专利名称：产生对准记号的方法
技术领域：
本发明涉及一种产生对准记号的方法以及其光掩模，特别是涉及一种产生可应用于两种不同曝光机的对准记号的方法以及其光掩模。
背景技术：
在半导体工艺的领域之中，光刻工艺已经是制作过程中不可或缺的步骤之一；如业界所公知的，光刻过程包括下列的几个步骤在基板上方涂布光致抗蚀剂，利用光掩模对基板上的光致抗蚀剂进行曝光以定义电子产品对应的电路图案(circuit pattern)，如此才能够对光致抗蚀剂下的基板进行接下来的蚀刻过程，以形成所需的电路图案；当然，一个电子产品的完成，必须重复执行数次上述的步骤，以液晶面板作为例子来说，就有五个光掩模必须进行光刻，来分别完成栅极层(gate electrode，GE)，半导体层(semiconductor，SE)，源极/漏极层(source drain，SD)，接触层(contact hole，CH)，像素电极层(pixelelectrode，PE)五个不同层的电路图案。
如业界所公知的，在执行前述的曝光过程之前，光掩模必须先正确地对准基板，如此才能够使电路图案很准确地投影到基板上。而对准记号(alignment mark)，顾名思义，便是用来支持前述光掩模与基板之间的对准操作。一般来说，前述对应栅极层(第一层)的光掩模，不但具有电子产品所对应的电路图案，还具有预先定义好的对准记号，因此当执行栅极层的曝光操作时，对准记号便会同时经由栅极层的光掩模形成于基板之上；而之后的多个光掩模(譬如前述对应半导体层、源极/漏极层、接触层、像素电极层的各个光掩模)上也已具有预先定义好的对准记号，因此在执行半导体层、源极/漏极层、接触层、像素电极层的曝光操作之前，利用光掩模上面的对准记号去对准先前形成于基板上面的对准记号，如此便可确保曝光操作的精确度。
然而，对准记号在基板上所形成的位置，会直接影响到整个工艺的结果，在此请参阅图1，图1说明了不同位置的对准记号与曝光的图样的相对应关系。首先，对于栅极层(第一层)的曝光操作而言，在实际操作中，第一层的曝光免不了会有变形的现象(如图中曲线100)。
在此假设栅极层光掩模所定义的对准记号欲曝光于预定位置110，但是如前所述，由于第一层的曝光会有变形的现象，因此对准记号在基板形成的位置会比预定位置110更为内缩；因此当其后的数层光掩模要进行曝光时，光掩模上的对准记号便会落于基板上对准记号的外侧，这造成曝光出来的电路图案(如图1中虚线150)也具有内缩的情形。
另一方面，若假设栅极层光掩模所定义的对准记号预定曝光于预定位置120，但也由于变形的现象，对准记号120在基板形成的位置会较为外扩，因此当其后的数层光掩模要进行曝光时，光掩模上的对准记号便会落于基板上对准记号的内侧，这造成曝光出来的电路图案(如图1中虚线160)也具有外扩的情形。
由此可知，对准记号的不同位置，对于电路图案的形成位置会造成误差(如图1中的差量D)；但是由于这五道光掩模的光刻工艺一般都是由同一个曝光机所完成，对于同一机器来说，五道光掩模利用相同的一组对准记号进行曝光，因此曝光出来的电路图案也不会有太大的误差。
但是各液晶面板制造商有时会使用两种不同的曝光机进行液晶面板的工艺。由于生产速度的考虑，业者会考虑以两种曝光机混搭的方式，来生产液晶面板。举例来说，业者可以先利用第一种曝光机(譬如Canon曝光机)完成数道光掩模，再用第二种曝光机(譬如Nikon曝光机)完成其余的数道光掩模。
在此请参阅图2，图2为现有栅极层光掩模200的示意图。由于两种曝光机的规格不同，其对准记号互不相同，并且对应不同曝光机的对准记号，其摆放位置也有所差异；因此在栅极层光掩模进行曝光时，便会把不同曝光机的对准记号形成于玻璃基板的不同位置。如前所述，当两曝光机混搭来制造液晶面板时，前数道光掩模是依第一对准记号210进行曝光，而其余的光掩模则是依第二对准记号220进行曝光，由于不同曝光机对准记号的摆放位置不一，曝光出来的电路图案便会具有相对应的误差；换句话说，电路图案可能会有不同的重叠(overlap)情形。
发明内容
因此本发明的主要目的之一在于提供一种可应用于两种不同曝光机的对准记号的方法以及其光掩模，以解决现有技术中的问题。
根据本发明的一实施例，本发明提供一种在一基板产生对准记号(alignment mark)的方法，该方法包括提供一光掩模，该光掩模定义至少一对准记号组，该对准记号组包含一第一曝光机可使用的一第一对准记号与一第二曝光机可使用的一第二对准记号；以及在该第一曝光机中利用该光掩模以在该基板上产生该第一对准记号以及该第二对准记号；其中该第一对准记号大致上(substantially)紧邻该第二对准记号。
本发明的对准记号组中，对应两机器的对准记号相互紧邻，因此在进行液晶面板的工艺时，不会由于对准记号间的距离过大，而导致电路图案重叠(overlap)偏移过大的情形，换句话说，本发明可以降低电路图案的曝光误差，提高成品率，也使得混搭两机器来制作液晶面板的方式更为可行。
