专利名称：微尘吸附装置及使用此吸附装置的工艺机台的制作方法
技术领域：
本发明关于一种微尘吸附装置及使用此吸附装置的工艺机台；具体而言，本发明是关于一种微尘吸附装置，供吸附工艺机台长时间动作所引起的微尘。
背景技术：
TFT-LCD前段光刻薄膜工艺中的线上厚度量测机(In-line THK)，一般是使用如IAI ISD-CR系列自润轴承等的导引装置作为机台动作的导引。然而，由于导引装置会因长时间动作反复摩擦而引起微尘，并会囤积于导轨金属片表面上，因此当机件动作时，常导致微尘掉落于产品上造成缺陷(defect)，严重影响工艺良率。
为改善发尘的问题，一般是使用磁铁吸附微尘。然而目前线上所使用的磁铁棒，是固定设置于导引装置的下方，采用大面积吸附玻璃基板上的金属粉尘(Metal particle)。但此种方式并未立即针对导引装置运作时产生的发尘状况加以改善，加上涂布上的光致抗蚀剂具有黏性，往往在加热干燥后不易吸附起来，因此无法彻底减少导引装置动作时因反复摩擦所造成的金属粉尘，也未能进一步降低缺陷的发生率。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种微尘吸附装置，供与导引装置配合使用，可立即针对导引装置运作时的发尘状况加以改善，以提升工艺良率。
本发明的另一目的在于提供一种微尘吸附装置及使用此吸附装置的工艺机台，微尘吸附装置设置于导引装置易引起发尘的部位，伴随导引装置的动作以吸附所产生的微尘，而有效控制发尘。
本发明的另一目的在于提供一种工艺机台，设置有微尘吸附装置，可有效避免微尘掉落于产品上造成缺陷的风险，并提升工艺良率。
本发明的微尘吸附装置包含吸附部及定位部，供与导引装置配合使用，导引装置用于牵引移动平台，具有滑动座连结于移动平台下方，移动平台则具有臂部。其中，吸附部设置于滑动座的一侧，定位部则连接吸附部而与臂部相连，当导引装置牵引移动平台而产生微尘，该微尘被吸附部所吸附。
在较佳实施例中，本发明的微尘吸附装置另包含调整部。调整部具有第一端与第二端，第一端连接吸附部，第二端则连接定位部，吸附部及定位部彼此间通过调整部可调整地相连。
其中吸附部包含一种L型构件，具有至少一接孔与第一端铆接，定位部也包含一种L型构件，具有至少一接孔与第二端铆接，通过调整部的校正与微调，可调整导引装置易引起发尘部位与吸附部间的相对位置，以达成最佳的吸附效果。
本发明同时提供一种工艺机台，包含导引装置及微尘吸附装置。导引装置用于牵引移动平台，具有滑动座连结于移动平台下方，移动平台则具有臂部。微尘吸附装置包含吸附部与定位部，吸附部设置于滑动座的一侧，定位部连接吸附部而与臂部相连，其中当导引装置牵引移动平台而产生微尘，该微尘被吸附部所吸附。
根据上述方案，本发明相对于现有结构的效果是显著的本发明的微尘吸附装置及工艺机台，可立即针对导引装置运作时的发尘状况加以改善，能提升工艺良率。本发明的微尘吸附装置及使用此吸附装置的工艺机台，微尘吸附装置设置于导引装置易引起发尘的部位，伴随导引装置的动作以吸附所产生的微尘，而有效控制发尘。本发明的工艺机台，设置有微尘吸附装置，可有效避免微尘掉落于产品上造成缺陷的风险，并提升工艺良率。
图1为本发明微尘吸附装置及使用此装置的工艺机台的元件立体分解图。
图2a为本发明微尘吸附装置与导引装置接合的组合立体图。
图2b为本发明微尘吸附装置与导引装置的动作示意图。
图2c为本发明微尘吸附装置与导引装置另一实施例的示意图。
图3为本发明微尘吸附装置与导引装置接合的侧视图。
图4为本发明微尘吸附装置及使用此装置的工艺机台另一较佳实施例的元件立体分解图。
图5a为本发明微尘吸附装置与导引装置接合另一较佳实施例的组合立体图。
图5b为本发明微尘吸附装置与导引装置接合另一较佳实施例的侧视图。
主要元件符号说明100工艺机台110移动平台111臂部120量测镜头130机身本体200导引装置210滑动座300微尘吸附装置400吸附部410L型构件411接孔420吸附装置421磁性装置500定位部
