键盘装置制造方法
【专利摘要】本申请提供了一种键盘装置，包括：布置在盖构件的开口中并且是可按压的键顶，设置在键顶中的第一磁体，以及包括吸引第一磁体的第二磁体并且支持键顶的支持部分。该支持部分支持键顶以使其在与键顶的高度方向相交的运动方向上在其中第一磁体被吸引至第二磁体的第一位置与其中通过按压释放吸引的第二位置之间运动。该键顶具有沿运动方向形成在边缘处的斜面。
【专利说明】键盘装置
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求以下申请的优先权:2013年7月31日提交的日本优先权专利申请JP2013-159013，以及2013年9月12日提交的日本优先权专利申请JP2013-189378，其全部内容通过引用合并到本文中作为参考。
【技术领域】
[0003]本公开内容涉及包括可按压的键顶的键盘装置。
【背景技术】
[0004]例如，使用个人计算机的、包括橡胶圆顶和剪形机构的键盘来作为键盘装置。在这种键盘装置中，如果用户按压键顶，则被水平地支持到剪形机构的键顶向下按压橡胶圆顶。因此，采用了一种在薄膜电路(membrane circuit)中形成电联接并且传送输入信号的机制(参见 JP2012-129140A)。
【发明内容】
[0005]近年来，存在使键盘更薄的需求。为了满足这种需求，提出了替代橡胶圆顶和剪形机构而使用在磁体对中产生的吸引力的方法。在这种方法中，在磁体对中产生的吸引力被用作用来保持键顶的位置的力。当用户按压键顶时，键顶被斜向按压。
[0006]顺便提及，在键顶斜向运动的情况下，期望扩大其中布置有键顶的盖构件的开口，以防止键顶抵触盖构件的开口。然而，如果开口被扩大，则开口的内边缘与键顶之间的间隙是显著的，并且存在键盘装置的美学外观会被破坏的问题。
[0007]因此，本公开提出了一种能够在不扩大盖构件的开口的情况下平稳地向下按压键盘的键盘装置。
[0008]根据本公开内容的实施方式，提供了一种键盘装置，包括布置在盖构件的开口中并且是可按压的键顶，设置在键顶中的第一磁体，以及包括吸引第一磁体的第二磁体并且支持键顶的支持部分。该支持部分支持该键顶在与该键顶的高度方向相交的运动方向上、在该第一磁体被吸引至所述第二磁体的第一位置与通过按压释放吸引的第二位置之间运动。该键顶具有在边缘处沿所述运动方向形成的斜面。
[0009]根据本公开内容，通过设置斜面，当键顶运动时，不抵触其中设置有对应键顶的开口的内边缘。因此，键顶可以在第一位置与第二位置之间平稳的运动。另外，通过设置斜面，键顶的边缘与开口的内边缘之间的间隙能维持为很小，并且因此，不必需要扩大开口。
[0010]如上所述，根据本公开内容，在不扩大盖构件的开口的情况下键盘能够被平稳地向下按压。
[0011]顺便提及，上述的效果不是限制性的，并且，除了上述效果或上述效果的替代效果以外，可以实现本说明书中描述的任何效果或从本说明书中领会的其他效果。
【专利附图】
【附图说明】
[0012]图1是示出了根据本公开内容的第一实施方式的电子装置的外部构造的示例的立体图；
[0013]图2是示出了主体侧壳体的构造的示例的平面图；
[0014]图3是示出了根据第一实施方式的键盘部分的构造的示例的立体图；
[0015]图4是示出了根据第一实施方式的键盘部分的分解状态的立体图；
[0016]图5是示出了支持构件和键顶的构造的示例的分解立体图；
[0017]图6是示出了键顶的参考位置P1和输入位置P2的图；
[0018]图7是示出了键顶与开口之间的关系的图；
[0019]图8是示出了当键顶从参考位置运动至输入位置时，斜面与开口之间的关系的图；
[0020]图9是用来描述当用户向下按压键顶时，键盘部分的运动的示例的图；
[0021]图10是示出了根据第二实施方式的电子装置的构造的示例的图；
[0022]图11是示出了根据第二实施方式的电子装置的构造的示例的图；
[0023]图12是示出了根据第二实施方式的电子装置的构造的示例的图；
