专利名称：用于关闭和开启处理腔室的装/卸开口的装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种用于关闭和开启至少一个用于基板处理的，特别是是用于半导体基板的处理的处理腔室的装/卸口的装置。
背景技术：
在半导体和光伏产业中，在不同的处理腔室中处理基板，特别是半导体基板，是众所周知的。每一个这样的处理腔室具有至少一个常常通过门部件而可关的装/卸口。为了使该处理腔室与外部环境隔离，特别是为了以气密的方式密封该处理腔室，这是必须的。对于处理腔室中的真空工艺，这是尤其必须的，但是，对于其它工艺也是有利的。这样的门部件通常可轴枢地固定至处理腔室以使该门部件可从开启(未封锁)状态活动到关闭(封锁)状态。在该开启状态，该门部件开启用于向该处理腔室或从该处理腔室装/卸基板装/卸开口。在关闭状态，该门部件封锁该装/卸口。通常，在该处理腔室的壳体和/或该门部件处提供密封部件，以在该关闭状态密封该处理腔室。但是，这样的可枢轴门部件需要足够的枢轴空间，这可能导致空间问题。进一步，该枢轴机构的构造也是昂贵的，因为需要为该枢轴活动提供很低的容许偏差，以提供装/卸口的气密密封。这样的门部件也可能在相邻的处理腔室中造成问题，其中，相邻的处理腔室包含彼此面对的装/卸口，要移动的基板直接在这些处理腔室之间移动，且该基板不暴露的环境中。枢轴移动的门部件常常不适用于这样的配置。
实用新型内容因此，本实用新型要解决的问题是提供一种装置，其用于关闭和开启至少一个处理腔室的装/卸口，其容许处理腔室的简单和经济的气密密封，同时只需要很小的空间。根据本实用新型，通过根据权利要求I的装置解决该问题。该从属权利要求指向本实用新型进一步的实施例。特别地，提供一种用于关闭和开启用于基板处理的至少一个处理腔室的装/卸口的装置，该装置包括至少一个管件和壳体，该壳体具有用于容纳该管件的、在壳体中轴向延伸的腔室，以及一个横向于轴向地与该腔室交叉的通道，其中该通道与处理腔室的装/卸口对准且其中该腔室具有圆形的横截面区域。进一步，提供至少一个固定单元，用于将该管件的一个部分在相对于该处理腔室的装/卸口的预定位置定位和固定。该管件包括可连接至流体源和/或真空源的至少一个入口和/或出口，通过选择性地施加流体和/或真空至该内部空间可以在展开状态和收缩状态之间活动该管件，在收缩状态下，该管件向该固定部分收缩，其中在该展开状态下，该管件阻塞该处理腔室的装/卸口，且在收缩状态下开启该处理腔室的装/卸口。这样的一种装置具有简单的结构且可以可靠地阻塞和开启该处理腔室。该壳体容许以一良好地限定的方式相对于该装/卸口定位该管，且包含用于在展开状态下的管的限定的邻接区域，形成良好的密封特性。该腔室的圆形的横截面区域可以一容易和经济的方式甚至更大的长度地制作，且特别地适合通常的圆管。[0008]优选地，该管件具有一直径，展开或膨胀状态下其是用于装载的该处理腔室的该装/卸口的高度的至少两倍大小，以提供该装/卸口的可靠的关闭和开启。在实用新型的一实施例中，该腔室的尺寸以这样的方式确定管件在展开状态下在半径方向上接触腔室的壁，以使得管件密封通过壳体的通道，从而密封该处理腔室的装/卸口，以及使得该管件在其收缩状态下开启该通道。在本实用新型的一个实施例中，该固定单元包含在邻近该管件的固定部分的该管 件的内部中延伸的棒或杆件，其中该杆件可防止该部分向该管的中心活动。特别地，该杆件可以在径向方向上对管件的被固定的部分施压抵靠至支撑件，特别地，抵压在上述的壳体上。该杆件可包含轴向延伸的腔室，其包含可连接至一流体源和/或真空源的第一开口，以及从该腔室延伸至杆件外侧的至少一个通道。