用于湿法化学处理的设备的制作方法

文档序号:7131002阅读:359来源:国知局
专利名称:用于湿法化学处理的设备的制作方法
技术领域
本实用新型涉及一种用于湿法化学处理的设备,以用于借助处理液对衬底进行湿法化学处理。更准确地,本实用新型涉及一种可替换的处理池。
背景技术
通常使用容纳相应处理液的处理池来对例如为硅衬底(晶圆)的物体进行湿法化学的处理,所述处理例如涉及对这种衬底进行移除(蚀刻)、覆层或清洗。根据期望的处理,处理液为蚀刻液、覆层液(例如电解液)、或清洗液。随后,衬底或者成堆叠状地弓I入到池中(“批量处理”),或者将所述衬底以连续式方法运输经过处理液或者沿着处理液运输(“连续式处理”),其中所述衬底在处理时间内保留于所述池中。例如从US5,000, 827和DE102007020449中已知适合于成堆叠状地处理衬底的设
备的实例。所述参考文献示出用于处理置于反应器壳体之上的衬底的所谓的溢流反应器。借助于泵输送的处理液穿过反应器壳体向上流动,其中在衬底和反应器壳体的上部端部之间设有一定距离,使得形成构造为溢流口的环形间隙。因为在使用这种处理池时,处理液穿过反应器壳体的上部边缘从所述反应器壳体中流出,通常在池之下存在有用于容纳溢出液体的容器。由于工艺顺序的改变、由于定期的检验工作、或者由于要短时间内执行的维护工作,必须能够替换处理池。对此,通常需要一系列的措施,其中尤其强调将处理池从用于容纳的容器中脱离和可靠地提升池。在此,对池精确地以及谨慎地进行提升是期望的。

实用新型内容因此,本实用新型的目的是提供一种设备,所述设备实现对用于湿法化学工艺的处理池进行简单的以及可靠的替换。在此,尤其期望省时地、可靠地和尽可能位置精确地提升池或放下(替换)池。此外,解决方案应尽是可能低成本的。所述目的通过用于湿法化学处理的设备以用于借助处理液对衬底进行湿法化学处理来实现,所述用于湿法化学处理的设备包括:具有外壁的、能够替换的处理池;设置在所述处理池之下的、用于容纳从所述处理池中流出的处理液的容器;以及至少两根偏心轴,借助于所述偏心轴能够通过提升来将所述处理池与所述用于容纳的容器分离。其他有利的实施形式从说明书中以及附图得出。根据本实用新型的设备用于借助处理液对衬底进行湿法化学处理。根据定义,这种处理不仅包括对衬底进行化学移除或覆层,而且包括穿过或沿着所述处理液对衬底进行清洗或者仅仅运输。根据本实用新型,设备包括能够具有外壁的、可替换的处理池;设置在处理池之下的、用于容纳从处理池中流出的处理液的容器;以及至少两根偏心轴,借助于所述偏心轴通过提升用于容纳的容器能够分离处理池。优选地,处理池能够在至少两根偏心轴上在提升位置中移动。[0011]根据一个优选的实施形式,在处理池的外壁和用于容纳的容器之间的过渡区域中设置有基于液体的密封部,通过在过渡区域中提供液体收集容积部实现所述密封部的构成。为了阐明这种密封部参考参附图描述。尤其优选地,所述液体收集容积部具有小于偏心轴的偏心距的(要垂直地确定的)深度。通过以偏心距的大小提升处理池能够足够高地将所述处理池从液体收集容积部的接合区域中提起,以便能够无碰撞或歪斜地将所述处理池可靠地移出。这当液体收集容积部的深度大于偏心距时是不可能的;因此,从接合区域中附加地进行提升是必需的。此外优选的是,偏心轴从设备的提取侧朝向与所述提取侧对置的后侧倾斜地延伸。因此,在拉出时,在然后起到滑轨或导轨作用的偏心轴上继续提升处理池。对此也参考附图描述。以这种方式可能的是,无工具地(或者至少用少量工具地)替换处理池,还在较短时间内完成所述替换。随后,描述利用根据本实用新型的设备对用于借助处理液对衬底进行湿法化学处理的处理池的替换。为避免重复可以参考上述实施形式。这种应用包括利用至少两根偏心轴通过提升来将处理池与用于容纳的容器分离的、与替换池有关的步骤,以及接下来在提升位置中的处理池的移动。为替换处理池,首先在与处理池连接的配合面处通过与所述配合面共同作用的偏心轴的旋转将该处理池提升。随后,在借助于旋转偏心轴进行提升之后,在提升位置中,处理池在所述偏心轴上移动。清楚的是,进行所述移动使得将要替换的处理池从处理站的区域中移出。优选地,能够将处理池在充分的移动之后放置在池运输设备上。同样清楚的是,以相反的方式进行将同一个或另一个处理池装如到处理站中。因此不相应地进行描述。因此,本实用新型提供一种设备,借助所述设备基于借助于偏心轴进行的提升可实现简单、可靠、快速和低成本地替换用于湿法化学处理衬底的处理池。

