均是代表特定材料表，而并不需完全相异。例如，材料表A与材料表a可代表相同的材料表，也可分别代表相异的材料表。另外，材料表A与材料表b可代表相同的材料表，也可分别代表相异的材料表。至于，在同一图(如图2)中，不同编号的材料表(如材料表A与材料表B)当然代表不同的材料表。其中，扩散区控片10中具有材料表A的控片与具有材料表B的控片置于第一暂存区11上；而具有材料表C的控片、具有材料表D的控片、与具有材料表E的控片置于第二暂存区12上。同理，在植入区控片20中，具有材料表F的控片置于第三暂存区23上；具有材料表G的控片、具有材料表H的控片、与具有材料表I的控片置于第四暂存区24上；而具有材料表J的控片与具有材料表K的控片置于第五暂存区25上。至于，在微影区控片40中，具有材料表L的控片、具有材料表M的控片、具有材料表N的控片、与具有材料表O的控片置于第六暂存区46上；而具有材料表P的控片置于第七暂存区47上。如图2中所示，所有具有不同材料表A至材料表P的控片均是来自于全新控片300或回收控片400。例如，一全新控片300可置于第二暂存区12上，并赋予材料表C、材料表D、或材料表E，以作为不同用途的控片。同理，另一全新控片300可置于第五暂存区25上，并赋予材料表J或材料表K，以做为不同用途的控片。另外，一回收控片400可置于第四暂存区24上，并赋予材料表G、材料表H、或材料表I，以做为不同用途的控片。
请同时参考图1与图2。图1中的控片的降级流程可说是每片控片的理想行进路径。然而，现有技术控片的材料表的建立方式却有其管理上的问题。如图2中所示，目前每片控片的材料表由制程工程师以簿记的方式来建立，其中该材料表中仅定义控片种类等信息。也就是说，由此制程工程师所建立的材料表中仅能获得该控片即将用于何种制程等信息。因此，不同控片材料表中的信息完全独立而无法相互整合以提供重要的控片库存信息。例如，当具有材料表a的控片完成材料表a中所定义的制程后，究竟应将该控片降级为材料表d、材料表e、或材料表f，只能凭借制程工程师的经验，而无法考虑材料表d、材料表e、与材料表f的对应机台对控片的实际需求数量，因而造成某些制程区域的控片数量短缺，而其它制程区域的控片数量则过剩。
综上可知，所述现有技术的控片的库存管理方法，在实际使用上，显然存在不便与缺陷，所以有必要加以改进。
发明内容
针对上述的缺陷，本发明主要目的在于，提供一种控片的库存管理方法，其中整合所有控片材料表的信息以平衡各站的控片的用量。
本发明的另一目的在于，提供一种控片的库存管理方法，可借以将所有控片材料表的信息连结至信息技术系统。
本发明的再一目的在于，提供一种控片的库存管理方法，可借以减少控片的用量。
根据本发明的上述目的，提出一种控片的库存管理方法。在本发明一较佳实施例中，该控片的库存管理方法至少包括下列步骤。首先，将一种类的一控片登入于一数据库中，借以更新该数据库中上述种类的一控片库存量。接着，将控片用于一制程中。然后，将该控片注销数据库，借以更新数据库中上述种类的控片库存量。此外，本发明中的上述注销步骤之后还包括根据数据库中其它种类的控片库存量与上下级关系将该控片降级为另一种类。
因此，应用本发明可整合所有控片材料表的信息以平衡各站的控片的用量；此外，应用本发明可借以将所有控片材料表的信息连结至信息技术系统；再者，应用本发明可借以减少控片的用量。
附图简要说明下面结合附图，通过对本发明的较佳实施例的详细描述，将使本发明的技术方案及其他有益效果显而易见。
附图中，图1为现有控片的降级流程(生命周期)的示意图；图2为现有控片管理中各区独立运作的示意图；图3为本发明一较佳实施例的控片的库存管理方法中注册与选择下一材料表或暂存区功能的示意图；图4为本发明一较佳实施例的控片的库存管理方法的示意图。
具体实施例方式
下文，将详细描述本发明。