这此情况下，该杆件可在该支持功能之外提供用于在该管中散布流体和/或真空的散布功能。在一实施例中，该固定单元包含一位于该管件的外侧的部件。该管件要固定的部分可以被固定至此部件，特别地，通过胶粘或者硬化。为了提供该管件的可靠固定以及，可能地，管件相对于开口位置处环境的密封，该管件的端部区域设置至少一个支撑套管，其中该支撑套管将该端部保持在预定形状，不论该管件是在展开状态还是收缩状态。优选地，该支撑套管在径向方向上将管件推靠在一支撑件，特别地，推靠在上面提到的壳体中的密封件。在一实施例中，提供至少一用于朝着该收缩位置或状态偏置该管件的偏置元件。这样的偏置元件只容许通过在该管件的内部中的正压力来控制该管件的状态。特别地，也在该管的收缩状态下，流体可流经该管，以冷却该管或为该管提供预定的温度。在一简单的构造中，该偏置元件可为位于该管件的内部的弹性带，其中该带可特别地形成为该管件的一体化的部分。在一可选实施例中，以这样的方式提供了至少两个管件，第一管件至少部分地包围该第二管件，其中该第一管件包含至少一个用于施加真空至其内部的开口，且其中该第二管件包含至少一个用于施加增压的流体至其内部的开口。以这样的配置，该内部管件可通过施加真空至该外部管件而收缩，只要在该内部管件中的气压不是太高。特别地，这也同样容许在该收缩状态下的该内部管件中存在流体。优选地，该管件在其相对的端部包含开口，以容许引导流体穿过该管件。进一步，这样的管件相比于在一端封闭的管件具有简单的构造。用于处理基板的装置包含至少一用于接收该基板的处理腔室、形成在该处理腔室的一壁上的用于基板的至少一个装/卸口以及用于关闭和开启该至少一个装/卸口的上述提及的类型的至少一个关闭装置。优选地，该装置包含两个处理腔室，每一该处理腔室包含至少一个面对另一处理腔室的装/卸口，其中该处理腔室的该装/卸口相互面对且相互对准，以容许基板在处理腔室之间传输。关闭装置可以这样的方式在安置在相对的装/卸口之间，使该关闭装置在展开状态下阻塞和密封两个装/卸口，以及由此隔离处理腔室，且该关闭装置在收缩状态下开启该处理腔室之间的连接。开启该装/卸口，如上所使用的，意味着该管件开启该装/卸口，由此，通过该开口装/卸基板是可能的。优选地，开启意味着该管件完全位于该开口的投影之外。
本实用新型将参考附图更详细地解释。在附图中图I示出的是具有根据本实用新型在关闭状态下的关闭装置的用于处理基板的装置的示意性截面视图；图2示出在图I中所示的示意性截面视图，其中该关闭装置在开启状态；图3是根据本实用新型的可选实施例的用于处理基板的装置的示意性截面视图，该装置具有根据实用新型的在关闭状态下的关闭装置；图4是类似于图3的示意性截面视图，其中该关闭装置在开启状态；图5示出根据本实用新型的关闭装置的立体图；图6是根据图5的关闭装置的纵断面视图，其中该关闭装置示出为在开启状态；图7是类似于图6的截面视图，其中该关闭装置示出为在关闭状态；图8是根据图6的在开启状态的关闭装置的放大的局部视图；图9是根据图5的在关闭状态的关闭装置的立体截面视图；图10是根据图5的在开启状态的关闭装置的截面视图；图11是一可选的在关闭状态的关闭装置的放大的立体局部截面视图；图12是根据图11的在开启状态的关闭装置的放大的立体局部截面视图。
具体实施方式