[0024]图13是根据第二实施方式用来描述电子装置的滑动操作的图；
[0025]图14是根据第二实施方式用来描述其中显示侧壳体的端部接触斜面的状态的示意图；
[0026]图15是根据比较示例用来描述其中显示侧壳体的端部接触键顶的状态的示意图；
[0027]图16是示出了根据第三实施方式的键顶的斜面的第一实施方式的构造的立体图；
[0028]图17是示出了根据第三实施方式的支持构件的导引面的第一实施方式的构造的立体图；
[0029]图18是示出了根据第三实施方式的支持构件的导引面的第一实施方式的构造的立体图；
[0030]图19是示出了根据第三实施方式的键顶的斜面的第二实施方式的构造的立体图；
[0031]图20是示出了根据第三实施方式的键顶的斜面的第三实施方式的构造的立体图；
[0032]图21是示出了根据第三实施方式的支持构件的导引面的第三实施方式的构造的立体图；以及
[0033]图22是根据第三实施方式用来描述键顶的斜面与前盖之间的位置关系的立体图。
【具体实施方式】
[0034]在下文中，将参照附图详细地描述本公开内容的优选的实施方式。应注意，在本说明书和附图中，使用相同的附图标记来表示具有基本上相同功能和结构的结构元件，并且省略了对这些结构元件的重复描述。
[0035]顺便提及，将按以下顺序给出描述。
[0036]1.第一实施方式
[0037]1-1.键盘装置的构造
[0038]1-2.键盘部分的详细构造
[0039]1-3.键顶的边缘与前盖(Bezel)的开口之间的关系
[0040]1-4.键盘部分的运动的示例
[0041]2.第二实施方式
[0042]3.第三实施方式
[0043]3-1.键顶的斜面的形状和支持构件的导引面的形状
[0044]3-2.键顶的斜面与前盖之间的位置关系
[0045]4.总结
[0046]<1.第一实施方式>
[0047](1-1.键盘装置的构造)
[0048]将在下面描述根据本公开内容第一实施方式的键盘装置的构造。在下文中，将描述图1中所示的电子装置10作为键盘装置的示例。
[0049]图1是示出了根据本公开内容第一实施方式的电子装置10的外部构造的示例的立体图。例如，电子装置10是笔记本式个人计算机。然而，电子装置10不限于笔记本式个人计算机，并且例如可以是桌上型个人计算机。
[0050]如图1所示，电子装置10包括显示侧壳体20、主体侧壳体30以及铰接机构部分40。例如，显示侧壳体20和主体侧壳体30中的每个壳体被形成为具有平板形状并且被形成为具有相同的大小。
[0051]显示侧壳体20包括显示部分22。例如，显示部分22包括诸如液晶显示器的显示装置。显示部分22包括用于显示各种信息的显示屏。顺便提及，允许用户执行触摸操作的触摸面板可以重叠在显示部分22的显示屏上。
[0052]主体侧壳体30包括用于接收用户的输入操作的输入部分32。输入部分32对用户的输入操作进行检测并且输出对应于输入操作的电信号。当显示侧壳体20处于打开状态时(图1)，用户通过输入部分32执行输入操作。
[0053]图2是示出了主体侧壳体30的构造的示例的平面图。如图2所示，输入部分32包括键盘部分33或触摸面板部分34。键盘部分33包括用户可以向下按压的多个操作键。触摸面板部分34是用户可以执行触摸输入的区域。顺便提及，将在下面描述键盘部分33的详细构造。
[0054]铰接机构部分40将显示侧壳体20以枢接地方式连接至主体侧壳体30。铰接机构部分40被沿轴向方向(图1中所示的X方向)设置在主体侧壳体30的两侧上。由于铰接机构部分40，所以显示侧壳体20在相对于主体侧壳体30打开的打开状态(图1)与相对于主体侧壳体30关闭的关闭状态之间枢转。
[0055]顺便提及，在上述中，键盘装置被描述为是输入部分32和显示部分22被一体地设置的个人计算机，但并不限于此。例如，键盘装置可以是不包括显示部分22但包括输入部分32的键盘。也就是说，键盘装置可以与显示装置分开构造。
[0056](1-2.键盘部分33的详细构造)
