专利名称：横向扩散金属氧化物晶体管的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种金属氧化物晶体管(Metal Oxide Semiconductor: MOS)，尤其涉及一种横向扩散金属氧化物晶体管(Lateral Diffused MOS, LDMOS)。
背景技术：
随着科技的发展，电子产品的种类越来越多，电子产品中的集 成电路的集成程度也越来越高。而高压电子元件，如横向扩散金属 氧化物晶体管的应用也越来越广，其可应用在电源，电源管理器， 通讯，汽车及工业控制等等。普通的横向扩散金属氧化物晶体管可 参阅IEEE的"Proceedings of 2004 International Symposium on Power Semiconductor Devices&ICs, Kitakyushu，，上发表的论文"Field-plate Effects on the Breakdown Voltage of an Integrated High-voltage LDMOS Transistor"。
目前，静电释放(Electrostatic Discharge, ESD)现象对集成电路 的可靠性构成了极大的威胁。 一般的消费性电子产品要求在人体放 电模式(Human-Body Model, HBM)下能承受的静电释放电压大于 2KV,在机械放电模式(Machine Mode1)下能承受的静电释放电压大 于200V。而普通的横向扩散金属氧化物晶体管无法承受如此大的静 电释放电压，其很容易被人体或机械所带有的静电烧毁。
发明内容
下面将以实施例说明 一种横向扩散金属氧化物晶体管，该横向 扩散金属氧化物晶体管具有良好的抗静电能力。
一种横向扩散金属氧化物晶体管，其包括一第一类型衬底，一 设置在该第 一类型村底上的栅氧化物， 一设置在该栅氧化物上的晶栅， 一 对该第 一 类型衬底进行部分掺杂从而形成的第二类型轻掺杂 区域以作为阱区， 一对该第二类型轻掺杂区域进行部分掺杂从而形 成的第一类型高掺杂区域以作为基区， 一对该第 一类型高掺杂区域 进行部分掺杂从而形成的第二类型高掺杂源极区域， 一对该第二类 型轻掺杂区域进行部分掺杂从而形成的第二类型高掺杂漏极区域， 以及一对该第一类型高掺杂区域进行部分掺杂从而形成的第 一类型 高掺杂衬底电极区域，该第二类型高掺杂源极区域与该第二类型高 掺杂漏极区域分别形成在该晶栅的两侧，该第一类型高掺杂衬底电 极区域靠近该第二类型高掺杂源极区域形成，且该第一类型高掺杂 区域及该第二类型轻掺杂区域分别具有一部分直接位于该晶栅之下 以隔开该第二类型高掺杂源极区域与该第二类型高掺杂漏极区域， 该横向扩散金属氧化物晶体管进一步包括设置在该第二类型高掺杂 源极区域之下的 一 第 一 掺杂区域，该第 一 掺杂区域为第 一 类型掺杂 区域。
相对于现有技术，所述横向扩散金属氧化物晶体管利用设置在 第一类型高掺杂区域与第二类型高掺杂源极区域间的第一掺杂区域 可以调整该横向扩散金属氧化物晶体管在静态放电模式下的电流电 压特征，使其获得良好的电流电压特性，增强了该橫向扩散金属氧 化物晶体管的抗静电能力。
图l是本发明第 一 实施例所提供的 一 种横向扩散金属氧化物晶 体管的剖示图。
图2是本发明第二实施例所提供的 一 种横向扩散金属氧化物晶 体管的剖示图。
图3是本发明第三实施例所提供的 一 种横向扩散金属氧化物晶 体管的剖示图。
图4是本发明第四实施例所提供的 一 种橫向扩散金属氧化物晶 体管的剖示图。图5是本发明第五实施例所提供的一种横向扩散金属氧化物晶 体管的剖示图。
具体实施例方式
下面结合附图将对本发明实施例作进 一 步的详细说明。
请参阅图l，本发明第一实施例提供的一种橫向扩散金属氧化物
