专利名称：湿式处理设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及湿式处理设备，且更明确地说，涉及用于通过湿式处理方法处理衬底的表面的湿式处理设备。
背景技术：
用于包含薄膜晶体管的显示装置的衬底以及用于半导体装置的衬底经历表面处理工艺，以用于从衬底的表面去除氧化硅薄膜或用于平坦化硅薄膜的表面。表面处理工艺是通过将诸如蚀刻剂的处理液体施加于衬底的表面上而执行。在湿式处理设备中，执行工艺的处理室可能会受到处理液体污染。因此，安装于处理室中的装备可能容易腐蚀。因此，安装于执行工艺的处理室中的装备需由具有高的耐腐蚀性以及高的耐化学性的材料形成。此情形过度地增加了装备成本,而且,归因于材料的限制，诸如复杂的升高系统的某装备可能无法安装于处理室中。
发明内容
本发明提供一种湿式处理设备，其中具有长的耐久性的升高处理设施可用低的成本来安装。本发明提供一种湿式处理设备，包含:处理室，其包括衬底进入所通过的第一门以及所述衬底退出所通过的第二门；移动台，其经配备以在所述处理室中上下移动且其上放置有所述衬底；多个支撑件，其连接到所述移动台；驱动单元，其经配备以通过连接到所述支撑件中的至少一个而上下移动所述移动台；固定台，其固定地安置于所述处理室中且面对所述移动台，且所述支撑件中的至少一个通过固定台；以及多个保护构件，其安置于所述固定台与所述移动台之间、围绕所述支撑件中的每一个，且经配备以延伸以及收缩。所述固定台可位于所述移动台与所述驱动单元之间。所述固定台可包含位于所述处理室的底部表面与所述移动台之间的第一固定台。所述固定台可包含位于所述处理室的上部表面与所述移动台之间的第二固定台。所述支撑件可包含连接到所述移动台的下部表面的至少一个第一支撑件。所述支撑件可包含连接到所述移动台的上部表面的至少一个第二支撑件。并未连接到所述驱动单元的所述支撑件是导杆。所述固定台可与所述处理室的侧壁以密封方式组合。所述第一 门以及所述第二门可垂直于彼此而安置。所述湿式处理工艺可更包含安装于所述处理室中且将处理液体供应到所述衬底上的湿式处理单元。
如上文所述，根据本发明，由于形成上下移动移动台的升高系统的支撑件以及驱动单元可被保护以免受处理溶液影响，因此不必通过使用具有高的耐腐蚀性以及高的耐化学性的昂贵材料来形成这些构成元件，从而降低湿式处理设备的制造成本。又，湿式处理设备中的升高系统的耐久性可增加。又，即使湿式处理单元安装于处理室中，升高系统仍可安装于处理室中。处理室的上部表面和/或底部表面可被保护以免受处理溶液的分散影响。由于处理液体是由第一固定台收集，因此处理液体的排放为顺利的且处理液体的处理为容易的，从而减少环境污染。根据本发明的湿式处理设备可用作方向转换设备，其在用于处理线性布置的衬底的表面的系统中转换衬底的移动方向。
通过参看所附图式详细描述本发明的示范性实施例，本发明的以上以及其它特征与优点将变得更加显而易见。图1是显示根据本发明的实施例的湿式处理设备的配置的示意图。图2是根据本发明的实施例的图1的移动台的实例的透视图。图3是显示图2的移动 台上的衬底的倾斜状态的示意图。图4是显示根据本发明的另一实施例的湿式处理设备的配置的示意图。图5是显示根据本发明的再一实施例的湿式处理设备的配置的示意图。图6是具有四个支撑件的移动台的示意性平面图。
具体实施例方式现将参看显示本发明的示范性实施例的附图来更全面地描述本发明。图1是显示根据本发明的实施例的湿式处理设备的配置的示意图。如图1中所示，根据当前实施例的湿式处理设备包含处理室20、移动台40以及第一固定台51。移动台40以及第一固定台51安置于处理室20中。处理室20可为将衬底10进行湿式处理的腔室，且包含衬底10进入所通过的第一门21以及衬底10退出所通过的第二门22。第一门21以及第二门22可在垂直于彼此的方向上安置。在本发明的实施例中，第一门21安置于处理室20的侧壁的上侧上，且第二门22安置于第一门21的正下方。然而，本发明不限于此，即，第二门22可安置于处理室20的侧壁的上侧上，且第一门21可安置于第二门22的正下方。又，第一门21可形成于处理室20的侧壁的上侧上，且第二门22可安置于处理室20的另一侧壁的下侧上。又，第一门21可安置于处理室20的侧壁的下侧上，且第二门22可安置于处理室20的另一侧壁的上侧上。