图1说明了不同位置的对准记号与曝光的图样的相对应关系。
图2为现有栅极层光掩模的示意图。
图3为本发明栅极层光掩模的示意图。
图4为图3所示的对准记号组的局部放大图。
简单符号说明
具体实施方式
在以下的说明书中，也利用液晶面板的工艺作为本发明的一实施例。请参阅图3，图3为本发明栅极层光掩模300的示意图。其包括液晶面板的电路图案330以及多个对准记号组340，其中每一对准记号组340也包括一第一对准记号310、一第二对准记号320，该第一对准记号310为Canon曝光机的对准记号，该第二对准记号320为Nikon曝光机的对准记号，而在每一个对准记号组340中，该第一对准记号310与该第二对准记号320都是相互紧邻的。
由于本发明的该第一对准记号310与该第二对准记号320相互紧邻，因此在栅极层光掩模300进行曝光工艺时，在玻璃基板上的该第一对准记号310与该第二对准记号320也会紧邻。该第一对准记号310与该第二对准记号320摆放位置的差距会导致电路图案不同的重叠(overlap)状况；如本发明的该第一对准记号310与该第二对准记号320相互紧邻时，可使该第一对准记号310与该第二对准记号320的间距达到最小。当光掩模必须在不同的曝光机执行曝光操作时，由于该第一对准记号310与该第二对准记号320的位置几乎对应基板上的同一个位置，曝光出来的电路图案也不会有太大的误差，因此，本发明可有效降低电路图案的重叠(overlap)误差。
此外，请参阅图4，图4为图3所示的对准记号组340的局部放大图。一般来说，在进行对准操作时，对于对准记号中的岛区域(island)或是窗区域(window)进行对准；因此如图4所示，本发明的对准记号组340中，该第一对准记号310的岛区域311与记号320的岛区域321紧紧相邻，这样的配置可以使得记号310与记号320的距离达到最小，并且由于该第一对准记号310的岛区域311与该第二对准记号320的岛区域321并没有相互重叠，因此也不会影响到其后各道光掩模对准操作的进行。当然，本发明并未限制两图样的相邻方式，换言之，若欲利用窗区域进行对准，那么也可将两记号的窗区域以相互相邻进行配置，如此的相对应变化，也不违背本发明的精神。
虽然在先前的披露之中，皆以液晶面板的工艺作为本发明的一实施例；然而，本发明并未限制所应用的领域；各种各样的电子产品均可利用本发明的精神，混搭两种不同的曝光机制造之，因此，玻璃基板也为本发明的一实施例，而非本发明的限制，本发明也可实施于一般的晶片(wafer)上，如此的相对应变化，也属本发明的范畴。
此外，各种不同的曝光机均可利用本发明的精神加以混搭，来制作所需的电子产品，如此的相对应变化，也属本发明的范畴。
相比于现有技术，本发明的对准记号组中，对应两曝光机的对准记号相互紧邻，因此在进行液晶面板的工艺时，不会由于对准记号间的距离过大，而导致电路图案重叠(overlap)偏移过大的情形，换句话说，本发明可以降低电路图案的曝光误差，提高成品率，也使得混搭两曝光机来制作液晶面板的方式更为可行。
以上所述仅为本发明的优选实施例，凡依本发明权利要求所做的均等变化与修饰，皆应属本发明的涵盖范围。
权利要求
1.一种在基板上产生对准记号的方法，该方法包括提供光掩模，该光掩模定义至少一个对准记号组，该对准记号组包含第一曝光机可使用的第一对准记号与第二曝光机可使用的第二对准记号；以及在该第一曝光机中利用该光掩模以在该基板上产生该第一对准记号以及该第二对准记号；其中该第一对准记号紧邻该第二对准记号。
2.如权利要求1所述的方法，其中该光掩模定义多个对准记号组，且该光掩模所定义的所有对准记号组中的该第一对准记号皆紧邻该第二对准记号。
3.如权利要求1所述的方法，其中该基板为玻璃基板。
4.如权利要求3所述的方法，其中该玻璃基板适用于液晶面板。
5.如权利要求1所述的方法，其中该第一曝光机为Canon曝光机，且该第一对准记号为Canon曝光机的对准记号。
6.如权利要求1所述的方法，其中该第二曝光机为Nikon曝光机，且该第二对准记号为Nikon曝光机的对准记号。
全文摘要
一种在一基板上产生对准记号的方法，该方法包括提供一光掩模，该光掩模定义至少一个对准记号组，该对准记号组包含一第一曝光机可使用的一第一对准记号与一第二曝光机可使用的一第二对准记号；以及在该第一曝光机中利用该光掩模以在该基板上产生该第一对准记号以及该第二对准记号；其中该第一对准记号大致上紧邻该第二对准记号。
文档编号H01L21/02GK101059660SQ20061007527
公开日2007年10月24日 申请日期2006年4月18日 优先权日2006年4月18日
发明者许汉东 申请人:中华映管股份有限公司