晶体管100,其包括一p型衬底110， 一设置在该p型衬底110上的栅氧 化物121, —设置在该栅氧化物121上的晶栅120, —对该p型衬底110 进行部分掺杂从而形成的n-型轻掺杂区域130， 一对该n-型轻掺杂区 域130进行部分掺杂从而形成的p+型高掺杂区域140, —对该p+型高 掺杂区域140进行部分掺杂从而形成的n+型高掺杂源极区域150, — 对该n-型轻掺杂区域130进行部分掺杂从而形成的n+型高掺杂漏极 区域160，以及一对该p+型高4参杂区域140进行部分掺杂从而形成的 p+型高掺杂衬底电极区域170。该p+型高掺杂衬底电极区域170的掺 杂浓度高于该p+型高掺杂区域140,且该p+型高掺杂衬底电极区域 170邻近该n+型高掺杂源极区域150形成。该n+型高掺杂源极区域150 与该n+型高掺杂漏极区域160分别形成在该晶栅120的两侧，且该11+ 型高掺杂源极区域150正对于该n+型高掺杂漏极区域160,两者位于 同 一层。该p+型高掺杂区域140及该n—型轻掺杂区域130分别具有一 部分直接位于该晶栅120之下以隔开该n+型高掺杂源极区域150与该 n+型高掺杂漏极区域160。
该n-型轻掺杂区域130作为n型阱(n-well),该p+型高掺杂区域140 作为p型基区(p-Body)。
该晶栅120与 一 栅电极(图未示)欧姆接触，通过该栅电极为该晶 栅120提供一栅极电压；该n+型高掺杂源极区域150与一源电极(图未 示)欧姆接触，通过该源电极为该n+型高掺杂源极区域150提供一源 极电压；该n+型高掺杂漏极区域160与 一漏电极(图未示)欧姆接触， 通过该漏电冲及为该n+型高杂漏极区i成160^是供 一 漏极电压；该p+ 型高掺杂衬底电极区域170与 一村底电极(bulk electrode)(图未示)欧姆接触，通过该衬底电极为该p +型高掺杂衬底电极区域170提供一衬 底电压。
该p+型高掺杂衬底电极区域170可紧靠该n+型高掺杂源极区域 150,即该p+型高掺杂衬底电极区域170与n+型高掺杂源极区域150之 间无任何空隙，两者相连接，此时，施加在该p+型高掺杂衬底电极 区域170上的衬底电压与施加在该n+型高掺杂源极区域150上的源极 电压一致。该p+型高掺杂衬底电极区域170与n+型高掺杂源极区域 150之间也可以存在 一 定的间隔，此时，施加在该p+型高掺杂衬底电 极区域170上的衬底电压可以与施加在该n+型高掺杂源极区域150上 的源极电压不一致，优选的，该p+型高掺杂衬底电极区域170与该11+ 型高摻杂源极区域150之间具有 一 场氧化绝缘区域(图未示)以隔离 该p+型高掺杂衬底电极区域170与该n+型高掺杂源极区域150。
该横向扩散金属氧化物晶体管10 0进 一 步包括 一 对该n —型轻掺 杂区域130进行部分掺杂从而形成的n型掺杂区域180,该n型掺杂区 域180围绕该n+型高掺杂漏极区域160。优选的，该n型掺杂区域180 的掺杂浓度大于该n-型轻掺杂区域130的掺杂浓度且小于该n+型高 掺杂漏极区域160的掺杂浓度。
该横向扩散金属氧化物晶体管IOO还进一步包括一第一p型掺杂 区域191，该第一p型掺杂区域191形成在该n+型高掺杂源极区域150 之下。该第一p型掺杂区域191的掺杂浓度高于该p+型高掺杂区域 140。
该n+型高掺杂源极区域150与该n+型高掺杂漏极区域160位于同 一层，其可仅利用 一参考图层(layout layer)同时制成，因此极大的 节约了制造成本及制造步骤。
