外延设备的工艺管路系统的制作方法

文档序号:6973731阅读:254来源:国知局
专利名称:外延设备的工艺管路系统的制作方法
技术领域
本实用新型涉及一种半导体制造过程中的外延设备,具体涉及一种外延设备的工艺管路系统。
背景技术
现有的外延设备的工艺管路系统如

图1所示,包括内侧气流分配器、外侧气流分配器,工艺气体进气管分别连接内侧气流分配器、外侧气流分配器,内侧气流分配器通过内侧气流管路连接内侧喷嘴,外侧气流分配器通过两个相互并联的外侧气流管路分别连接外侧喷嘴;如图2所示,内侧喷嘴连接外延工艺腔的内侧腔体进气口,两个外侧喷嘴分别连接外延工艺腔的左右两个外侧腔体进气口。这种外延设备,外延工艺中的工艺气体必须经过内侧喷嘴和外侧喷嘴,形成层流然后进入外延工艺腔参加反应。在外延工艺中有二个重要的控制参数外延电阻率和膜厚。 其中调节膜厚均勻性的方法是调节内侧和外侧的气流分配,从而重新分配经过工艺片子中心和边缘的气流,达到调节膜厚均勻性的要求。在外延设备中,工艺气体从片子表面流过,而片子会旋转,从而获得较好的膜厚的均勻性。但是这种调节方式有一个缺陷在片子边缘至片子1/2处,气流由内侧气流分配器和外侧气流分配器共同控制,因此,该区域内的外延膜厚分布可以通过内侧气流分配器和外侧气流分配器的变化而得到调节,从而能够改善膜厚的均勻性。但是片子1/2至片子中心处,只有内侧气流分配器控制的气流通过,因此,该区域内的外延膜厚分布无法调节,导致片子中心点的膜厚最薄,而片子1/2处的膜厚最厚,膜厚的均勻性无法得到改善。

实用新型内容本实用新型所要解决的技术问题是提供一种外延设备的工艺管路系统,它可以改善外延设备的外延膜厚均勻性。为解决上述技术问题,本实用新型外延设备的工艺管路系统的技术解决方案为包括内侧气流分配器、外侧气流分配器,工艺气体进气管分别连接内侧气流分配器、外侧气流分配器;所述内侧气流分配器通过两个相互并联的内侧气流管路分别连接内侧喷嘴,所述外侧气流分配器通过两个相互并联的外侧气流管路分别连接外侧喷嘴;所述两个内侧气流管路分别设置有气流调节阀。所述两个内侧喷嘴分别连接外延工艺腔的左右两个内侧腔体进气口 ;所述两个外侧喷嘴分别连接外延工艺腔的左右两个外侧腔体进气口。本实用新型可以达到的技术效果是本实用新型能够实现对片子1/2至片子中心处的气流分布的调节,实现了对片子部分区域的气流可调性,从而能够改善外延设备的外延膜厚均勻性,调节片子1/2至片子中心处的膜厚分布。以下结合附图和具体实施方式
对本实用新型作进一步详细的说明图1是现有技术外延设备的工艺管路系统的示意图;图2是现有技术中外延工艺腔的示意图;图3是本实用新型外延设备的工艺管路系统的示意图;图4是本实用新型中外延工艺腔的示意图。
具体实施方式
如图3所示,本实用新型外延设备的工艺管路系统,包括内侧气流分配器、外侧气流分配器,工艺气体进气管分别连接内侧气流分配器、外侧气流分配器,内侧气流分配器通过两个相互并联的内侧气流管路分别连接内侧喷嘴,外侧气流分配器通过两个相互并联的外侧气流管路分别连接外侧喷嘴;两个内侧气流管路分别设置有气流调节阀;如图4所示,两个内侧喷嘴分别连接外延工艺腔的左右两个内侧腔体进气口,两个外侧喷嘴分别连接外延工艺腔的左右两个外侧腔体进气口。外延的膜厚是由气流的分布决定,要调节膜厚的分布一定需要调节气流的分布。 本实用新型将内侧气流分配器的气流分为可调节的左右二部分,这样可以通过调节内侧气流分配器左右二部分的比例达到改善外延膜厚均勻性的要求。本实用新型设置有两个内侧腔体进气口,使得内侧气流分配器分为二部分,从而改善膜厚均勻性。
权利要求1.一种外延设备的工艺管路系统,包括内侧气流分配器、外侧气流分配器,工艺气体进气管分别连接内侧气流分配器、外侧气流分配器;其特征在于所述内侧气流分配器通过两个相互并联的内侧气流管路分别连接内侧喷嘴,所述外侧气流分配器通过两个相互并联的外侧气流管路分别连接外侧喷嘴;所述两个内侧气流管路分别设置有气流调节阀。
2.根据权利要求1所述的外延设备的工艺管路系统,其特征在于所述两个内侧喷嘴分别连接外延工艺腔的左右两个内侧腔体进气口 ;所述两个外侧喷嘴分别连接外延工艺腔的左右两个外侧腔体进气口。
专利摘要本实用新型公开了一种外延设备的工艺管路系统,包括内侧气流分配器、外侧气流分配器,工艺气体进气管分别连接内侧气流分配器、外侧气流分配器;所述内侧气流分配器通过两个相互并联的内侧气流管路分别连接内侧喷嘴,所述外侧气流分配器通过两个相互并联的外侧气流管路分别连接外侧喷嘴;所述两个内侧气流管路分别设置有气流调节阀。本实用新型能够实现对片子1/2至片子中心处的气流分布的调节,实现了对片子部分区域的气流可调性,从而能够改善外延设备的外延膜厚均匀性,调节片子1/2至片子中心处的膜厚分布。
文档编号H01L21/20GK202281042SQ20112037900
公开日2012年6月20日 申请日期2011年10月9日 优先权日2011年10月9日
发明者冯慧钦, 张洪伟, 雷海波 申请人:上海华虹Nec电子有限公司
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