[0057]将参照图3和图4描述根据本公开内容第一实施方式的键盘部分33的详细构造的示例。图3是示出了根据实施方式的键盘部分33的构造的示例的立体图。图4是示出了根据实施方式的键盘部分33的分解状态的立体图。
[0058]如图4所示，键盘部分33包括底板110、背光构件120、膜130、支持构件140、键顶150以及前盖160。键盘部分33是通过在底板110和前盖160之间按照背光构件120、膜130、支持构件140以及键顶150的顺序进行堆叠来构造的。
[0059](底板110)
[0060]底板110设置在键盘部分33的底部。例如，底板110是具有平板形状并且由诸如铝板等金属板、树脂等制成的板状件。底板110对背光构件120、膜130、支持构件140、键顶150以及前盖160进行支持。顺便提及，类似于底板110，背光构件120和膜130具有平板形状。
[0061](背光构件120)
[0062]背光构件120包括设置在对应于键顶150的位置处的发光部分。例如，当环境较暗时，发光部分被开启以照亮键顶150。例如，环境的亮度由照明传感器来检测。通过设置背光构件120，用户即使在黑暗中时也可以向下按压所期望的键顶150。
[0063](膜130)
[0064]例如，膜130包括两片膜状构件以及由设置在膜状构件的内表面的以预定间隔面对的电极对形成的接触件。接触件被分别设置在对应于键顶150的位置处。当接触件接触时，对应于键顶150的电信号被输出。
[0065](支持构件140)
[0066]支持构件140是对多个键顶150进行支持的支持构件。另外，支持构件140具有以下功能:当用户向下按压键顶150时，沿预定运动方向引导键顶150。
[0067]图5是示出了支持构件140和键顶150的构造的示例的分解立体图。顺便提及，在图5中，仅示出了支持构件140的一部分(对应于一个键顶150的部分)。如图5所示，支持构件140包括孔部分142、磁体144以及导引部分146。
[0068]孔部分142包括形成在对应于键顶150的位置处并且具有大于键顶150的矩形形状的孔。当键顶150被向下按压时，键顶150进入到孔部分142中。
[0069]磁体144设置在与孔部分142邻近的位置处。具体地，磁体144设置在面向在键顶150中设置的磁体156的位置处。通过磁体144与磁体156之间产生的吸引力磁体156被吸引至磁体144。由于磁体156被吸引至磁体144，所以键顶150在被按压之前保持在参考位置处。
[0070]导引部分146引导被按压的键顶150斜向下运动。如上所述，键顶150在被按压之前保持在参考位置处，但是当给键顶150的按压力较大时，键顶150可以通过克服磁体的吸引力而运动。导引部分146被形成为从孔部分142的边缘突出到孔部分142的内侧。在本实施方式中，导引部分146被设置在四个角中的每个角处以有利于键顶150的运动。
[0071]另外，为斜面的导引面147被形成在导引部分146中。导引面147被形成在与键顶150的高度方向相交的方向上。当向下按压时，键顶150沿着导引面147斜向下运动。此夕卜，当对键顶150的按压被释放时，键顶150通过磁体的吸引力沿导引面147斜向上运动。
[0072](键顶150)
[0073]如图3所示，键顶150是水平地和垂直地布置在键盘部分33中的多个操作键。例如，操作键是每个都具有矩形形状的字符键或数字键。多个键顶150被布置为彼此相邻。当键顶150被从参考位置向下按压到输入位置时，对应于键顶150的信号被输出。
[0074]图6是示出了键顶150的参考位置P1和输入位置P2的图。图6的状态301表示键顶150的参考位置P1，以及图6的状态302表示键顶150的输入位置P2。键顶150在被用户按压之前保持在图6所示的参考位置P1处，并且当键顶150被向下按压时键顶150运动至输入位置P2。键顶150被支持构件140支持，以使得键顶150在与键顶150的高度方向相交的方向上在参考位置P1与输入位置P2之间运动。顺便提及，在本实施方式中，参考位置P1对应于第一位置以及输入位置P2对应于第二位置。