当该横向扩散金属氧化物晶体管IOO正常工作时，在该晶栅120 上施加的电压会促使位于该晶栅120下的该p+型高掺杂区域140的部 分进行翻转，从而形成一个从该n+型高掺杂源极区域150至该n-型轻 掺杂区域130间的沟道，通过施加在该n+型高掺杂源极区域150及该 n+型高掺杂漏极区域160之间的电压的作用下，该n+型高掺杂源极区域150中的电子通过形成的沟道到达该iT型轻掺杂区域130 ，再通过 漂移，依次通过该n-型轻掺杂区域130及该n型掺杂区域180而到达该 n+型高掺杂漏极区域160。
当该横向扩散金属氧化物晶体管IOO处于静态放电时，如人的手 指触碰至该横向扩散金属氧化物晶体管IOO的漏电极时，此时人体上 的高静态电压施加于漏电极上，而源电极，衬底电极及斥册电极均相 当于接地，即该n+型高掺杂漏极区域160上施加了高静态电压，而晶 栅120， n+型高掺杂源极区域150及p+型高掺杂衬底电极区域170接 地。此时，该n-型轻掺杂区域130与该p+型高掺杂区域140间的PN结 击穿，对该高静态电压进行放电。其中，在垂直方向上，该n—型轻 掺杂区域130，该p+型高掺杂区域140,该p型区域191及该n+型高掺 杂源4及区域150所组成的 一 个垂直方向上的NPN三极管导通对该高 静态电压进行快速放电；同时，在水平方向上，该n—型轻掺杂区域 130，该p+型高掺杂区域140及该n+型高掺杂源极区域150所组成的一 个水平方向上的NPN三极管导通对该高静态电压进行快速放电。由 于该p型掺杂区域191设置于该n+型高掺杂源极区域150之下，且该p 型掺杂区域191的掺杂浓度高于该p+型高掺杂区域140的掺杂浓度， 因此，该p型掺杂区域191可以极大地影响该橫向扩散金属氧化物晶 体管100的在静态放电时的电流电压(I—V)特性，即该横向扩散金属 氧化物晶体管100的击穿电压(breakdown voltage), 骤回电流 (snapback voltage)， 保持电流(holding current)及第二击穿电流 (second breakdown current)之间的特性。通过调节该p型掺杂区域191 的掺杂浓度及其位置可以调整该横向扩散金属氧化物晶体管IOO在 静态放电时的电流电压特性，使其获得满意的电流电压特性，从而 提高该横向扩散金属氧化'物晶体管IOO的抗静电能力。
该横向扩散金属氧化物晶体管IOO进一步包括一靠近该n+型高 掺杂漏极区域160设置的第 一 场氧化层111 ，该第 一 场氧化层111将该 114型高掺杂漏极区域160与另 一横向扩散金属氧化物晶体管的p+型 高掺杂衬底电极区域及n+型高掺杂源极区域相隔开。该横向扩散金属氧化物晶体管100还进一步包括一靠近该p+型 高掺杂衬底电极区域170及该n+型高掺杂源极区域150设置的第二场 氧化层112，该第二场氧化层112将该p+型高掺杂衬底电极区域170 及该n+型高掺杂源极区域15与另 一横向扩散金属氧化物晶体管的n+ 型高掺杂漏极区域相隔开。
请参阅图2，是本发明第二实施例提供的 一 种横向扩散金属氧化 物晶体管200。该横向扩散金属氧化物晶体管200与第 一 实施例所提 供的横向扩散金属氧化物晶体管100相似，其不同在于，该横向扩散 金属氧化物晶体管200还进一步包括一与该第一p型掺杂区域291相 邻的第二p型掺杂区域292。该第二p型掺杂区域292形成于该p+型高 掺杂衬底电极区域270之下。该第一p型掺杂区域291与该第二p型掺 杂区域292之间具有 一 定的间隙。且该第二 p型掺杂区域292的横向长 度小于该p+型高掺杂衬底电极区域270的横向长度从而使该p+型高 掺杂衬底电极区域270可以与该p+型高掺杂区域240相互连接。
该第二p型掺杂区域292的掺杂浓度高于该p工型高掺杂区域240。 优选的，该第二p型掺杂区域292的掺杂浓度在该p+型高掺杂区域240 与该p+型高掺杂衬底电极区域270的掺杂浓度之间。
该第一p型掺杂区域291与该第二p型掺杂区域292位于同 一层， 其可仅利用 一 参考图层(layout layer)同时制成，因此极大的节约了 制造成本及制造步骤。