在图1中示出用于湿法化学处理的根据本实用新型的设备的优选的实施形式的剖面图。所述设备在其上部区域中具有用于例如尤其为平坦衬底的物体(没有示出)的处理池I。在处理池I中存在处理液F,从所述处理液中连续地、然而尤其在处理期间能够流出处理液F,所述处理液在图1中通过相应的箭头表明(仅部分地设有附图标记)。
具体实施方式
在该实施形式中,处理池I双层壁式地构成。所述处理池的外壁2和内壁3在构成中间腔4的情况下相互隔开。溢流的或喷出的处理液能够通过所述中间腔4向下引出,以便不泄漏到周围空气中或不污染周围环境U。在处理池I之下设置有用于容纳处理液F的容器5。在示出的实施形式中,所述容器支承处理池1,并且类似于具有基本上气密的壁的台座(包括底板和覆盖板)构成。然而,在朝向处理池下侧的边界区域中,用于容纳的容器5具有通孔6(仅左侧的通孔设有附图标记)。处理液F能够穿过所述通孔6到达用于容纳的容器5的内腔7中。[0023]从处理池I溢流出的处理液F由于重力S在中间腔4中向下流动并且收集在处理池I的下侧和用于容纳的容器5的上侧之间的边界区域中。在那里,更准确地说在处理池I的外壁2和用于容纳的容器5之间的过渡区域中设置有相对于周围环境U屏蔽处理液F的密封部8。所述密封部8是必要的,因此处理液F还保持在设备的内部中,并且不能够到达周围环境U中。密封部8是液密的。在图1中仅在细节圈K中表明密封部8。尤其优选的是,所述密封部构成为基于液体的密封部,通过在处理池I的外壁2和用于容纳的容器5之间的过渡区域中提供液体收集容积部(没有示出)来实现密封部8的构成。根据本实用新型的设备具有两根偏心轴9,借助于所述偏心轴能够通过提升将处理池I与用于容纳的容器5分离,并且在偏心轴9上能够将所述处理池在提升位置中朝设备提取侧移动。在示出的视图中,所述提取侧朝向观察者。通过将偏心轴9从下沉位置中以优选为180度的角度旋转到提升位置中来进行所述提升。在此,由于偏心轴9的偏心距,相应地指向上的、与处理池I的相应的配合面接触的接触线到密封部8或用于容纳的容器5的上侧的距离也发生改变。根据示出的、优选的实施形式,偏心轴9具有偏心距,所述偏心距至少与优选存在的液体收集容积部的深度(没有示出)一致。因此确保,在从下沉位置到提升位置的转换中,将外壁2提升为使得处理池I实际上能够自由移动。同样能够认识到,偏心轴9从提取侧中朝向与所述提取侧对置的(背离观察者的)后侧倾斜地延伸。因此,在偏心轴9上朝观察者的方向进行滑动期间,继续向上提升处理池
I。以这种方式也能够较简单地将其他的、在图中没有示出的连接件(例如,处理池I的进水件和/或排水件)与相应的配合件分离。尤其优选地,所述连接件滑入到彼此中或者从彼此中滑出,使得在替换处理池I时,取消手动的联接和分离。附图标记列表I 处理池2 外壁3 内壁4中间腔5用于容纳的容器6 通孔7 内腔8密封部9偏心轴10配合面F处理液、液体U周围环境S 重力K细节圈
权利要求1.用于湿法化学处理的设备,其设置用于借助处理液(F)对衬底进行湿法化学处理,所述用于湿法化学处理的设备包括:具有外壁(2)的、能够替换的处理池(I);设置在所述处理池(I)之下的用于容纳的容器(5),用于容纳从所述处理池(I)中流出的处理液(F);以及至少两根偏心轴(9 ),借助于所述偏心轴(9 )能够将所述处理池(I)通过提升来与所述用于容纳的容器(5)分离。
2.根据权利要求1所述的用于湿法化学处理的设备,其中在提升的位置中,所述处理池(I)能够在所述至少两根偏心轴(9)上移动。
3.根据权利要求1或2所述的用于湿法化学处理的设备,其中在所述处理池(I)的所述外壁(2)和所述用于容纳的容器(5)之间的过渡区域中设置有基于液体的密封部(8),通过在所述过渡区域中提供液体收集容积部实现所述密封部的构成。
4.根据权利要求3所述的用于湿法化学处理的设备,其中所述液体收集容积部具有小于所述偏心轴(9)的偏心距的深度。
5.根据权利要求1、2或4之一所述的用于湿法化学处理的设备,其中所述偏心轴(9)从所述用于湿法化学处理的设备的提取侧朝向与所述提取侧对置的后侧倾斜地延伸。
6.根据权利要求3所述的用于湿法化学处理的设备,其中所述偏心轴(9)从所述用于湿法化学处理的设备的提取侧朝向与所述提取侧对置的后侧倾斜地延伸。
专利摘要本实用新型涉及用于湿法化学处理的设备,其用于借助处理液对衬底进行湿法化学处理。更准确地,本实用新型涉及可替换的处理池。用于借助处理液(F)对衬底进行湿法化学处理的设备包括具有外壁(2)的可替换的处理池(1)、设置在处理池(1)之下的用于容纳从处理池(1)中流出的处理液(F)的容器(5)以及至少两根偏心轴(9),借助于所述偏心轴(9)将所述处理池(1)通过提升来与所述用于容纳的容器(5)分离。
文档编号H01L21/67GK203055873SQ20122045101
公开日2013年7月10日 申请日期2012年9月5日 优先权日2011年12月6日
发明者约尔格·弗兰茨克, 马蒂亚斯·尼泽, 于尔根·施韦希肯迪克 申请人:睿纳有限责任公司
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