510L型构件511接孔520磁性装置600调整部610第一端620第二端具体实施方式
本发明提供一种微尘吸附装置，供与导引装置配合使用，可立即针对导引装置运作时的发尘状况加以改善，以提升工艺良率。本发明的微尘吸附装置及使用此吸附装置的导引装置，较佳是通过在导引装置易引起发尘的部位设置微尘吸附装置，使微尘吸附装置可伴随导引装置的动作，吸附所产生的微尘，而有效控制发尘。本发明的微尘吸附装置，较佳是应用于光电产业生产TFT-LCD前段光刻工艺中的线上厚度量测机(In-line THK)内的导引装置。然而在不同实施例中，本发明的微尘吸附装置也可应用于如半导体等或其它相类似的高精密工艺，或是其它需要排除导引装置发尘的工艺。此处所言的导引装置，是指线上厚度量测机(In-line THK)内所使用的自润轴承。然而在不同实施例中，也包含其它机台所使用的其它系列自润轴承。本发明的微尘吸附装置较佳是可适应导引装置外型的不同而有所调整，例如可适应线上厚度量测机内移动平台以及量测镜头所使用不同型式的自润轴承的发尘状况进行改善。此处所言的适应导引装置外型的不同而有所调整，是指水平设置导引装置以牵引移动平台，或垂直设置以牵引量测镜头的情况而言。
图1所示为本发明微尘吸附装置的一较佳实施例。如图1所示，本发明的微尘吸附装置300较佳是与工艺机台100的导引装置200配合使用。在如图1所示的较佳实施例中，工艺机台100包含有机身本体130、移动平台110及导引装置200，移动平台110具有臂部111，导引装置200具有滑动座210连结于移动平台110的下方。如图1所示，微尘吸附装置300较佳是与滑动座210易引起发尘的部位相邻设置。此处所言的易引起发尘的部位，是指滑动座210于导引装置200上长时间往复动作时，易引起发尘并囤积微尘的区域而言，此区域包含但不限于滑动座210的底部，滑动座210的径向侧边以及导引装置200的表面与滑轨部分。在此较佳实施例中，微尘吸附装置300设置于滑动座210与导引装置200相连的一侧边，微尘吸附装置300可伴随导引装置200的动作吸附所产生的微尘并进而有效控制微尘。
如图2a所示，微尘吸附装置300包含吸附部400及定位部500。吸附部400设置于滑动座210的一侧，定位部500连接吸附部400而与臂部111相连。如图2a及图3所示，定位部500较佳是固定设置于臂部111而与滑动座210同步动作。在如图3所示的较佳实施例中，定位部500另包含磁性装置520设置于定位部500的下表面与臂部111的上表面间，定位部500通过磁性装置520而与臂部111磁性相连。然而在不同实施例中，定位部500也可铆接、黏着或以其它的方式固定设置于臂部111上。如图2a的较佳实施例所示，吸附部400进一步包含吸附装置420与滑动座210对应设置，其中吸附装置420包含至少一磁性装置421沿吸附部400渐次设置排列于吸附部400下方。如图2a所示，在此较佳实施例中，至少一磁性装置421包含钕铁硼磁石。然而在不同实施例中，至少一磁性装置421也包含钐钴磁铁、铁氧体磁铁、铝镍钴磁铁或其它材质具有足够磁性以吸附微尘的磁铁。此外在另一较佳实施例中，吸附装置420也包含沿吸附部400的轴向设置抽气装置，以减少微尘掉落于产品上导致缺陷发生的机率。如图2a所示，至少一磁性装置421较佳是呈圆形而渐次排列设置于吸附部400，然而在不同实施例中，至少一磁性装置421也可为方形、矩形、扇形、棒形或其它有利于吸附微尘的形状。此外，在其它实施例中，至少一磁性装置421也可直接形成吸附部400或是使用大面积的单一磁条而连接于吸附部400下方。