请参阅图3 ，是本发明第三实施例提供的 一 种横向扩散金属氧化 物晶体管3 0 0 。该横向扩散金属氧化物晶体管3 0 0与第二实施例所提 供的横向扩散金属氧化物晶体管200相似，其不同在于，该第二p型 掺杂区域392的横向长度大于该p+型高掺杂村底电极区域370的横向 长度，从而使该p+型高掺杂衬底电极区域370与该p+型高摻杂区域 340相互隔离。
请参阅图4 ，是本发明第四实施例提供的 一 种横向扩散金属氧化 物晶体管400。该橫向扩散金属氧化物晶体管400与第二实施例所提 供的横向扩散金属氧化物晶体管200相似，其不同在于，该第一p型掺杂区域491向该n+型高掺杂漏极区域460延伸以覆盖该n+型高掺杂 源极区域450的靠近该n+型高掺杂漏极区域460的边缘部分。
请参阅图5 ,是本发明第五实施例提供的 一 种横向扩散金属氧化 物晶体管500。该横向扩散金属氧化物晶体管500与第二实施例所提 供的橫向扩散金属氧化物晶体管200相似，其不同在于，该横向扩散 金属氧化物晶体管500进一步包括一设置在该晶栅520与该n+型高掺 杂漏极区域560之间的第三场氧化层513 ,该第三场氧化层513可以减 少穿过该栅氧化层5 21间的垂直电场强度。当然，该第三场氧化层513 也可以设置在图1 、图3及图4所示的第 一 实施例、第三实施例及第四 实施例所提供的横向扩散金属氧化物晶体管100、300及400的相同位 置处。
当然，本发明所介绍的横向扩散金属氧化物晶体管也可以采用n 型半导体材料作为衬底，其它的半导体结构将其类型转换一下即可， 即p型的半导体结构改为n型的半导体结构，而n型的半导体结构改为 p型的半导体结构。
另外，本领域技术人员还可在本发明精神内做其它变化，只要 其不偏离本发明的技术效果均可。这些依据本发明精神所做的变化， 都应包含在本发明所要求保护的范围之内。
权利要求
1. 一种横向扩散金属氧化物晶体管，其包括一第一类型衬底，一设置在该第一类型衬底上的栅氧化物，一设置在该栅氧化物上的晶栅，一对该第一类型衬底进行部分掺杂从而形成的第二类型轻掺杂区域以作为阱区，一对该第二类型轻掺杂区域进行部分掺杂从而形成的第一类型高掺杂区域以作为基区，一对该第一类型高掺杂区域进行部分掺杂从而形成的第二类型高掺杂源极区域，一对该第二类型轻掺杂区域进行部分掺杂从而形成的第二类型高掺杂漏极区域，以及一对该第一类型高掺杂区域进行部分掺杂从而形成的第一类型高掺杂衬底电极区域，该第二类型高掺杂源极区域与该第二类型高掺杂漏极区域分别形成在该晶栅的两侧，该第一类型高掺杂衬底电极区域靠近该第二类型高掺杂源极区域形成，且该第一类型高掺杂区域及该第二类型轻掺杂区域分别具有一部分直接位于该晶栅之下以隔开该第二类型高掺杂源极区域与该第二类型高掺杂漏极区域，其特征在于，该横向扩散金属氧化物晶体管进一步包括设置在该第二类型高掺杂源极区域之下的一第一掺杂区域，该第一掺杂区域为第一类型掺杂区域。
2. 如权利要求1所述的横向扩散金属氧化物晶体管，其特征在于，该 横向扩散金属氧化物晶体管还进一步包括设置在该第一类型高掺 杂衬底电极区域之下的 一 第二掺杂区域，该第二掺杂区域为第一 类型掺杂区域，且该第 一掺杂区域与该第二掺杂区域间具有一定 的间隙。
3. 如权利要求2所述的横向扩散金属氧化物晶体管，其特征在于，该第二掺杂区域的横向长度小于该第 一 类型高掺杂衬底电极区域的 横向长度以使该第一类型高掺杂衬底电极区域与该第一类型高掺 杂区域相互连接。
4. 如权利要求2所述的横向扩散金属氧化物晶体管，其特征在于，该第二掺杂区域的横向长度大于该第 一类型高掺杂衬底电极区域的 横向长度以将该第一类型高掺杂衬底电极区域与该第一类型高掺杂区域相互隔离。