[0075]因为多个键顶150的构造彼此相同，所以将给出对于一个键顶150的下面的描述作为示例。键顶150包括由用户向下按压的顶面151、以及侧面152a至侧面152d。另外，如图5所示，键顶150包括磁体156和滑动部分158。
[0076]磁体156固定在面向支持构件140的磁体144的位置处。磁体156通过吸引力被吸引至磁体144。因此，在键顶150被向下按压之前，键顶150保持在参考位置P1处(在该位置磁体156被吸引至磁体144)。另一方面，当对键顶150的按压力较大时，键顶150克服了磁体的吸引力并且运动至输入位置P2。顺便提及，磁体156对应于第一磁体以及磁体144对应于第二磁体。
[0077]当键顶150被向下按压时，滑动部分158沿着支持构件140的导引面147滑动。滑动部分158被形成为从键顶150的侧面向外延伸。当滑动部分158沿着导引面147滑动时，键顶150在参考位置与输入位置之间运动。
[0078](前盖WO)
[0079]前盖160是键盘部分33的顶盖。如图4所示，在前盖160中形成多个开口 162以使得键顶150被布置。开口 162具有其面积略大于被布置的键顶150的面积的孔。
[0080]如上所述，根据第一实施方式的键盘部分33包括设置在支持构件140中的磁体144，以及设置在键顶150中的磁体156。在磁体对之间产生磁吸引力，并且这种吸引力保持了键顶150的参考位置。因此，与使用橡胶圆顶和剪形机构的构造相比较，可以减小键盘部分33的厚度。
[0081]顺便提及，还提出了一种减小橡胶圆顶的厚度的方法。然而，如果减小橡胶圆顶的厚度，则橡胶圆顶的压曲特性变差，并且因此，提供给用户的键顶的按压感(也被称为点击感)变差。此外，如果减小剪形机构的厚度，则剪形机构的强度降低并且耐久性减弱。在这一点上，正如在第一实施方式的情况下那样，如果代替橡胶圆顶和剪形机构而使用磁体144和磁体156，则可以抑制点击感的变差并且不需要考虑剪形机构的强度。
[0082](1-3.键顶150的边缘与前盖160的开口之间的关系)
[0083]如上所述，当键顶150在参考位置P1与输入位置P2之间运动时，键顶150在由导引部分146支持的同时斜向运动。以这种方式运动的键顶150和开口 162具有图7中所示的关系。
[0084]图7是示出了键顶150与开口 162之间的关系的图。图7的状态305表示位于参考位置P1的键顶150与开口 162之间的关系。图7的状态306表示位于输入位置P2的键顶150与开口 162之间的关系。
[0085]当键顶150位于参考位置P1时，如图7的状态305所示，键顶150的边缘153a(边缘153c)与边缘153a(边缘153c)所面向的开口 162的内边缘之间的距离等于垂直于键顶150的边缘153a的边缘153b (153d)与边缘153b (153d)所面向的开口 162的内边缘之间的距离。因此，当键顶150位于参考位置P1时，在键顶150与开口 162之间形成均匀宽度的间隙。通过减小间隙，可以改进键顶150的布置的设计。
[0086]当键顶150运动至输入位置P2时，斜向下运动的、键顶150的边缘153a接近开口162的内边缘。当键顶150位于输入位置P2时，如图7的状态306所示，边缘153a与面向边缘153a的开口 162的内边缘之间的距离小于其它边缘153b至153d与开口 162的内边缘之间的距离。
[0087]顺便提及，键顶150具有沿键顶150的运动方向形成在边缘153a处的斜面154。当键顶150运动至输入位置P2时，斜面154具有退刀纹(runout)形状以防止与开口 162的内边缘接触。因此，可以防止边缘153a与开口 162的内边缘之间的间隙被加宽。换句话说，可以防止开口 162被扩大。