如下面描述中提及的位置和/或方位，其与附图的视角有关，不应理解为限制本申请。但是，这些位置和/或方位可与优选的实施例相关联。图I和2示出用于处理基板，特别地用于处理半导体基板的装置I的示意性截面视图。装置I 一般由处理腔室3和关闭装置6组成。该处理腔室3具有一壳体8,其中该壳体8的内部限定一个处理腔室10。在该壳体8的横向壁中形成一装/卸口 12，该装/卸口的尺寸确定为用于传输基板。基板支持件14位于该处理腔室中，用于支持和支撑一基板(未不出)。可通过旋转轴16在处理腔室10中可旋转地支持该基板支持件14，如图I和2中所示。这样的处理腔室3在本领域是公知的且可包含各种用于处理该基板的处理单元，如加热单元、等离子单元、进气单元和/或排气单元，以在该处理腔室中获得限定的气体环境，等等。只要提供该装/卸口，该处理腔室3也可不同于所示的构造。该关闭装置6将在下面更具体地描述，特别地参考图5-12。该关闭装置6具有一个壳体20，其中一通道22横向地延伸穿过该壳体20，且与该处理腔室3的装/卸口 12对应。该壳体20以密封的方式连接至该处理腔室3，并且以使该通道22与处理腔室3的装/卸口 12对准的方式连接。这样，通过该关闭装置6的通道22和处理腔室3的装/卸口 12可将基板装/卸进或出该处理腔室3。图3和4示出一种用于处理基板的装置的可选的构造，在示出的实施例中其包含两个基板腔室3，该两个处理腔室一般具有同样的构造，如上所述。该两个处理腔室3相邻地配置以使第一处理腔室3的装/卸口 12面对第二处理腔室3的装/卸口 12。该关闭装、置6及其壳体20配置在两个处理腔室3之间以使该壳体20以密封的方式安装在两个处理腔室3之间。在这样的配置中，该通道22配置为使该通道连接两个处理腔室3的装/卸口12。通过这种方式，只要该关闭装置6是开启状态，如图4中所示，从一个处理腔室到另一处理腔室直接传输基板是便利的。至少一个处理腔室3，特别地右边的处理腔室3，如图3和4中所示，包含一附加的装/卸口 12，其可通过另一关闭装置6打开(开启)和关闭(闭合)。该关闭装置6将在下面更具体地描述，也参考图5-12。这些图中，图5-10示出位于两个处理腔室3之间的关闭装置6，其中只示出处理腔室的一小部分。应注意，该关闭装置6也可邻近单个的处理腔室3配置，如图I和2所示。在图11和12中，示出该关闭装置的可选实施例，图中省略了处理腔室。图5示出该关闭装置6的立体图。图6和7示出该关闭装置6的示意性纵向断面视图，其中图6示出该关闭装置6的开启状态，而图7示出关闭状态。图8是在开启状态的关闭装置6端部的局部放大视图，以及图9和10是关闭装置6的截面视图，其中图9示出一关闭状态且图10示出一开启状态。该关闭装置6包含上面提及的壳体20，其中该壳体形成为矩形主体24，以及端部盖体26。在该主体24中，形成有如上提及的横向延伸的通道22和轴向延伸的通道27。该横向延伸的通道22 —般根据该处理腔室3的装/卸口而构形和确定大小，且因此适合用于传输基板从而装载和卸载该处理腔室。该通道22与通道27交叉以使基板通过该通道22传输时也经过通道27的一部分。该通道22在通道22的中心以上但在通道22的最高点以下与通道27交叉，最好地如图9和10所示。轴向延伸的通道27具有圆形的横截区域，明显地，其在通道22的区域中被截断。该矩形主体24合适地以密封的方式安装在两个处理腔室3之间或在一个处理腔室3的一端，以使通道22与处理腔室3的对应的装/卸口 12对准。该端部盖体26可拆卸地安装至该主体24的轴向相对的端部，例如，通过螺钉。在上下文中，可拆卸地安装的含义是所有容许端部盖体非破坏性地相对该主体24拆卸的安装类型。该端部盖体相同地构造且在下文中只描述一个端部盖体。该端部盖体26具有矩形的基体30和安装凸缘32。该矩形基体30具有对应该矩形主体24的周边形状的周边形状。