沉积掩模的制作方法
【专利摘要】公开了一种用于沉积薄膜的掩模以及一种使用该掩模的薄膜沉积方法。该掩模包括设置在框架上的图案条。图案条可移动并且被定位以形成沉积图案。该掩模包括被构造为将图案条移动到多个位置以修改沉积图案的图案修改机构。
【专利说明】沉积掩模
[0001]本申请要求于2013年6月14日在韩国知识产权局提交的第10-2013-0068637号韩国专利申请的优先权，该韩国专利申请的公开内容通过引用被全部包含于此。
【技术领域】
[0002]本发明涉及一种用于沉积薄膜的掩模以及一种利用该掩模的薄膜沉积方法，更具体地讲，涉及一种能够修改沉积图案的掩模以及一种利用该掩模的薄膜沉积方法。
【背景技术】
[0003]有机发光显示设备具有例如宽的视角、高的对比度以及快速的响应时间。
[0004]有机发光显示设备通过在发光层中将从阳极和阴极注入的电子和空穴复合来发射光。有机发光显示设备具有设置在阳极和阴极之间的发射层。然而，利用该构造可能不能实现高的发光效率。因此，可以在电极(例如，阳极和阴极)中的每个电极和发射层之间选择性地添加和插入包括电子注入层、电子传输层、空穴传输层和空穴注入层的中间层。
[0005]电极和中间层(包括发射层)可以利用各种方法形成。其中一种方法是沉积方法。为了利用沉积方法制造有机发光显示设备，可以将具有与将要形成的薄膜的图案相同的图案的掩模对准在基底上，然后可以沉积薄膜的原材料来形成具有期望图案的薄膜。
[0006]由于已经开发了具有各种标准的有机发光显示设备，所以用于各个标准的掩模被使用。然而，现有的掩模会被固定成一定形状，因此仅可以对应一种图案。因此，如果产品标准改变，则掩模会不得不被与改变的产品标准对应的掩模替换。
[0007]因此，可能降低与有机发光装置的制造相关的生产率并且可能增加制造成本。
【发明内容】
[0008]本发明的示例性实施例提供一种与各种图案对应的掩模以及一种利用该掩模的薄膜沉积方法。
[0009]本发明的不例性实施例提供一种用于沉积薄膜的掩模。掩模包括框架。掩模包括设置在框架上以形成沉积图案的图案条。掩模包括使图案条移动以修改沉积图案的图案修改机构。
[0010]图案修改机构可以包括旋转支撑部件。旋转支撑部件可以位于框架中。旋转支撑部件可以结合到图案条。图案修改机构可以包括致动器。致动器可以使结合到旋转支撑部件的每个图案条旋转到特定角度。
[0011]致动器可以包括微机电系统(MEMS)。
[0012]图案条可以包括沿着第一方向设置在框架上的第一图案条。图案条可以包括沿着第二方向设置在框架上的第二图案条。第二方向可以与第一方向垂直。
[0013]用于形成沉积图案的图案条之间的部分可以具有正方形形状。
[0014]图案修改机构可以包括滑动支撑部件。滑动支撑部件可以位于框架中。滑动支撑部件可以结合到图案条。图案修改机构可以包括致动器，致动器使结合到滑动支撑部件的每个图案条滑动到特定位置。
[0015]致动器可以包括微机电系统(MEMS)。
[0016]图案条可以包括沿着第一方向设置在框架上的第一图案条。图案条可以包括沿着第二方向设置在框架上的第二图案条。第二方向可以与第一方向垂直。致动器可以驱动第一图案条和第二图案条中的至少一个。
[0017]根据本发明的示例性实施例，提供一种沉积薄膜的方法。该方法包括准备掩模，在掩模中，用于形成沉积图案的图案条布置在框架中。该方法包括移动图案条来修改沉积图案，并且利用掩模的已修改的沉积图案来执行沉积工艺。
[0018]图案条可以旋转至多个角度以修改沉积图案。
[0019]图案条可以滑动到多个位置以修改沉积图案。
【专利附图】
【附图说明】
[0020]通过参照在结合附图考虑时进行的以下详细的描述，本公开的更完整的理解和本公开的许多伴随的方面将容易获得，同样变得更好理解，在附图中:
[0021]图1是根据本发明的示例性实施例的掩模的透视图；
[0022]图2是示出图1的掩模的示例性实施例的平面图；
[0023]图3A和图3B是示出根据本发明的示例性实施例的修改图1的掩模的沉积图案的工艺的视图；
[0024]图4是根据本发明的实施例的掩模的透视图；以及
[0025]图5A和图5B是示出根据本发明的示例性实施例的修改图4的掩模的沉积图案的工艺的视图。