尽管未图示，但扇形过滤器(fan filter)单元(未图示)可安装于处理室20的外部区域上。扇形过滤器单元将处理室20的内区域维持为清洁的，且通过执行通风而防止颗粒附着到衬底10的表面。衬底10放置于处理室20中的移动台40上。图2是图1的移动台40的实例的透视图。如图2中所示，移动台40可包含框架41。框架41包含:第一框架411以及第二框架412，其在X方向上彼此平行而延伸，X方向是衬底10的水平移动方向Xl ;以及第三框架413以及第四框架414，其在Y方向上彼此平行而延伸，Y方向是垂直于衬底10的水平移动方向Xl的方向。第一至第四框架411至414经组合以大致形成四边形。位于水平移动方向Xl的边缘上的第三框架413定位为低于其他框架，使得衬底10可容易地进入处理室20中。尽管未图示，但当衬底10在不同于进入方向的方向上退出时，第四框架414连同第三框架413也可定位为低于第一框架411以及第二框架412。支撑衬底10的侧表面的支撑滚筒43安装于第一框架411以及第二框架412的上部表面上。又，支撑滚筒43可安装于第四框架414上，第四框架414安置于水平移动方向Xl的另一边缘上。如图2中所示，多个支撑杆421是通过在第一框架411以及第二框架412上分开预定间隙而安置。分开预定间隙的多个驱动辊422耦接到支撑杆421中的每一个。支撑杆421中的每一个的两个边缘分别埋入于第一框架411以及第二框架412中。齿轮(未图示)安装于支撑杆421中的每一个的两个边缘上。螺旋齿轮(helical gear)安装于第一框架411以及第二框架412中的一个上，且螺旋齿轮由额外驱动单元(未图示)旋转。当螺旋齿轮由驱动单元旋转时，支撑杆421通过动力从螺旋齿轮的传送而旋转，且因此，支撑辊422也旋转。如图1中所示，衬底10放置于驱动辊422上，且衬底10可通过驱动辊422的旋转在水平移动方向Xl上移动。多个支撑件44连接到移动台40，且可延伸且可收缩的保护构件45形成以围绕支撑件44中的每一个的外侧。移动台40可通过支撑件44的移动而上下移动，即，在图2中，在支撑件44的Z方向上向上移动以及向下移动(或延伸以及收缩移动)。此时，当在位于Y方向的边缘上的一对支撑件44与在Y方向的另一边缘上的一对支撑件44之间的延伸以及收缩长度不同时，移动台40可倾斜预定角0，且因此，如图3中所示，放置于移动台40上的衬底10也可从第一位置Pl倾斜到第二位置P 2。在此状况下，由于第一框架411上的支撑滚筒43 (见图2)，衬底10可能不会进一步下降。移动台40的倾斜对于处置大型衬底为非常有用的，且对从衬底10的表面排放处理液体也是有用的。在图1的湿式处理设备中，用于将处理液体施加到衬底10的表面上的湿式处理单元30提供于处理室20中。湿式处理单元30可供应用于清洁或蚀刻衬底10的表面的至少一种处理液体，且可为经设计以在沿着衬底10的表面在水平方向上往复地线性移动的同时将处理液体喷射到衬底10的表面上的线性刀片(blade)，或经设计以通过至少一个喷嘴喷洒衬底10的表面的全部或部分的喷洒单元。驱动单元60安装于处理室20的下侧上。第一支撑件44a连接到驱动单元60。第一支撑件44a的上部末端与移动台40的下部表面组合。驱动单元60同时或部分地升高(或降低)第一支撑件44a，且因此，移动台40可在处理室20中升高(或降低)。驱动单元60以及第一支撑件44a可为圆柱体装置或马达与齿轮装置。面对移动台40的第一固定台51位于处理室20中。第一固定台51安置于移动台40与处理室20的底部表面24之间。驱动单元60安置于第一固定台51与处理室20的底部表面24之间，且由此，连接到驱动单元60的第一支撑件44a通过第一固定台51连接到移动台40。第一支撑件44a经安装，使得第一支撑件44a的升高移动不被第一固定台51中断。第一支撑件44a由第一保护构件45a围绕。第一保护构件45a形成以上下延伸或收缩。第一保护构件45a可由具有高的耐化学性的合成树脂材料形成，以防止第一支撑件44a受从湿式处理单元30所喷射的处理液体影响。因此，在图1的湿式处理设备中，根据当前实施例，位于移动台40与第一固定台51之间的第一支撑件44a处于由第一保护构件45a密封以免受处理液体影响的状态。第一保护构件45a可按风箱的形状形成。第一固定台51可与处理室20的侧壁组合且密封。