该基体30具有圆形凹部34，其具有和在主体24中的该通道27大体相同的直径，且该凹部34和通道27对准。在主体24中的该通道27向该凹部34打开。该凹部34具有台阶以在其自由端(面对该主体24)容纳0形环36，最好地如图8中所示。该凹部34在底部具有环形凸部38。该安装凸缘32 —般为管型，具有穿过该凸部38延伸至凹槽34的通道40。该安装凸缘32如此设置大小以使该安装凸缘32可连接至流体源和/或真空源(两者均未示出)，比如通过连接到管。如果该端部盖体26连接至该主体24，通道27在其端部被覆盖。该关闭装置6进一步包含关闭机构50，其容纳在该主体24的通道27中且部分地容纳在该端部盖体26的该凹部34中。该关闭机构50 —般包含管52、支撑环54和固定元件56。该管52可以是由合适的材料如氟化橡胶、橡胶、硅或其它合适的材料形成的直管。该材料必须有足够的柔韧性以能够在例如在图6中所示的收缩状态以及例如在图7中所示的凸出或展开状态之间运动或变形。进一步，该材料必须能与通道27相配且特别地必须能为通道22提供密封功能。[0051]管52 —般具有与在主体24中的通道27相应的圆形横截面区域。在未装载状态下，管52具有比主体24中的通道27的内周边略小的外周边。该管52具有比通道27更长的长度，以使该管能完全地延伸通过通道27且从通道27的两侧均能延伸。但是，该长度如此配置，使得该管的延伸部分可被在端部盖体26中的凹部34容纳，如图6-7中所示。每一支撑套管54是环形的。每一支撑套管54容纳在该管52的对应的一端部中，且将该管保持在一预定的敞开的构造中，如下面将更详细地描述。该支撑套管54由合适的、具有足够的稳定性材料构成，以使得该管52的端部保持预定的开口形状。该支撑套管54的尺寸如此配置，即该支撑套管偏置该管52的相应的端部使其稍微敞开，且朝着该0形环38挤压该端部。该固定元件56包含一细长杆件，其具有比在主体24中的通道27更长的长度。但是，该杆件的长度如此配置，以使得当关闭装置6处于装配状态时，该杆件可接收在端部盖体26之间。该固定兀件如此配置以使其延伸通过该管52。该固定兀件56的顶表面和底表面分别是圆形的。该底表面的圆形基本上与在主体24中的通道27的圆形一致，且该顶表面的圆形与在凹槽34中的凸部38的圆形基本上一致，如图8中所示。该固定元件56具有中间区域58和端部区域59。该中间区域58具有比该端部区域59更大的厚度。特别地，该中间区域的厚度比该端部区域59的厚度大，它们的厚度差是支撑套管54的厚度值。因此，该固定元件56通过该端部盖体26可夹持在预定的位置，其中该固定元件向在该主体24中的通道27推动该管52进入到所述的预定位置，最好如图8中所示。通过此方法，管52的一部分，在此情况下是指下部，固定到限定的位置。通过此方法，防止了管52移动而离开该在这部分中的通道27。此方法可达到的一个特别的效果就是一旦例如真空施加至管52，该管向这样固定安装的部分收缩，下面将更具体地解释。实际关闭元件即管的替换/维护可以简单的方式执行，通过拆卸至少一个端部盖体以及通过从通道27轴向移除该管，其中该管很可能为折叠的或收缩的状态。相反，该主体24可仍保持在其密封的状态，这特别地有利于在两个处理腔室之间的布置。该关闭装置6的操作将参考附图更详细地解释。起始点是指该关闭装置6位于如图7中所示位置的情况。压缩流体，例如水，经过连接凸缘32而引导流过该管52。通过此方法，管略微向外延伸且牢固地抵压该主体24中的通道27。在此状态下，管52完全地阻塞横向延伸的通道22且该管甚至可略微延伸进入该通道22，如本领域技术人员明显可知的那样。