【具体实施方式】
[0026]下面将参照附图更详细地描述本发明的示例性实施例。然而，本发明可以以各种不同的方式修改并且不应该被解释为受限于在此公开的实施例。
[0027]图1是根据本发明的示例性实施例的用于沉积薄膜的掩模100的透视图，图2是掩模100的平面图。
[0028]参照图1和图2，掩模100包括框架120和多个图案条110。图案条110的每端可以固定到框架120。
[0029]框架120可以限定掩模100的外部框架。框架120可以具有在其中心限定有开口的正方形或矩形形状。每个图案条I1的两端通过框架120的面对的侧部支撑。框架120和图案条110形成掩模100的沉积图案。图案条110包括沿着第一方向设置的第一图案条111和沿着第二方向设置的第二图案条112。第二方向可以与第一方向垂直。第一图案条111和第二图案条112彼此交叉以形成具有网格形状的沉积图案。
[0030]包括第一图案条111和第二图案条112的图案条110未固定到框架120。例如，图案条110可以通过图案修改机构130 (下面将描述)以多个期望的角度旋转。
[0031]换句话说，每条图案条110通过例如轴承的旋转支撑部件131被框架120可旋转地支撑。此外，每条图案条I1连接到致动器132。致动器132可以将图案条110旋转至期望的角度。致动器132可以是例如微机电系统(MEMS)。此外，能够旋转图案条110的各种驱动源都可以用作致动器132。
[0032]当图案条110旋转时，可以改变通过图案条110限定的开口之间的距离(例如，间距)以修改沉积图案。以这种方式，可以形成多个沉积图案。
[0033]可以同时调节多个图案条110。可以通过图案修改机构130同时调节图案条110。
[0034]可以单独调节图案条110。可以通过图案修改机构130单独调节图案条110。
[0035]图3A和图3B示出根据本发明的示例性实施例的通过图案条110的旋转修改掩模100的沉积图案的工艺。最初，图案条100之间的开口可以具有正方形形状。当旋转图案条110时，相邻的图案条110之间的距离(例如，间距)可以逐渐改变。
[0036]例如，图3A示出了图案条110未被旋转的状态。这里，图案条110可以维持在间距dl。例如，如果在此状态下执行沉积工艺，则薄膜11可以在基底10上形成为与掩模100的具有间距为dl的沉积图案对应。
[0037]在图3B示出的状态下，图案修改机构130被操作为轻微地旋转图案条110。例如，图案条I1的间距被从间距dl改变为间距d2，如在图3B中所示。然后，例如，如果在图案条110被维持在间距d2的状态下执行沉积工艺，则薄膜12可以在基底10上形成为与掩模100的具有间距d2的沉积图案对应。
[0038]下面将描述利用具有上述结构的掩模100的薄膜沉积工艺。参照图3A，薄膜11可以通过利用具有间距dl的沉积图案形成在基底10上。掩模100设置在沉积室内。掩模100的图案条110维持在间距dl。沉积源400可以在基底10上沉积薄膜11。薄膜11根据掩模100的具有间距dl的沉积图案沉积在基底10上。具有间距dl的薄膜11可以持续地沉积。
[0039]关于图3B，薄膜12可以通过利用具有间距d2的沉积图案形成在基底10上。图案修改机构130可以旋转图案条110并将图案条110的间距从间距dl改变到间距d2。沉积源400可以在基底10上沉积薄膜12。薄膜12可以根据具有间距d2的沉积图案沉积在基底10上。具有间距d2的薄膜12可以持续地沉积。薄膜12可以形成在薄膜11上。当在改变如上所述的沉积图案的同时执行沉积工艺时，可以通过利用单个掩模(例如，掩模100)沉积符合各种标准的薄膜。因此，掩模100可以提高效率。另外，使用掩模100可以提高生产率。
[0040]图4是根据本发明的示例性实施例的掩模200的透视图。掩模200可以包括图案条210。图案条210可以包括第一图案条211和第二图案条212。第一图案条211和第二图案条212可以彼此垂直地交叉以形成开口。图案条210可以线性滑动以改变开口的尺寸，从而改变沉积图案。为了实现该目的，掩模200可以包括图案修改机构230。图案修改机构230可以包括滑动支撑部件231和致动器232。滑动支撑部件231可以将图案条210支撑到掩模200的框架220，而且滑动支撑部件231可以足够大使得图案条能够在其中滑动。滑动支撑部件231和致动器232可以设置在框架220中。致动器232可以使由滑动支撑部件231支撑的每条图案条210滑动到多个位置。例如，致动器232可以是微机电系统(MEMS)。此外，能够移动图案条210的各种驱动源可以用作致动器232。