本发明提供一种具有注册功能与选择功能的控片的库存管理方法。图3为本发明一较佳实施例的控片的库存管理方法中注册与选择下一材料表或暂存区功能的示意图。如图3中所示，本发明中的某一控片在进入某一暂存区时，具有注册与选择下一材料表的功能；而当赋予某一控片一材料表时，该材料表同样具有注册与选择下一暂存区的功能。在图3中，每个暂存区中与每个材料表中的注册与选择功能分别以椭圆形与长方形来表示。例如，一控片在进入第六暂存区46时，具有注册功能110与选择功能115；而当赋予该控片材料表L时，该材料表L具有注册功能120与选择功能125；且该控片在进入第五暂存区25时，具有注册功能130与选择功能135。以下即以第六暂存区46、材料表L、与第五暂存区25三者间的关系来说明本发明中的注册与选择功能。
在现有控片的库存管理方法中，各制程区域的控片各自独立运作。因此，当属于微影区控片40的具有材料表L的一控片完成材料表L中所定义的制程后，由控片管理人员凭经验法则来决定该控片接下来究竟需降级至哪一个不同制程的暂存区，例如属于植入区控片20的第四暂存区24或第五暂存区25，而未能考虑上下级的供需关系。至于，本发明的控片的库存管理方法中由于具有注册与选择功能，使得控片管理人员能从信息技术系统的计算机屏幕上清楚得知每一种控片的存量与所在位置，因而使一控片在降级时能在上下级供需关系的前提下前往下一个最适合的制程位置。图3中虚线箭号即表示本发明中的注册与选择功能所建立的整合控片库存量上下级供需关系。以第六暂存区46、材料表L、与第五暂存区25三者之间的关系为例，当一控片进入第六暂存区46时，注册功能110即可实现更新信息技术系统中第六暂存区46中的控片库存量。也就是说，第六暂存区46的控片库存量需加1。接着，以选择功能115来定义该控片的材料表为材料表L、材料表M、材料表N、或材料表O的其中一种。然后，若该控片的材料表为材料表L，则利用注册功能120将该控片登入信息技术系统中，并更新信息技术系统中第六暂存区46的控片库存量(减1)与具有材料表L的控片数量(加1)。接着，该控片可被用于材料表L中所定义的制程中。当该制程完成后，将将该控片注销信息技术系统，并接着以选择功能125来选择该控片即将前往的另一暂存区，如第四暂存区24或第五暂存区25。若为第五暂存区25，则当该控片进入第五暂存区25时，注册功能130即可以更新信息技术系统中具有材料表L的控片数量(减1)与第五暂存区25中的控片库存量(加1)。然后，以选择功能135来定义数种材料表的其一。所以，如上所述，运用本发明中的注册与选择功能，可使控片管理员在对控片进行降级的动作时，能充分考虑各种控片的上下级供需关系。
图4为本发明一较佳实施例的一种控片的库存管理方法的示意图。原始控片材料表500代表各种不同用途的控片在降级过程中于各站所具有的原始材料表。也就是说，原始控片材料表500中具有如图1中所绘示的材料表a至材料表z。值得一提的是，该材料表a至材料表z中的a至z的编号仅是用于区别控片用于不同制程时所具有的不同材料表，而并非用来表示制程的先后顺序。
另外，全新控片300为具有材料表a至材料表z的所有不同种类的控片的来源，而回收控片400则为已无法再降级以用于另一制程的控片。其中，回收控片400可通过磨除其表面的各种薄膜以再度成为全新控片300而回收使用。然而，当历经回收控片400成为全新控片300的数次循环后，回收控片400的厚度将不足以再次回收使用，则需作报废处理。
本发明的特征在于，可通过注册功能510而将原始控片材料表500中各自独立的控片材料表信息(材料表a至材料表z)整合于一数据库系统中，其中该数据库系统例如可为信息技术系统600。上述注册功能510包括登入步骤与注销步骤。其中，每一片控片的注销步骤可于结束该控片的某一制程后进行，然后该控片再进行下一回合的注册操作。
通过注册功能510，可将原始控片材料表500中各自独立的控片材料表信息整合于信息技术系统600。也就是说，原始控片材料表500中原本各自独立运作的材料表a至材料表z经整合于信息技术系统600后，已转换为整合控片库存520，其中包括具有材料表a的控片库存量521、具有材料表b的控片库存量522、与具有材料表c的控片库存量523等。此外，整合控片库存520中还包括每种材料表a至材料表z间的上下级关系。因此，经上述注册功能510后，由于材料表a至材料表z的信息已整合于信息技术系统600中，因该材料表a至材料表z已不再是各自独立的控片材料表信息，而是彼此间互有关联的整合控片材料表信息。