因此，驱动单元60以及第一支撑件44a的位于第一固定台51下的部分可被保护以免受处理液体影响。尽管未图示，但排水系统可与第一固定台51组合，使得朝向处理室20的底部表面24下降的处理液体收集于第一固定台51上且顺利地排放到外部。在本发明中，由于第一支撑件44a以及驱动单元60被保护以免受处理液体影响，因此不必由昂贵的高抗腐蚀性以及高耐化学性材料形成第一支撑件44a以及驱动单元60，从而降低制造成本且增加第一支撑件44a以及驱动单元60的耐久性。又，尽管湿式处理单元30安装于处理室20中，但用于升高移动台40的元件(诸如，第一支撑件44a以及驱动单元60)也可安装于处 理室20中。在图1的湿式处理设备的状况下，衬底10通过第一门21进入处理室20中。此时，移动台40位于处理室20的上部部分上以收纳衬底10。之后，移动台40朝向处理室20的下部部分降低，且关于衬底10的表面的湿式处理由湿式处理单元30执行。之后，衬底10通过第二门22从处理室20排出。湿式处理单元30可位于处理室20的上部部分上。在此状况下，当移动台40位于处理室20的上部部分上时，可执行湿式处理。当湿式处理完成时，保留于衬底10的表面上的处理液体可由上文所述的倾斜工艺，或通过另外安装气刀单元或湿式处理单元30将空气喷洒到衬底10的表面上来去除。图4是显示根据本发明的另一实施例的湿式处理设备的配置的示意图。第二固定台52安装于移动台40与处理室20的上部表面23之间。驱动单元60位于第二固定台52与处理室20的上部表面23之间。第二支撑件44b连接于移动台40与驱动单元60之间。因此，连接到驱动单元60的第二支撑件44b通过第二固定台52连接到移动台40。第二支撑件44b经安装，使得第二支撑件44b的升高移动(或收缩移动)不被第二固定台52中断。第二支撑件44b由第二保护构件45b围绕。第二保护构件45b形成以向下延伸以及向上收缩。第二保护构件45b可由具有高的耐化学性的合成树脂材料形成，以保护第二支撑件44b以免受处理液体影响。因此，在图4的湿式处理设备中，位于移动台40与第二固定台52之间的第二支撑件44b由第二保护构件45b密封以免受处理液体影响。第二保护构件45b可按风箱的形状形成。第二固定台52可以密封方式附接到处理室20的侧壁。因此，驱动单元60以及第二支撑件44b位于第二固定台52上方的部分可被保护以免受处理室20中的处理液体和/或强腐蚀性气氛影响。此湿式处理方法与参看图1所述的湿式处理方法相同，且由此，将不重复其详细描述。图5是显示根据本发明的再一实施例的湿式处理设备的配置的示意图。第一固定台51在移动台40与处理室20的底部表面24之间进一步安装到图4的湿式处理设备。因此，溢出到处理室20的底部表面24上的处理液体可收集于第一固定台51上。
多个第一支撑件44a安装于移动台40的下部表面上，且第一支撑件44a的边缘可通过第一固定台51延伸到处理室20的底部表面24。第一支撑件44a并未连接到驱动单元60，但执行为导引移动台40以具有稳定的升高移动的导杆。因此，当驱动单元60位于处理室20的上部部分上时，移动台40可稳定地上下移动。然而，本发明不限于此，即，额外驱动单元(未图示)可安装于第一固定台51下方且第一支撑件44a可连接到驱动单元。又，在图5中，位于处理室20的上部部分上的驱动单元60可位于第一固定台51下方，且第二支撑件44b可用作导杆。第一支撑件44b如图1中的第一支撑件44a由第一保护构件45a围绕，且由此，将不重复其详细描述。图6是移动台40的示意性平面图，且移动台40可在四个转角上具有四个支撑件(第一支撑件44a以及第二支撑件44b)。S卩，在图6中，第一支撑点441以及第三支撑点443可位于邻近于水平移动方向Xl (衬底沿着其进入以及退出)的两个转角上，且第二支撑点442以及第四支撑点444可分别位于与第一支撑点441以及第三支撑点443相对的两个转角上。上文所述的第一支撑件44a以及第二支撑件44b安装于第一至第四支撑点441至444上。根据本发明，图5的第一支撑件44a以及第二支撑件44b可用上文所述的结构的组合安装于第一至第四支撑点441至444上。举例来说， 第一支撑点441上的支撑件可具有与第一支撑件44a相同的结构，且第二至第四支撑点442至444上的支撑件可具有与第二支撑件44b相同的结构。