[0041]当图案条210滑动移动时，可以改变由图案条210限定的开口之间的距离(例如，间距)以修改沉积图案。
[0042]图5A和图5B示出了根据本发明构思的实施例的通过图案条210的移动修改掩模200的沉积图案的工艺。
[0043]图5A示出了在图案修改机构230操作的同时移动第一图案条211的工艺。根据图5A的工艺，在第一图案条211之间的间距改变的同时，薄膜可以形成为与修改的沉积图案对应。
[0044]此外，图5B示出了在图案修改机构230操作的同时移动第二图案条212的工艺。根据图5B的工艺，在第二图案条212之间的间距改变的同时，薄膜可以形成为与修改的沉积图案对应。
[0045]可选择地，第一图案条211和第二图案条212可以同时滑动以修改图案。
[0046]可以同时调节多个图案条210。可以通过图案修改机构230同时调节图案条210。
[0047]可以单独调节图案条210。可以通过图案修改机构230单独调节图案条210。
[0048]下面将描述利用具有上述结构的掩模200的薄膜沉积工艺。
[0049]例如，参照图5A，可以将具有间距已调节的第一图案条211的掩模200放置在沉积室中。在这种状态下，可以执行沉积工艺并且可以沉积与掩模200的沉积图案对应的薄膜。
[0050]参照图5B，可以将具有间距已调节的第二图案条212的掩模200放置在沉积室中。可以执行沉积工艺并且可以沉积与掩模200的沉积图案对应的薄膜。薄膜可以形成在薄膜上。因此，当在如参照图5A和图5B所述地改变沉积图案的同时执行沉积工艺时，可以利用单个掩模200沉积符合各种标准的薄膜。因此，掩模200可以提高效率。另外，使用掩模200可以提闻生广率。
[0051]根据本发明的示例性实施例，除了被用于有机发光层的图案化工艺之外，掩模100和200还可以被用于沉积各种薄膜。
[0052]根据本发明的示例性实施例，提供了用于沉积薄膜的掩模以及利用该掩模沉积薄膜的方法。在利用掩模和方法中，可以利用单个掩模形成各种图案，因此，可以利用一个掩模生产具有各种特性的产品。因此，可以减小在掩模的制造、管理和替换中的工作量，从而提闻生广率。
[0053]虽然已经参照本发明的示例性实施例示出并描述了本发明，但是对本领域普通技术人员来说显而易见的是，在不脱离由权利要求限定的本发明的精神和范围的情况下，可以对本发明进行形式和细节方面的各种改变。
【权利要求】
1.一种沉积掩模,所述沉积掩模包括: 框架； 图案条，设置在框架上，图案条被构造为形成沉积图案；以及 图案修改机构，被构造为移动图案条以修改沉积图案。
2.根据权利要求1所述的沉积掩模，其中，图案修改机构包括: 旋转支撑部件，被构造为在框架中支撑图案条；以及 致动器，被构造为旋转图案条中的每个图案条。
3.根据权利要求2所述的沉积掩模，其中，致动器包括微机电系统。
4.根据权利要求2所述的沉积掩模，其中，图案条包括: 第一图案条，沿着第一方向设置；以及 第二图案条，沿着与第一方向交叉的第二方向设置。
5.根据权利要求2所述的沉积掩模，其中，图案条之间的空间为正方形。
6.根据权利要求1所述的沉积掩模，其中，图案修改机构包括: 滑动支撑部件，被构造为允许图案条滑动；以及 致动器，被构造为使图案条滑动。
7.根据权利要求6所述的沉积掩模，其中，致动器包括微机电系统。
8.根据权利要求6所述的沉积掩模，其中，图案条包括: 第一图案条，沿着第一方向设置；以及 第二图案条，沿着与第一方向交叉的第二方向设置。
9.根据权利要求8所述的沉积掩模，其中，致动器使第一图案条和第二图案条中的至少一个滑动。
【文档编号】H01L51/56GK104233187SQ201410119858
【公开日】2014年12月24日 申请日期:2014年3月27日 优先权日:2013年6月14日
【发明者】金雄植 申请人:三星显示有限公司