专利名称：从硬件上防止工艺气体混合的控制方法
技术领域：
本发明涉及防止工艺气体混合的应用，特别涉及快速退火炉，属于半导体器件制
造领域。
背景技术：
为了适应半导体器件工艺的多样性，半导体工艺设备上工艺气体的配置也越来越 多，这就给防止气体的混合提出了更高的要求。从硬件上防止工艺气体的混合避免了由于 软件不可靠和人为的因素产生的问题。例如软件跑飞，操作人员操作失误等。
发明内容
本发明即是针对现有软件技术中存在的不可靠问题而提出的一种从硬件上防止 工艺气体混合的技术，该技术能够较好地解决由于软件失控和人为操作失误产生的错误气 体混合的情况发生。 本发明通过以下技术方案来实现 —种从硬件上防止工艺气体混合的互锁结构，其特征在于利用多组触点继电器 的多组触点串连来达到工艺气体互锁的目的。 所述的多组触点继电器采用六组常开触点的继电器，可以实现六路不同工艺气体 的互锁。
本发明具有如下显著优点 (1)执行电路与控制电路采用光电隔离技术，避免了执行电路大电流，高电压对弱 电电路的干扰。
(2)工艺气体的控制电路的执行情况可以反馈给主控制电路。
(3)某种工艺气体用完之后，可以自动用清洁的氮气冲洗管道。
图l气体供给简图
图2气体电磁阀控制电路
具体实施例方式
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步介绍，但不作为对本发明新型的限 定。 退火炉是一种能在惰性或腐蚀性气体环境中处理晶片的热处理设备。根据处理晶 片所需工艺的不同，需要不同的工艺气体环境。例如离子注入后的快速退火需要氮气，氧 化物形成需要HCL气体等。 实施例当快速退火炉正在使用HCL气体做工艺时，突然由于软件故障或其他原 因造成NH3气体控制信号有效，硬件互锁就会起作用防止HCL气体和NH3气体非法混合。
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如图2所示，供应HCL气体正常的操作是，来自控制总线的信号(低电平有效)送 到U3的2脚，U3的16脚输出高电平，U4的1脚为高电平，U4的18脚输出低电平，继电器 Kl得电，地信号就通过K1的12，13脚，K2的12，13脚送到J3-13，这时HCL阀即图1的EV8 就会导通，HCL气体就会作为工艺气体来供应。 这时如果由于软件或其他原因导致图2的NH3控制信号有效，那么U3的13脚为 高电平，U4的2脚为高电平，U4的17脚输出低电平，继电器K2得电，这样由于K2的12和 13脚不闭合，低电平送不到J3-13脚，HCL阀即图1的EV8就不会导通，HCL管道断开停止 供应HCL气体。同时由于K1得电K1的20和21脚不导通，低电平也送不到J3_12， NH3阀 即图1的EV10不会导通，NH3气体不能够进入设备，从而防止了这两种气体的混合。
本发明的特定实施例已对本实用新型的内容做了详尽说明。对本领域一般技术人 员而言，在不背离本专利精神的前提下对它所做的任何显而易见的改动，都构成对本实用 新型专利的侵犯，将承担相应的法律责任。
权利要求
一种从硬件上防止工艺气体混合的控制方法，其特征在于采用六组常开触点的继电器，控制不同工艺气体的继电器的常开触点串连连接。最多可以控制六路工艺气体。
全文摘要
本发明是从硬件上防止工艺气体混合的控制方法，防止不应该混合的气体混合在一起对设备和人身产生损害，特别适用于快速退火炉这类具有多种工艺气体的设备，属于半导体制造领域。该技术主要是从硬件角度实现互锁功能。包括气路管道、电磁阀、以及控制电磁阀的电路。本发明可以从硬件上保证不该混合的气体混合，避免了软件故障和人为原因造成的气体混合。
文档编号H01L21/00GK101728232SQ20081022464
公开日2010年6月9日 申请日期2008年10月22日 优先权日2008年10月22日
发明者王迪平, 胡振东, 许波涛 申请人:北京中科信电子装备有限公司