此时，驱动单元可通过安置于处理室的下部部分上而连接到第一支撑件44a，或可通过安置于处理室的上部部分上而连接到第二支撑件44b。又，在此状况下，另一第一支撑件44a可进一步安置于第二至第四支撑点442至444上。或者，第一支撑点441上的支撑件可具有与第二支撑件44b相同的结构，且第二至第四支撑点442至444上的支撑件可具有与第一支撑件44a相同的结构。此时，如上文所述，驱动单元可通过安置于处理室的下部部分上而连接到第一支撑件44a，或通过安置于处理室的上部部分上而连接到第二支撑件44b。又，在此状况下，另一第一支撑件44a可进一步安置于第一支撑点441上。 又，第一支撑件44a可安置于第一支撑点441以及第三支撑点443上，且第二支撑件44b可安置于第二支撑点442以及第四支撑点444上。此时，驱动单元可通过安置于处理室的下部部分上而连接到第一支撑件44a，或通过安置于处理室的上部部分上而连接到第二支撑件44b。又，在此状况下，另一第一支撑件44a可进一步安置于第二支撑点442以及第四支撑点444上。第一支撑点441以及第三支撑点443上的支撑件中的至少一个(其邻近于衬底进入以及退出所沿着的水平移动方向XI)经配置为第一支撑件44a。因此，在衬底在移动台40上水平地移动时衬底的移动对支撑件的干扰的可能性可得以最小化。如上文所述，在根据本发明的湿式处理设备中，湿式处理单元30在处理室20中的安装并非必需的。举例来说，湿式处理单元30可安装于连接到处理室的另一处理室中。在此状况下，处理室20暴露于腐蚀气氛，且由此，如上文所述，衬底升高系统可被保护以免受腐蚀气氛影响。
尽管已参考本发明的示范性实施例特定地显示且描述了本发明，任何所属技术领域中的普通技术人员，当可作些许改`动与润饰，而不脱离本发明的精神和范围。
权利要求
1.一种湿式处理设备，包括: 处理室，其包括衬底进入所通过的第一门以及所述衬底退出所通过的第二门； 移动台，其经配备以在所述处理室中上下移动且其上放置有所述衬底； 多个支撑件，其连接到所述移动台； 驱动单元，其经配备以通过连接到所述支撑件中的至少一个而上下移动所述移动台； 固定台，其固定地安置于所述处理室中且面对所述移动台，且所述支撑件中的至少一个通过所述固定台；以及 多个保护构件，其安置于所述固定台与所述移动台之间、围绕所述支撑件中的每一个，且经配备以延伸以及收缩。
2.根据权利要求1所述的湿式处理设备，其特征在于所述固定台位于所述移动台与所述驱动单元之间。
3.根据权利要求1所述的湿式处理设备，其特征在于所述固定台包括位于所述处理室的底部表面与所述移动台之间的第一固定台。
4.根据权利要求1所述的湿式处理设备，其特征在于所述固定台包括位于所述处理室的上部表面与所述移动台之间的第二固定台。
5.根据权利要求1所述的湿式处理设备，其特征在于所述支撑件包括连接到所述移动台的下部表面的至少一个第一支撑件。
6.根据权利要求1所述的湿式处理设备，其特征在于所述支撑件包括连接到所述移动台的上部表面的至少一个 第二支撑件。
7.根据权利要求1所述的湿式处理设备，其特征在于并未连接到所述驱动单元的所述支撑件是导杆。
8.根据权利要求1至7中任一权利要求所述的湿式处理设备，其特征在于所述固定台与所述处理室的侧壁以密封方式组合。
9.根据权利要求1至7中任一权利要求所述的湿式处理设备，其特征在于所述第一门以及所述第二门垂直于彼此而安置。
10.根据权利要求1至7中任一权利要求所述的湿式处理设备，更包括安装于所述处理室中且将处理液体供应到所述衬底上的湿式处理单元。
全文摘要
本发明提供一种湿式处理设备，其包含处理室，其包括衬底进入所通过的第一门以及所述衬底退出所通过的第二门；移动台，其经配备以在所述处理室中上下移动且其上放置有所述衬底；多个支撑件，其连接到所述移动台；驱动单元，其经配备以通过连接到所述支撑件中的至少一个而上下移动所述移动台；固定台，其经固定地安置以面对所述移动台，且所述支撑件中的至少一个通过固定台；以及多个保护构件，其安置于所述固定台与所述移动台之间、围绕所述支撑件中的每一个，且经配备以延伸以及收缩。
文档编号H01L21/67GK103247553SQ201210375148
公开日2013年8月14日 申请日期2012年9月27日 优先权日2012年2月10日
发明者张承逸, 安吉秀 申请人:株式会社Mm科技