通过此方法，通道22在由交叉的通道27限定的两个截面的区域被阻塞，且是密封的。相应地，处理腔室的该装/卸口 12此时与外界环境密封。为了将该关闭装置6的通道22和处理腔室3中的装/卸口 12被打开，通过至少一个连接凸缘32在该管的区域中产生真空。如图6中所示，该管收缩，且开启该主体24中的通道22。在此情况下，支撑套管54的功能是保持该管52末端区域在设定的、密封的位置且与该0形环38接触。该固定元件56使该管大体只向下地、朝向该管的由固定元件固定的那部分收缩。没有该固定元件56，管将对称地向中心收缩，可能将不会完全地开启该通道22。因此，固定元件56的效果是增大该管在关闭位置和开启位置之间的提升或移动距离。在图6中所示的管52的状态下，基板可通过该通道22和处理腔室3中的装/卸口 12传输。例如，基板可从该处理腔室移除，且新的基板可装载入该处理腔室以进行处理。其后，可释放真空，其中释放真空后，该管52将移动至展开或延伸状态。通过施加压缩流体，例如水，另一合适的流体或合适的气体，该管52可延伸或展开至与该通道27再次接触。在上面的描述中，提供了一种杆件形式的固定元件56，固定元件延伸穿过管52且迫使该管从通道27的内部抵压通道27。可选地，还可在管52外侧提供一固定元件，其中该固定元件在需被固定的部分牢固地连接至该管，例如通过胶粘至管或通过安装固定元件如通环连接至该管。进一步，该固定元件56可形成为直杆，其中当施加真空至该管时，管52也可从该通道27的底部稍微提升直至该管接触该固定元件且由该固定元件保持。在上面的描述中，提到该管52连接至增压流体或真空以提供该管52的关闭和开启位置。也可提供偏置装置，其偏置该管52至开启位置，例如内部弹性带，其在该52的中间区域将管52向收缩状态偏置。也可想到外部偏置元件，该外部偏置元件在中间区域向收缩状态偏置该管。这样的偏置元件的优势是该管即使收缩时也可充填流体，其目的是，例如， 冷却该管。虽然该主体24示出为具有由端部盖体覆盖每一端部的通道27，应指出，也可在主体24中提供盲孔。在此情况下，只有盲孔的一端将被相应的端部盖体覆盖。在此情况下该端部盖体可包括两个连接凸缘以为流体提供入口和出口。这样，将可能只提供一个端部盖体，其中流体可通过此端部盖体灌入该管或可通过此端部盖体在管中产生真空。这将是提供用于在该管中分配流体的分配元件的一种选择，其中该分配元件可连接至流体/真空源。为此，固定元件56可适用，其中这样的固定元件可包含轴向延伸的腔室或通道，且其中腔室或通道可包含交叉的水平开口。流体/真空可通过该固定元件均匀地分布在管中。特别地，将可能从该管的一端提供流体流至另一端。在另一通道两端均敞开的实施例中使用分配元件也是有利的。图11和12示出该关闭装置6的替换实施例，其不同于上述的实施例，特别是对于该端部盖体26以及对于该关闭机构50的构造。该主体24可如上述地构造。该端部盖体26也可类似地构造，即，具有矩形基体30和连接凸缘32。同样，设置凹部34，如前述的实施例，其中在此实施例中的该凹槽更深。此外，横向孔60提供在该基体30中，其中该横向孔60与该凹部34交叉。该关闭机构50包含管52、支撑套管54和固定元件，为了简化，固定元件未在图中示出。关闭元件50进一步包含第二管62。该管62大体上可以与上述的管52同样的方式构造。该管62也可由与管52相同的材料形成；但是，该管62在未装载状态下具有比在未增压状态下的管52的内径更小的外径。进一步，管62比管52更长。