如图2a及图3的较佳实施例所示，微尘吸附装置300另包含有调整部600，调整部600是与吸附部400及定位部500可调整地相连。如图2a的较佳实施例所示，调整部600具有第一端610及第二端620，第一端610连接吸附部400，第二端620连接定位部500，吸附部400与定位部500可调整地相连。如图2a所示，定位部500较佳是包含L型构件510，具有至少一接孔511与调整部600的第二端620铆接，吸附部400较佳也包含L型构件410，具有至少一接孔411与调整部600的第一端610铆接。如图2a的较佳实施例所示，调整部600包含至少一板片，分别与吸附部400及定位部500可调整的相接。此处所言的可调整的相接，如图2b所示，是指调整部600与水平夹一角度，吸附部400与定位部500夹调整部600而平行设置，彼此间通过调整部600可交错移动地调整彼此间的距离。然而在不同实施例中，如图2c所示，调整部600也包含直接沿轴向(与水平夹90度)与吸附部400及定位部500可调整的相连，并配合使用弹力点等卡榫结构或棘轮装置等，调整吸附部400及定位部500彼此间的距离以取得最佳的吸附效果。如图3的较佳实施例所示，定位部500至吸附装置420间的距离较佳是介于7～10cm间，移动时微尘吸附装置300与滑动座210间的距离2～5cm，且吸附装置420与导引装置200间的距离1～2.5cm，当导引装置200牵引移动平台110而产生微尘，该微尘被吸附部400所吸附。
图4所示为本发明微尘吸附装置300的另一较佳实施例。如图4的较佳实施例所示，微尘吸附装置300是与量测镜头120的导引装置200配合使用。如图4及图5a所示，微尘吸附装置300挂置于滑动座210的一侧，包含吸附部400及定位部500。定位部500较佳是包含L型构件510，具有至少一接孔511与吸附部400铆接，吸附部400较佳也包含L型构件410，具有至少一接孔411与定位部500铆接。如图4及图5a的较佳实施例所示，微尘吸附装置300较佳是与滑动座210易引起发尘的部位相邻设置。此处所言的易引起发尘的部位，是指滑动座210于导引装置200上长时间往复动作时，易引起发尘的区域而言，此区域包含但不限于滑动座210的底部，滑动座210与导引装置200相连的部位以及导引装置200的滑轨部分。在此较佳实施例中，微尘吸附装置300设置于滑动座210与导引装置200相连的一侧边，微尘吸附装置300可伴随导引装置200的动作吸附所产生的微尘并进而有效控制微尘。
如图4及图5a所示，吸附部400设置于滑动座210的底侧，定位部500连接吸附部400而与滑动座210的顶端相连。如图4及图5a所示，定位部500较佳是挂置于滑动座210的顶端而与滑动座210同步动作。在此较佳实施例中，定位部500另包含设置有磁性装置520(参考图3)，而与滑动座210的顶端磁性相连。然而在不同实施例中，定位部500也可铆接、黏着或以其它的方式固定于滑动座210的顶端上。如图4及图5a的较佳实施例所示，吸附部400进一步包含吸附装置420与滑动座210对应设置，其中吸附装置420包含至少一磁性装置421沿吸附部400渐次设置排列于吸附部400上方。如图4及图5a所示，在此较佳实施例中，至少一磁性装置421包含钕铁硼磁石。然而在不同实施例中，至少一磁性装置421也包含钐钴磁铁、铁氧体磁铁、铝镍钴磁铁或其它材质具有足够磁性以吸附微尘的磁铁。此外在另一较佳实施例中，吸附装置420也包含沿吸附部400的轴向设置抽气装置，以减少微尘掉落于产品上导致缺陷发生的机率。如图4及图5a所示，至少一磁性装置421较佳是呈圆形而渐次排列设置于吸附部400，然而在不同实施例中，至少一磁性装置421也可为方形、矩形、扇形、棒形或其它有利于吸附微尘的形状。此外，在其它实施例中，至少一磁性装置421也可直接形成吸附部400或是使用大面积的单一磁条而连接于吸附部400上方。如图5b所示，在此较佳实施例中，定位部500至吸附部400间的距离较佳是介于9～12cm之间，定位部500与吸附部400长度的比例较佳是介于1/2至1/3之间。如图5b所示，吸附装置420与滑动座间较佳是相距7～15mm，微尘吸附装置300与量测镜头120间的距离较佳是相距3～5mm，当导引装置200牵引移动平台110而产生微尘，该微尘被吸附部400所吸附。