[0088]如图5所示，斜面154是连接键顶150的顶面151和侧面152a的表面。通过对顶面151与侧面152a之间的边缘153a进行倒角(chamfering)而形成斜面154。例如，斜面154是由所谓的C倒角形成的平面。因此，当键顶150被向下按压并且斜向下运动时，简单的构造能够有效地防止边缘153a接触开口 162的内边缘163a。
[0089]斜面154可以形成为与支持构件140的导引面147平行。在这种情况下，斜面154形成为与由支持构件140支持的键顶150的运动方向平行。因此，当键顶150运动时，可以更有效地防止键顶150的边缘153a接触开口 162的内边缘163a。顺便提及，当导引面147不是平面时，期望的是斜面154还形成为与导引面147的形状相匹配。
[0090]图8是示出了当键顶150从参考位置运动至输入位置时斜面154与开口 162之间的关系的图。在图8的状态311中，键顶150位于参考位置P1处。在状态312中，键顶150从参考位置P1运动至输入位置P2。在状态313中，键顶150位于输入位置P2处。如图8所示，通过设置斜面154，当键顶150运动至输入位置P2时，键顶150的边缘可以平稳地运动而不被开口 162的内边缘卡住。
[0091]顺便提及，在上述中，斜面154被描述成平面，但并不限于此。例如，斜面154可以是曲面。例如，斜面154由所谓的R倒角来形成。当斜面154是曲面时，可以在防止与开口162的内边缘接触的同时防止距内边缘的距离变窄。
[0092]另外，在上述中，斜面154被描述为形成在键顶150的边缘153a (图7)处，但并不限于此。例如，斜面154可以形成在键顶150的边缘153a至边缘153d中的、与键顶150从参考位置运动至输入位置的运动方向相对的侧的边缘153c处。更具体地，边缘153c可以延伸以插入到前盖160的下部中，并且斜面154可以形成在被延伸的边缘153c处。在这种构造的情况下，当向下按压键顶150时，可以减小边缘153c与邻近开口 162的内边缘之间的间隙。
[0093]另外，斜面154可以形成在键顶150的边缘153a和边缘153c中的每个边缘处。顺便提及，在第一实施方式中，边缘153a对应于第一边缘以及边缘153b和边缘153d对应于第二边缘。
[0094](1-4.键盘部分33的运动的示例)
[0095]将参照图9描述当用户向下按压键顶150时键盘部分33的运动的示例。图9是用来描述当用户向下按压键顶150时，键盘部分33的运动的示例的图。
[0096]本文中，由于磁体156被吸引至支持构件140的磁体144，所以键顶150位于参考位置P1处。在这种状态下，用户用手指向下按压键顶150的顶面151，以使用键顶150进行输入。
[0097]当给顶面151的按压力小时，键顶150就不会运动，以及当按压力大时，键顶150克服了磁体的吸引力并且开始斜向下运动。具体地，当用户观看时，键顶150沿支持构件140的导引面147以从后侧向前侧的方向运动。
[0098]此时，因为斜面154形成在键顶150的边缘153a (图7)处，所以当键顶150沿着导引面147运动时，键顶150的边缘153a不抵触前盖160的开口 162的内边缘。因此，如图9所示，键顶150从后侧到前侧平稳地运动运动量y并且位于输入位置P2处。
[0099]当给顶面151的按压被释放时,位于输入位置P2的键顶150通过磁体156与磁体144之间的吸引力沿着导引面147向上运动。键顶150位于参考位置P1处(在该处磁体156被吸引至磁体144)。
[0100]此外，在上述中，被按压的键顶150被描述成当由用户观看时从后侧运动至前侧，但并不限于此。例如，可以当由用户观看时，被按压的键顶150从前侧运动至后侧。在这种情况下，通过在键顶150的边缘153c中形成斜面，在运动期间可以防止与开口 162的内边缘接触。类似地，当由用户观看时，被按压的键顶150可以沿水平方向运动。
[0101]〈2.第二实施方式〉
[0102]将参照图10至图13描述第二实施方式。图10至图13是示出了根据第二实施方式的电子装置200的构造的示例的图。图13是用来描述电子装置200的滑动操作的图。