特别地，该管62的尺寸如此设置以使该管62可延伸穿过该管52且可从管52的两端突出，如图11和12中的从一侧所示。在管52和62之间形成一小的环形间隙。特别地，该管62的长度如此设置以使该管62也可在该凹部34中的横向孔60上方延伸进入对应的凹部34，如可在图11和12中所见。该支撑套管54具有环状体，然而，在附图11和12的实施例中，该环状体比在前的实施例长。该支撑套管或支撑环54的尺寸设置使该支撑套管54装入到管62内，并且在一端部区域稍微扩宽该管62。进一步地，该支撑环54的尺寸设置使得该支撑环部分地延伸进入该管52的端部区域，该端部区域在管62上方延伸，可参见附图11和12。该支撑环54的尺寸设置使得该支撑环54可迫使该管62抵压容纳在凹部34中的O形环68，而同时，该支撑环54迫使该管52抵压在该端部盖体26和该主体24之间的过渡区域中的O形环38。[0068]因此，环间隙形成在介于该0形环38和该管52的一端之间的该凹部34中，其中该环间隙可通过该横向孔60连接至真空，如下面将更具体地描述的那样。根据图11和12的该关闭机构50的操作将在下面更具体地描述。作为初始点，该关闭机构50处于图11所示的位置。通过该连接凸缘32引导增压流体穿过该管62以使得该管62膨胀且迫使该管62向外抵压该管52。通过此方法，该管52被迫使抵压在该主体24中的该通道27，以密封该横向地延伸的通道22。为了打开该通道22，该管62中的压强减小，且真空通过该横向孔60施加在两管62、52之间。由于该真空，该管52收缩并导致管52和62共同收缩且开启通道22，如图12中所示。可通过相应的固定元件如固定元件56控制该收缩。这种配置的优点在于真空施加在两管52、62之间以提供开启动作。通过此方法，可不间断地甚至在该开启机构在开启状态下引导降低压强的流体穿过该内管62，从而例如保持预定的温度，尤其是用于冷却。除了简单且低成本的构造，根据本实用新型的关闭装置可提供如下好处-关闭元件本身，即该管，可填充一流体且可由此直接冷却或控制为一预定的温度，这防止了或至少减小了例如气相的气体的冷凝或其它微粒的沉积。-关闭元件本身，即该管，可简单地维护/替换，无需从该处理腔室断开与该主体的连接。-由于该管是柔韧性的，所以在该关闭和开启位置之间的活动可以使得实际的关闭元件，即该管能够自清洁；-该关闭装置适用于真空。本实用新型参考优选实施例进行了描述，但是，本实用新型不限于直接示出的实施例。进一步，可结合和/或交换不同实施例的特征，只要这些特征是兼容的。
权利要求1.一种用于关闭和开启用于处理基板的至少一个处理腔室的装/卸口的装置，该装置包括 具有可连接至流体源和/或真空源的至少一个进口和/或出口开口的至少一个管件， 壳体，其具有用于容纳该管件的腔室，该腔室在该壳体中轴向延伸，以及在横向于轴向与该腔室交叉的通道，其中该通道与处理腔室的装/卸口对准且其中该腔室具有圆形的横截面区域；以及 至少一个固定元件，用于将该管件的一部分定位和固定在相对于该处理腔室的装/卸口的一个预定的位置， 其中通过选择性地施加流体和/或真空进入该管件，该管件能在展开状态和向所述固定部分方向收缩的收缩状态之间活动，其中该管件在展开状态下阻塞该处理腔室的该装/卸口，而在收缩状态下开启该处理腔室的该装/卸口。
2.根据权利要求I的装置，其特征在于，该管件在展开状态下的直径至少是的被密封的处理腔室的装/卸口的高度的两倍大。
3.根据权利要求I或2的装置，其特征在于，腔室的尺寸设置使得该管件在展开状态下在径向方向上接触该腔室的壁，且密封在壳体中的该通道从而密封该处理腔室的该装/卸口，以及使得该管件在收缩状态下开启该通道。
