专利名称：一种氦氖双频激光器频差产生和赋值方法
技术领域：
本发明涉及一种双频激光器频差产生和赋值方法，特别是关于一种氦氖双频激光器频差产生和赋值方法。
背景技术：
由于氦氖(HeNe)激光器具有良好的频率稳定性，以氦氖双频激光器作为光源的双频外差干涉仪在距离测量、速度测量、振动测量和形貌测量等领域具有非常广泛的应用。氦氖双频激光器一般输出两正交线偏振光0光和E光,两线偏振光的频率之差为一个纵模间隔(几百 几千MHz)，当在垂直于激光器轴线方向加上200高斯左右的磁场时，由于横向塞曼效应和“模牵引”，每束光会分裂为两束正交线偏振光π光的振动方向平行于磁场，σ光的振动方向则垂直于磁场。当在平行于激光器轴线方向加上磁场时，由于纵向塞曼效应，每束光将分裂为两束正交的圆偏振光左旋圆偏振光和右旋圆偏振光。普通的氦氖激光 器在横向塞曼效应下输出的两正交线偏振光的频率之差一般小于IMHz ;纵向塞曼效应下输出的两正交圆偏振光的频率之差一般不大于3MHz。另外，采用晶体双折射元件能够产生40MHz以上的大频差，但原理所限不能产生40MHz以下的频差，且高频信号在后续的电路处理时也相当复杂。现有技术中采用应力双折射镜作为氦氖双频激光器的输出镜，相当于在腔内置入了双折射兀件，横向塞曼效应输出的两束线偏振光π光和σ光的频率之差一般在几MHz 十几MHz不等，但是由于工艺的问题，Π光和σ光的频率之差具有任意性，不能控制；采用应力双折射镜作为输出镜的氦氖双频激光器，由于应力双折射镜本身的应力大小具有不确定性，可以相应的输出几百KHz 十几MHz大小的频差，但是不能精确控而在双频外差干涉仪中。光源频差为5 IOMHz的应用是最合适、最理想的选择，因此3 40MHz频差的氦氖双频激光器一度成为双频激光领域的空白。
发明内容
针对上述问题，本发明的目的是提供一种根据需求调整输出镜内的应力大小，为氦氖双频激光器输出的频差在3MHz 40MHz范围内赋值的氦氖双频激光器频差产生和赋值方法。为实现上述目的，本发明采取以下技术方案一种氦氖双频激光器频差产生和赋值方法，包括以下步骤1)设置一包括有氦氖双频激光器、激光雕刻机和计算机的系统，所述氦氖双频激光器的谐振腔的输出镜为应力双折射镜；2)激光雕刻前，将氦氖双频激光器的垂轴方向加磁场，测试并标不出氦氖双频激光器输出两束偏振光的偏振方向，并确定应力增加时，频差也相应增大的方向；3)调整激光雕刻机与应力双折射镜之间的位置，使激光雕刻机的入射光与应力双折射镜面垂直，并调整激光雕刻机出光点的方向，使其聚焦在应力双折射镜内的厚度中心处；4)将所需雕刻的图案输入到计算机中；5)启动所述激光雕刻机，根据所需要获取的氦氖双频激光器频差大小，控制激光雕刻机的泵浦电流、图案炸点的大小、体积及气化的程度，并调节所雕刻图案炸点与所述激光雕刻机中心出光点的距离，所述计算机控制激所述光雕刻机将图案雕刻在所述应力双折射镜内。所述步骤3)中调整激光雕刻机出光点的方向，使其聚焦在应力双折射镜内的厚度中心时要避开应力双折射镜的高反射膜层，激光雕刻机出光点距离应力双折射镜的高反射膜层圆心的距离为2 5mm。所述步骤4)中图案的形状或者大小根据所需要产生频差大小进行确定。所述步骤5)中当产生的频差超过预定值或小于预定值时，通过减小激光雕刻机的泵浦电流、改变雕刻图案距离激光雕刻机中心出光点的距离或调节图案炸点的方法褪应力或追加应力进行控制，褪应力的方向与追加应力的方向垂直。本发明由于采取以上技术方案，其具有以下优点1、本发明采用激光雕刻机在氦氖双频激光器的应力双折射镜内雕刻某些图案，使应力双折射镜内部形成气化炸点，由于 这些气化炸点被固定在应力双折射镜内，从而形成比较稳定的内应力，使氦氖双频激光器能够输出相对更稳定的频差，且这些残余应力不会随时间逐渐消退，时效性强。2、本发明可以通过控制激光雕刻机的泵浦电流、图案炸点的大小、体积及气化的程度，雕刻图案炸点与激光器出光点之间的距离等因素控制应力双折射镜的内应力，进而调节氦氖双频激光器输出的频差大小，并且可以根据氦氖双频激光器的频差输出结果通过褪应力与追加应力对频差进行修正调整，可以获得频差在3MHz 40MHz范围内的氦氖双频激光器，填补了双频激光领域的空白，弥补了双频激光器输出频差不能修正和控制等缺憾。本发明可以适用于全内腔氦氖激光器，也可适用于半外腔氦氖激光器，广泛应用在外差式双频激光干涉仪及其它激光技术领域。
