射频cmos集成电感中的接地环结构的制作方法

文档序号:7230526阅读:324来源:国知局
专利名称:射频cmos集成电感中的接地环结构的制作方法
技术领域
本发明涉及一种射频电感元件模型的结构,尤其涉及一种射频CMOS 集成电感中的接地环结构。
背景技术
射频CM0S (互补金属氧化物半导体)集成电感是射频CMOS集成电路 的重要元件之一,其衬底易受噪声干扰而影响整个电路的性能指标。在集 成电感模型中引入接地环可以有效提高集成电感的抗噪声能力。
目前应用的射频元件库中采用的接地环大多为闭合环。根据安培定 律,集成电感的磁场在闭合的接地环上会产生感应电流,造成能量在接 地环上有一部分损耗,从而降低了其电感Q值(品质因数)。0=2^*能 量存储/能量耗散。如果增加接地环直径,使其远离集成电感可以减小寄 生涡流的影响,但是这样会增加电感的面积,从而增加了射频集成电路 的芯片面积。
在业界现已应用的某些RF (射频)工艺库中,有断开接地环金属层 的做法,集成电感的接地环第一层金属(Metall)已断开,但是其p型有 源层(Diff)没有断开,这样在电感周围也会形成微小的寄生涡流。另外 某些设计为了减小闭合接地环对Q值的影响,把接地环放置在距离电感 金属50微米处,这样就增加了电感的面积
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种射频CMOS集成电感中的接地环
结构, 一方面是为了解决射频电感工作时带来的衬底噪声,另一方面是为 了减少常规的接地环带来的较大的涡流效应导致电磁能量耗散,从而在减
小衬底噪声影响的同时保证了一定的射频集成电感Q值。
为解决上述技术问题,本发明提供一种射频CMOS集成电感中的接地
环结构,该接地环由有源区和第一层金属组成,所述的有源区和第一层金
属是断开的,形成接地环断开口。
所述接地环断开口与电感开口的方向相同或相反。 所述的接地环两边断开,形成两个断开口。所述接地环的两个断开口
与电感开口垂直或者水平。
和现有技术相比,本发明具有以下有益效果通过适当设计电感接地
环的结构,把射频集成电感接地环有源区及上层金属设计为不连续环路, 既阻挡了衬底及外界带来的噪声,又防止了接地环感应电流引起的磁能损
耗,保证了一定的电感Q值,并且无需增加射频电感的面积,不会引入额 外的工艺加工成本。


图1是本发明射频CMOS集成电感中的接地环结构的俯视图; 图2是本发明射频CMOS集成电感中的接地环结构的截面图; 图3是本发明射频CM0S集成电感中的接地环结构的参考版图,其中,
图3(a)的接地环断开口与电感开口相反;图3(b)的接地环断开口与电感
开口相同;图3(c)的接地环两边断开。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步详细的说明。
如图1所示,本发明提出一种新型射频CMOS集成电感中的接地环结 构,即通过断开接地环有源区及其上层连线金属(Metall,即第一层金属), 使得电感周围无法形成闭合环路来减小磁场能量在接地环上的损耗,避免 Q值大幅度下降。
如图3所示,本发明一种射频CMOS集成电感中的接地环结构,其接 地环断开口 (即接地环有源区及第一层金属的断开口 )与电感开口的方向 可以相同或相反,例如,图3(a)的接地环断开口与电感开口 (见图l)的 方向相反,图3(b)的接地环断开口与电感开口 (见图l)的方向相同;且 本发明可以断开接地环两边,接地环的两个断开口可以与电感开口垂直或 者水平,例如,如图3(c)所示,接地环的两个断开口与电感开口 (见图1) 水平。
本发明射频CMOS集成电感中的接地环结构的实现工艺方法与常规的 工艺步骤兼容,可只改动电感接地环掩膜版的结构,无需额外增加掩膜版, 如图2所示,具体工艺步骤如下
1. 制作N阱;
2. 在N阱上进行N型(N+)注入;
3. 制作场氧;
4. 制作接触孔(Contact);
5. 淀积第一层金属导线;
6. 制作中间介电层;
7. 制作顶层金属电感。本发明通过断开接地环有源区及其上层连线金属,即把射频集成电感 接地环有源区及上层金属设计为不连续环路,使得电感周围无法形成闭合
环路,以减小磁场能量在接地环上的损耗,从而避免Q值大幅度下降。这 种接地环的优点在于,在提高抗衬底噪声能力的前提下,保证了一定的Q 值,又不额外增加电感的面积,不会额外增加制作成本。
权利要求
1、一种射频CMOS集成电感中的接地环结构,该接地环由有源区和第一层金属组成,其特征在于,所述的有源区和第一层金属是断开的,形成接地环断开口。
2、 根据权利要求1所述的射频CMOS集成电感中的接地环结构,其特 征在于,所述接地环断开口与电感开口的方向相同或相反。
3、 根据权利要求1所述的射频CMOS集成电感中的接地环结构,其特 征在于,所述的接地环两边断开,形成两个断开口。
4、 根据权利要求3所述的射频CMOS集成电感中的接地环结构,其特 征在于,所述接地环的两个断开口与电感开口垂直或者水平。
全文摘要
本发明公开了一种射频CMOS集成电感中的接地环结构,该接地环由有源区和第一层金属组成,所述的有源区和第一层金属是断开的,形成接地环断开口。本发明通过断开接地环有源区及其上层连线金属,使得电感周围无法形成闭合环路,以减小磁场能量在接地环上的损耗,从而避免Q值大幅度下降。本发明在提高抗噪声能力的前提下,保证了一定的Q值,又不额外增加电感的面积,不会额外增加制作成本。
文档编号H01L27/02GK101442048SQ20071009427
公开日2009年5月27日 申请日期2007年11月23日 优先权日2007年11月23日
发明者描 蔡 申请人:上海华虹Nec电子有限公司
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