4.根据权利要求I的装置，其特征在于，该固定元件是杆件，其相邻于在该管件内的要被固定的部分延伸。
5.根据权利要求4的装置，其特征在于，该杆件迫使该管件要被固定的部分径向地抵压支撑件。
6.根据权利要求4的装置，其特征在于，该杆件迫使该管件要被固定的部分径向地抵压该壳体。
7.根据权利要求4-6中任一项的装置，其特征在于，该杆件包括轴向延伸的腔室，该腔室包括可连接至流体源和/或真空源的第一开口，以及至少一从该腔室延伸至该杆件的外侧的通道。
8.根据权利要求I的装置，其特征在于，该固定元件是位于该管件外侧的元件，且其中要被固定至该固定元件的部分连接到该固定元件，且其中该要被固定的部分特别是被胶粘或被硬化至其上。
9.根据权利要求I的装置，其特征在于，至少一个支撑套管设置在该管件的端部区域，该支撑套管保持该端部区域在预定的形状，不论该管件在展开状态或收缩状态。
10.根据权利要求9的装置，其特征在于，该支撑套管迫使该管件在径向方向抵压支撑件，特别地抵压在该壳体中的密封件。
11.根据权利要求I的装置，其特征在于，设置至少一个用于向该收缩位置偏置该管件的偏置元件。
12.根据权利要求11的装置，其特征在于，该偏置元件是位于该管件内侧的弹性带，特别地是和该管件一体形成的带。
13.根据权利要求I的装置，其特征在于，以这样的方式提供至少两个管件第一管件至少部分地径向环绕第二管件，其中该第一管件包含至少一个用于施加真空至第一管件内部的开口，且其中该第二管件包含至少一用于引导压缩的流体至第二管件内部的开口。
14.根据权利要求I的装置，其特征在于，该管件分别在其每一相对的端部包含开口，以容许流体穿过该管件。
15.根据权利要求I的装置，其特征在于，所述基板为半导体基板。
16.用于处理基板的装置，该装置包括 至少一用于容纳该基板的处理腔室； 至少一形成在该处理腔室的壁上的用于该基板的装/卸口；以及 至少一根据权利要求I至15中的一项的装置。
17.根据权利要求16的装置，其特征在于，设置两个处理腔室，每一处理腔室包括面对相应的另一处理腔室的至少一个装/卸口，其中处理腔室的相对的装/卸口彼此互相对准以便于基板在处理腔室之间传输，以及其中根据权利要求1-13的一项的装置位于相对的装/卸口之间使得该装置在展开状态密封两个装/卸口，并因此互相隔离处理腔室，以及其中该装置在收缩状态开启处理腔室之间的连接。
专利摘要描述了一种用于关闭和开启至少一个用于处理基板的处理腔室的装/卸口的装置，以及一种用于处理基板的包括相应的关闭装置的装置。该关闭装置包括至少一个管件，该管件具有至少一个可连接至流体源和/或真空源的进口和/或出口开口，和壳体，该壳体具有用于容纳该管件的腔室，该腔室在该壳体中轴向延伸，以及横向于轴方向与该腔室交叉的通道，其中该通道与处理腔室的装/卸口对准且在其中该腔室具有圆形的横截面区域。进一步，提供至少一个固定元件，用于将该管件的一部分定位和固定在相对于该处理腔室的装/卸口的一个预定的位置。通过选择性地施加流体和/或真空进入该管件的内部空间，在膨胀或展开状态和向所述固定部分方向收缩的收缩状态之间活动，其中该管件在展开状态下阻塞该处理腔室的该装/卸口且在收缩状态下开启该处理腔室的该装/卸口。该用于处理基板的装置包括至少一个具有装/卸口和如上述类型关闭装置的处理腔室。
文档编号H01L21/67GK202384306SQ201120370430
公开日2012年8月15日 申请日期2011年8月4日 优先权日2010年8月4日
发明者P·沃克 申请人:森托塞姆热解决方案两合有限公司