图I是本发明的输出镜为应力双折射镜的氦氖双频激光器的结构示意图；图2是本发明采用激光雕刻法在输出镜上雕刻图案的示意图；图3是图2的侧视示意图。
具体实施例方式下面结合附图和实施例对本发明进行详细的描述。如图I所示，现有氦氖激光器包括有玻璃外壳I、阴极筒2、毛细管3、全反射镜4和输出镜5，输出镜5采用应力双折射镜；全反射镜4和应力双折射镜5分别通过可伐材料连接块6与玻璃外壳I利用低熔点玻璃粉高温封接成一体。当氦氖双频激光器的垂轴方向加上适当的磁场后，由于横向塞曼效应和“模牵引”，每个激光纵模将分裂成两束正交线偏振激光输出，两束线偏振光的频差与应力双折射镜上的残余应力相关，因此通过调整应力双折射镜5的应力，可以调整氦氖双频激光器输出的两束线偏光的频差至理想值，本发明采用激光雕刻法可以使氦氖双频激光器产生的频差范围为3 40MHz，具体过程包括以下步骤I、设置一包括有氦氖双频激光器、激光雕刻机和计算机的系统，氦氖双频激光器的谐振腔的输出镜采用应力双折射镜5。2、激光雕刻前，将氦氖双频激光器的垂轴方向加适当磁场以消除模竞争，通过实验测试并标示出氦氖双频激光器所输出两束偏振光的偏振方向，具体过程为在其中一个偏振方向上轻微施加外力，通过一示波器上观察频差的变化，以确定应力增加时频差增大的方向，通常增大应力时频差增加的方向为两偏振光的偏振方向之一，而增大应力时频差减小的方向恰好为另一偏振光的偏振方向。3、调整激光雕刻机与氦氖双频激光器的应力双折射镜5之间的位置，使激光雕刻机的入射光与应力双折射镜面垂直，并调整激光雕刻机出光点的方向，使其聚焦在应力双折射镜内厚度中心的位置。4、将所需雕刻的图案输入到计算机中。
5、启动激光雕刻机，根据所需要获取的频差大小，控制激光雕刻机的泵浦电流，并调节所雕刻图案炸点与激光雕刻机中心出光点的距离，由计算机控制激光雕刻机将预先制作的图案雕刻在应力双折射镜5内；例如需要氦氖双频激光器产生2MHz IOMHz的频差时，选用激光雕刻机的功率为2W，泵浦电流为3. 5A左右，雕刻图案为直径Imm左右的半球，雕刻图案的分辨率(组成图案的相邻两个点之间的距离)为O. Olmm左右。如图2、图3所示，上述各实施例中，由于应力双折射镜5的外侧镀设高反射膜层7,高反射膜层7的直径大小一般小于应力双折射镜5的直径，步骤3中调整激光雕刻机出光点的方向，要避开应力双折射镜5的高反射膜层7，激光雕刻机出光点距离高反射膜层7圆心的距离为2 5_。上述各实施例中，步骤4中使用激光雕刻机在应力双折射镜5内部雕刻图案或图形，可以抵消应力双折射镜5的残余应力或产生新的更大的应力，可以通过控制雕刻图案的炸点与激光雕刻机出光点的距离，图案炸点的大小、体积及气化的程度等相关参数，能够精确的控制氦氖双频激光器的频率差。当产生的频差超过预定值或小于预定值时，可以通过减小激光雕刻机的泵浦电流、改变雕刻图案距离激光雕刻机中心出光点的距离或调节图案炸点的方法褪应力(减小应力)或追加应力(增加应力)来控制，褪应力的方向与追加应力的方向垂直。上述各实施例中，雕刻图案是由激光雕刻机在应力双折射镜5内打出图案的点云，由于点云为高温气化炸点，因此可以改变应力双折射镜5的内应力分布,从而使氦氖双频激光器输出与内应力相对应的频差，图案的形状或者大小可以根据实际进行选定和调节，在此不作限定，只要能够满足应力大小调节要求即可。