接着，可参考整合控片库存520中的库存信息与上下级关系，而在降级步骤530中决定究竟应将一控片降级成具有哪一种材料表的控片，其中该降级步骤530可通过例如材料需求计划(Material Requirement Planning；MRP)系统等软件系统来达成。然后，当某一控片完成某一制程后，可通过将该控片注销信息技术系统600而达到调整库存540的目的。
因此，运用本发明的控片的库存管理方法可将不同控片材料表中的信息完全整合以提供重要的控片库存信息以及上下级关系。例如，当具有材料表a的控片完成材料表a中所定义的制程后，信息技术系统600的计算机屏幕上可显示材料表d、材料表e、以及材料表f的控片库存量等相关信息，因而可决定究竟应将具有材料表a的控片降级为材料表d、材料表e、或材料表f。
由上述本发明较佳实施例可知，应用本发明可整合所有控片材料表的信息以平衡各站的控片的用量。
此外，由上述本发明较佳实施例可知应用本发明，可借以将所有控片材料表的信息连结至信息技术系统。
再者，由上述本发明较佳实施例可知应用本发明，可借以减少控片的用量。
可以理解的是，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。
权利要求
1.一种控片的库存管理方法，其特征在于，至少包括将一种类的一控片登入于一数据库中，借以更新该数据库中该种类的一控片库存量；将该控片用于一制程中；以及将该控片注销该数据库，借以更新该数据库中该种类的该控片库存量。
2.根据权利要求1所述的控片的库存管理方法，其特征在于，该注销步骤之后还包括将该控片置于一暂存区上。
3.根据权利要求1所述的控片的库存管理方法，其特征在于，该注销步骤之后还包括根据该数据库中多个种类的多个控片库存量与一上下级关系将该控片降级为另一种类。
4.根据权利要求3所述的控片的库存管理方法，其特征在于，该降级步骤依据一材料需求计划系统。
5.根据权利要求1所述的控片的库存管理方法，其特征在于，该数据库为一信息技术系统。
6.根据权利要求1所述的控片的库存管理方法，其特征在于，该种类选自于由炉管控片、微影控片、化学气相沉积控片、溅镀控片、蚀刻控片、化学机械抛光控片、研磨控片、以及氧化控片所组成的一族群。
7.一种控片的库存管理方法，其特征在于，至少包括将一种类的一控片登入于一数据库中，借以更新该数据库中该种类的一控片库存量；将该控片用于一制程中；将该控片注销该数据库，借以更新该数据库中该种类的该控片库存量；以及根据该数据库中多个种类的多个控片库存量与一上下级关系将该控片降级为另一种类。
8.根据权利要求7所述的控片的库存管理方法，其特征在于，该注销步骤之后还包括将该控片置于一暂存区上。
9.根据权利要求7所述的控片的库存管理方法，其特征在于，该降级步骤依据一材料需求计划系统。
10.根据权利要求7所述的控片的库存管理方法，其特征在于，该数据库为一信息技术系统。
11.根据权利要求7所述的控片的库存管理方法，其特征在于，该种类选自于由炉管控片、微影控片、化学气相沉积控片、溅镀控片、蚀刻控片、化学机械抛光控片、研磨控片、以及氧化控片所组成的一族群。
全文摘要
一种控片(Control Wafer)的库存管理方法，至少包括下列步骤首先，将一控片登入于一数据库中，借以更新该数据库中同种类控片的控片库存量。接着，将该控片用于一制程中。然后，将该控片注销数据库，借以再度更新该数据库中同种类控片的控片库存量。此外，本发明中的上述注销步骤之后还包括根据数据库中其它种类的控片库存量与上下级关系将该控片降级为另一种类。
文档编号H01L21/00GK1534529SQ03147618
公开日2004年10月6日 申请日期2003年7月9日 优先权日2003年3月31日
发明者赵震霖, 阎卫国, 李俊毅 申请人:台湾积体电路制造股份有限公司