本发明已由上述相关实施例加以描述，然而上述实施例仅为实施本发明的范例。必需指出的是，已揭露的实施例并未限制本发明的范围。相反地，包含于权利要求书的精神及范围的修改及均等设置均包含于本发明的范围内。
权利要求
1.一种微尘吸附装置，供与一导引装置配合使用，其特征是该导引装置牵引一移动平台，具有一滑动座连结于该移动平台下方，该移动平台具有一臂部，该微尘吸附装置包含一吸附部，设置于该滑动座的一侧；以及一定位部，连接该吸附部而与该臂部相连，其中当该导引装置牵引该移动平台而产生微尘，该微尘被该吸附部所吸附。
2.如权利要求1所述的微尘吸附装置，其特征是另包含一调整部，具有一第一端及一第二端，该第一端连接该吸附部，该第二端连接该定位部，该吸附部与该定位部可调整地相连。
3.如权利要求2所述的微尘吸附装置，其特征是该吸附部包含一L型构件，具有至少一接孔与该调整部的该第一端铆接。
4.如权利要求2所述的微尘吸附装置，其特征是该定位部包含一L型构件，具有至少一接孔与该调整部的该第二端铆接。
5.如权利要求3或4所述的微尘吸附装置，其特征是该调整部包含至少一板片，分别与该吸附部及该定位部可调整的相接。
6.如权利要求1所述的微尘吸附装置，其特征是该定位部另包含一磁性装置，与该臂部磁性相连。
7.如权利要求1所述的微尘吸附装置，其特征是该吸附部进一步包含一吸附装置与该滑动座对应设置，其中该吸附装置包含至少一磁性装置沿该吸附部的轴向渐次设置排列。
8.如权利要求7所述的微尘吸附装置，其特征是该至少一磁性装置包含一钕铁硼磁石。
9.如权利要求7所述的微尘吸附装置，其特征是该吸附装置包含一抽气装置沿该吸附部的轴向设置。
10.如权利要求1所述的微尘吸附装置，其特征是该导引装置包含一自润轴承。
11.一种工艺机台，其特征在于，包含一导引装置，该导引装置牵引一移动平台，具有一滑动座连结于该移动平台下方，该移动平台具有一臂部；以及一微尘吸附装置，包含一吸附部，设置于该滑动座的一侧；以及一定位部，连接该吸附部而与该臂部相连，其中当该导引装置牵引该移动平台而产生微尘，该微尘被该吸附部所吸附。
12.如权利要求11所述的工艺机台，其特征在于，该移动平台包含一量测镜头。
13.如权利要求11所述的工艺机台，其特征在于，该导引装置包含一自润轴承。
14.如权利要求11所述的工艺机台，其特征在于，该吸附部包含一L型构件，具有至少一接孔与该定位部铆接。
15.如权利要求11所述的工艺机台，其特征在于，该定位部包含一L型构件，具有至少一接孔与该吸附部铆接。
16.如权利要求11所述的工艺机台，其特征在于，该定位部另包含一磁性装置，与该臂部磁性相连。
17.如权利要求11所述的工艺机台，其特征在于，该吸附部进一步包含一吸附装置与该滑动座对应设置，其中该吸附装置包含至少一磁性装置沿该吸附部的轴向渐次设置排列。
18.如权利要求17所述的工艺机台，其特征在于，该至少一磁性装置包含一钕铁硼磁石。
19.如权利要求17所述的工艺机台，其特征在于，该吸附装置包含一抽气装置沿该吸附部的轴向设置。
全文摘要
本发明提供一种微尘吸附装置及使用此吸附装置的工艺机台。该微尘吸附装置，供与一导引装置配合使用，导引装置用于牵引移动平台，具有滑动座连结于移动平台下方，移动平台则具有臂部；微尘吸附装置包含吸附部及定位部，与导引装置配合使用。其中，吸附部设置于滑动座的一侧，定位部则连接吸附部而与臂部相连，当导引装置牵引移动平台而产生微尘，该微尘被吸附部所吸附。该工艺机台，包含前述导引装置及微尘吸附装置。本发明可立即针对导引装置运作时的发尘状况加以改善，能提升工艺良率。
文档编号H01L21/027GK101055432SQ20071010484
公开日2007年10月17日 申请日期2007年5月22日 优先权日2007年5月22日
发明者林英彻, 江志顺 申请人:友达光电股份有限公司