专利名称：射频等离子的透明导电膜的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种导电复合材料，尤其涉及一种使用射频等离子技术制备的透明导电膜。
背景技术：
透明导电膜是制备太阳能电池、液晶显示器等器件的重要材料，透明导电膜是在透明基材上覆透明导电层形成，为了提高基材与导电层之间的界面粘合力，往往需要在基材和透明导电层之间加一层硬化涂层，该硬化涂层需要在高温条件下才能固化，但是在高温处理过程中，基材表面的分子结构分布不均勻就会产生散射现象，形成“彩虹纹”进而影响产品的视觉效果和透光度，另外，硬化涂层使用的各种物料、溶剂也增大了产品的制造成本。
发明内容本实用新型的目的是克服现有技术存在的不足，提供一种射频等离子的透明导电膜。本实用新型的目的通过以下技术方案来实现射频等离子的透明导电膜，基材为PET膜，特点所述PET膜的正面涂有硬化涂层， 硬化涂层表面覆有PE保护膜；所述PET膜的背面形成有RF等离子处理层，RF等离子处理层上溅镀有透明导电层。进一步地，上述的射频等离子的透明导电膜，所述透明导电层上覆有PE保护膜。本实用新型技术方案的实质性特点和进步主要体现在采用射频等离子技术对基材进行表面处理，不仅能够改善基材表面的化学组分和浸润性能，保证基材与导电层之间可靠的粘附效果，而且能够降低导电膜的表面粗糙度和方块电阻；导电层直接在基材表面通过真空溅镀的方式形成的，省去了使用光学胶粘贴导电膜的步骤，节省了成本；在基材正面涂硬化涂层，提高表面耐划伤性和耐化学腐蚀性，大大延长了产品的使用寿命。
以下结合附图对本实用新型技术方案作进一步说明
图1 本实用新型的截面示意图；图中各附图标记的含义I-PET膜，2-硬化涂层，3-RF等离子处理层，4_透明导电层，5-PE保护膜，6-PE保护膜。
具体实施方式
如图1所示，射频等离子的透明导电膜，基材为PET膜1，PET膜1的正面涂有硬化涂层2，硬化涂层2表面覆有PE保护膜5 ；PET膜1的背面经过射频等离子处理形成有RF等离子处理层3，RF等离子处理层3上溅镀有透明导电层4，透明导电层4上覆有PE保护膜 6。PET膜1的透光率在90%以上，介电强度为16. 9KV/mm，可阻挡紫外线，气体和水蒸气渗透率低。PET膜的正面涂有硬化涂层，硬化涂层表面覆有PE保护膜；硬化涂层2硬化后的表面硬度达到3H/750g以上，透光率> 90%，硬化涂层的硬化过程是在光照的条件下完成；透明导电层4的材料为纳米铟锡金属氧化物，其中Ln2O3和Sn2O3的比例为9:1。采用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜为基材，在赋予材料高透光性的前提下，提供了复合材料加工成不同结构的可能，在PET背面以RF等离子处理层代替硬化涂层，保证基材与导电层间有可靠的附着效果，同时还可以降低导电膜的表面粗糙度和方块电阻；该透明导电膜的透明导电层使用真空溅镀的方式溅镀纳米铟锡金属氧化物，省去在基材上通过光学胶水粘贴导电膜的步骤，节省了成本；在基板正面涂上硬化涂层可以提高产品的耐划伤性，延长产品的使用寿命。本实用新型可以广泛应用于触控面板、电子游戏机、幼儿教学机、智能手机、平板电脑等方面。需要强调的是以上仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。
权利要求1.射频等离子的透明导电膜，基材为PET膜，其特征在于所述PET膜的正面涂有硬化涂层，硬化涂层表面覆有PE保护膜；所述PET膜的背面形成有RF等离子处理层，RF等离子处理层上溅镀有透明导电层。
2.根据权利要求1所述的射频等离子的透明导电膜，其特征在于所述透明导电层上覆有PE保护膜。
专利摘要本实用新型提供一种射频等离子的透明导电膜，基材为PET膜，PET膜的正面涂有硬化涂层，硬化涂层表面覆有PE保护膜；PET膜的背面形成有RF等离子处理层，RF等离子处理层上溅镀有透明导电层，透明导电层上覆有PE保护膜。该透明导电薄膜在结构上减省了一层硬化涂层，却增加了RF等离子处理层，使透明导电层与PET薄膜间仍有可靠的附着效果，即使经过高温回火后电阻值仍然具有可以保持均匀稳定的优异特性，可广泛应用于触控面板、电子游戏机、幼儿教学机、智能手机、平板电脑等方面。
文档编号H01B5/14GK201936636SQ20102067276
公开日2011年8月17日 申请日期2010年12月21日 优先权日2010年12月21日
发明者武俊, 汪倩文 申请人:苏州禾盛新型材料股份有限公司