下面以氦氖双频激光器产生的频差为20MHz为具体实施例进一步说明采用本发明的方法产生频差的过程，包括以下步骤I、激光雕刻前，将氦氖双频激光器的垂轴方向加200高斯左右的磁场，通过实验确定应力增加时，频差也相应增大的方向。2、调整激光雕刻机与氦氖双频激光器的应力双折射镜5之间的位置，使激光雕刻机的入射方向垂直于应力双折射镜面，且中心出光点距离高反射膜层7圆心的距离为约为5mm (如图2所示，黑点与高反射膜层7圆心的距离为5mm)，并使激光雕刻机焦点处于应力双折射镜内厚度中心处。3、将直径为1mm，分辨率为O. Imm的半球图案文件输入到计算机中。4、启动激光雕刻机，将激光雕刻机的泵浦电流调整到3. 8A，由计算机控制激光雕刻机将预半球图案雕刻在应力双折射镜5内，即可得到氦氖双频激光器的输出频差为所需产生的频差。上述各实施例仅 用于说明本发明，其中方法的实施步骤等都是可以有所变化的，凡是在本发明技术方案的基础上进行的等同变换和改进，均不应排除在本发明的保护范围之外。
权利要求
1.一种氦氖双频激光器频差产生和赋值方法，包括以下步骤 1)设置ー包括有氦氖双频激光器、激光雕刻机和计算机的系统，所述氦氖双频激光器的谐振腔的输出镜为应カ双折射镜； 2)激光雕刻前，将氦氖双频激光器的垂轴方向加磁场，测试并标示出氦氖双频激光器输出两束偏振光的偏振方向，并确定应カ增加时，频差也相应增大的方向； 3)调整激光雕刻机与应カ双折射镜之间的位置，使激光雕刻机的入射光与应カ双折射镜面垂直，并调整激光雕刻机出光点的方向，使其聚焦在应カ双折射镜内的厚度中心处； 4)将所需雕刻的图案输入到计算机中； 5)启动所述激光雕刻机，根据所需要获取的氦氖双频激光器频差大小，控制激光雕刻机的泵浦电流、图案炸点的大小、体积及气化的程度，并调节所雕刻图案炸点与所述激光雕刻机中心出光点的距离，所述计算机控制激所述光雕刻机将图案雕刻在所述应カ双折射镜内。
2.如权利要求I所述的ー种氦氖双频激光器频差产生和赋值方法，其特征在于所述步骤3)中调整激光雕刻机出光点的方向，使其聚焦在应カ双折射镜内的厚度中心时要避开应カ双折射镜的高反射膜层，激光雕刻机出光点距离应力双折射镜的高反射膜层圆心的距离为2 5mm。
3.如权利要求I所述的ー种氦氖双频激光器频差产生和赋值方法，其特征在于所述步骤4)中图案的形状或者大小根据所需要产生频差大小进行确定。
4.如权利要求2所述的ー种氦氖双频激光器频差产生和赋值方法，其特征在于所述步骤4)中图案的形状或者大小根据所需要产生频差大小进行确定。
5.如权利要求I或2或3或4所述的ー种氦氖双频激光器频差产生和赋值方法，其特征在于所述步骤5)中当产生的频差超过预定值或小于预定值时，通过减小激光雕刻机的泵浦电流、改变雕刻图案距离激光雕刻机中心出光点的距离或调节图案炸点的方法褪应カ或追加应カ进行控制，褪应カ的方向与追加应カ的方向垂直。
全文摘要
本发明涉及一种氦氖双频激光器频差产生和赋值方法，包括以下步骤1)设置包括有双频激光器、激光雕刻机和计算机的测量系统，双频激光器的输出镜为应力双折射镜；2)激光雕刻前，将双频激光器的垂轴方向加磁场，开启双频激光器，测试并标示出双频激光器输出两束偏振光的偏振方向，并确定应力增加时，频差也相应增大的方向；3)调整激光雕刻机与应力双折射镜之间的位置，使激光雕刻机的入射光与应力双折射镜面垂直，并调整激光雕刻机出光点的方向，使其聚焦在应力双折射镜内的厚度中心处；4)将所需雕刻的图案输入到计算机中；5)启动激光雕刻机，控制并调节相关参数，计算机控制激光雕刻机将图案雕刻在应力双折射镜内。本发明可以广泛用于外差式双频激光干涉仪及其它激光技术领域。
文档编号H01S3/106GK102780154SQ20121027525
公开日2012年11月14日 申请日期2012年8月3日 优先权日2012年8月3日
发明者张书练, 朱守深, 李岩 申请人:清华大学