5. 如权利要求2所述的横向扩散金属氧化物晶体管，其特征在于，该第 一 掺杂区域向第二类型高掺杂漏极区域延伸以覆盖该第二类型 高掺杂源极区域的靠近该第二类型高掺杂漏极区域的边缘部分。
6. 如权利要求1至5中任意一项所述的横向扩散金属氧化物晶体管， 其特征在于，该第一掺杂区域的掺杂浓度高于该第一类型高掺杂 区域。
7. 如权利要求2至5中任意一项所述的横向扩散金属氧化物晶体管， 其特征在于，该第二掺杂区域的掺杂浓度高于该第 一 类型高掺杂 区域。
8. 如权利要求7所述的横向扩散金属氧化物晶体管，其特征在于，该 第二掺杂区域的掺杂浓度大于该第 一类型高掺杂区域的掺杂浓度 且小于该第一类型高掺杂衬底电极区域的掺杂浓度。
9. 如权利要求1所述的横向扩散金属氧化物晶体管，其特征在于，该 横向扩散金属氧化物晶体管进一步包括一对该第二类型轻掺杂区域进行部分掺杂从而形成的第二类型掺杂区域，该第二类型掺杂 区域围绕该第二类型高掺杂漏极区域。
10. 如权利要求9所述的横向扩散金属氧化物晶体管，其特征在于， 该第二类型掺杂区域的掺杂浓度大于该第二类型轻掺杂区域的掺 杂浓度且小于该第二类型高掺杂漏极区域的掺杂浓度。
11. 如权利要求l所述的横向扩散金属氧化物晶体管，其特征在于， 该横向扩散金属氧化物晶体管进一步包括一靠近该第二类型高掺 杂漏极区域设置的第 一 场氧化层，该第 一 场氧化层将该第二类型 高掺杂漏极区域与另 一横向扩散金属氧化物晶体管的第一类型高 掺杂衬底电极区域及第二类型高掺杂源极区域相隔开。
12. 如权利要求l所述的横向扩散金属氧化物晶体管，其特征在于， 该横向扩散金属氧化物晶体管进一步包括一靠近该第 一类型高掺 杂衬底电极区域及该第二类型高掺杂源极区域设置的第二场氧化 层，该第二场氧化层将该第一类型高掺杂衬底电极区域及该第二类型高掺杂源极区域与另 一横向扩散金属氧化物晶体管的第二类 型高掺杂漏极区域相隔开。
13. 如权利要求1所述的横向扩散金属氧化物晶体管，其特征在于， 该横向扩散金属氧化物晶体管进 一 步包括 一 设置于该晶栅与该第 二类型高掺杂漏极区域之间的第三场氧化层以减少通过该栅氧化 物的垂直电场强度。
14. 如权利要求1所述的横向扩散金属氧化物晶体管，其特征在于， 该第一类型高掺杂衬底电极区域与该第二类型高掺杂源极区域相 互连接。
15. 如权利要求1所述的横向扩散金属氧化物晶体管，其特征在于， 该第 一 类型高掺杂衬底电极区域与该第二类型高掺杂源极区域之 间具有一定的间隔。
16. 如权利要求15所述的横向扩散金属氧化物晶体管，其特征在于， 该第 一类型高掺杂衬底电极区域与该第二类型高掺杂源极区域之 间具有一场氧化绝缘区域以隔离该第 一类型高掺杂村底电极区域 与该第二类型高掺杂源极区域。
17. 如权利要求1所述的橫向扩散金属氧化物晶体管，其特征在于， 该第一类型为p型，该第二类型为n型。
18. 如权利要求1所述的横向扩散金属氧化物晶体管，其特征在于， 该第一类型为n型，该第二类型为p型。
全文摘要
本发明涉及一种横向扩散金属氧化物晶体管，其包括一第一类型衬底，一栅氧化物，一晶栅，一第二类型轻掺杂区域以作为阱区，一第一类型高掺杂区域以作为基区，一第二类型高掺杂源极区域，一第二类型高掺杂漏极区域，以及一第一类型高掺杂衬底电极区域，该第二类型高掺杂源极区域与该第二类型高掺杂漏极区域分别形成在该晶栅的两侧，该横向扩散金属氧化物晶体管进一步包括设置在该第二类型高掺杂源极区域之下的一第一掺杂区域，该第一掺杂区域为第一类型掺杂区域。
文档编号H01L29/78GK101414630SQ20071016400
公开日2009年4月22日 申请日期2007年10月15日 优先权日2007年10月15日
发明者孙兴华, 张智毅, 邱振铭, 龙赞伦 申请人:天钰科技股份有限公司