[0103]图10示出了其中显示侧壳体220交叠在电子装置200的主体侧壳体230上的状态。图11示出了其中显示侧壳体220相对于主体侧壳体230滑动以进行站立的状态。图12示出了当从后侧观看处于图11的状态的电子装置200时的状态。
[0104]如图10和图11所示，根据第二实施方式的电子装置200包括显示侧壳体220和主体侧壳体230。在显示侧壳体220中，安装有其中触摸传感器设置在诸如IXD的显示装置上的触摸面板222。在主体侧壳体230中，设置有键盘部分232。在第二实施方式中，主体侧壳体230对应于第一壳体，以及显不侧壳体220对应于第二壳体。
[0105]如图13所示，显示侧壳体220被构造为在相对于主体侧壳体230滑动的同时是可移动的。具体地，主体侧壳体230和显示侧壳体220通过设置在背面上的铰接件240连接。因此,如图13所示，显示侧壳体220执行相对于主体侧壳体230的滑动操作。因此，图10中所示的状态和图11中所示的状态互相过渡。
[0106]在电子装置200中，根据状态的不同用户的操作方法是不同的。在图10所示的状态下，用户可以通过操作触摸面板222来执行所希望的操作。因此，用户可以使用电子装置200作为所谓的平板终端。在图11所示的状态下，用户可以通过操作键盘部分232或触摸面板234来执行所希望的操作。另外，用户可以操作触摸面板222。
[0107]顺便提及，根据第二实施方式的键盘部分232的构造基本上与根据第一实施方式的键盘部分33 (图3和图4)的构造相同。键盘部分232的键顶250在边缘处具有斜面254。因此，有可能防止其中布置有键顶250的开口被扩大。
[0108]另外，在第二实施方式中，当显示侧壳体220相对于主体侧壳体230滑动时，显示侧壳体220的端部225被构造成与如图14所示的键顶250 (具体地，斜面254)是可接触的。图14是用来描述根据第二实施方式其中显示侧壳体220的端部225接触斜面254的状态的示意图。
[0109]例如，当用户在用力向下按压显示侧壳体220的同时沿图14所示的X方向滑动显示侧壳体220时，被按压的显示侧壳体220的端部225很容易地接触键顶250。通过设置斜面254，可以防止当显示侧壳体220滑动时键顶250掉出的问题。在下面的段落中，通过与图15中所示的比较示例进行比较来描述细节。
[0110]图15是用来描述根据比较示例其中显示侧壳体920的端部接触键顶950的状态的示意图。顺便提及，在根据比较示例的键顶950中，与第二实施方式不同，没有形成斜面。在这种情况下，当显示侧壳体920相对于主体侧壳体930滑动时，显示侧壳体920的下侧的端部925接触键顶950的边缘952。在此之后，当显示侧壳体920继续滑动时，端部925被键顶950的边缘952卡住，并且因此，存在键顶950可以被释放(被释放的键顶950可以飞散)的问题。另外，存在键顶950可能被损坏的问题。
[0111]相反地，在第二实施方式中，显示侧壳体220的端部225接触如图14所示的斜面254。因此，在此之后，当显示侧壳体220继续滑动时，端部225不会被键顶250卡住并且键顶250被按压。另外，可以抑制键顶250的损坏。
[0112]〈3.第三实施方式〉
[0113]将在下面描述不同于第一实施方式的根据第三实施方式的键盘部分33的构造。
[0114](3-1.键顶150的斜面的形状和支持构件140的导引面的形状)
[0115]首先，将描述关于键顶150的斜面154的形状和支持构件140的导引面147的形状的三个实施方式。
[0116](第一实施方式)
[0117]图16是示出了根据第三实施方式的键顶150的斜面154的第一实施方式的构造的立体图。顺便提及，图16所示的键顶150在按压之前位于参考位置处。
[0118]在图16所示的示例中，正如在第一实施方式的情况下那样，斜面154是由所谓的C倒角形成的平面(也被称为C平面)。因此，可以通过简单的处理来形成斜面154，并且可以有效地防止键顶150的边缘153a接触开口 162的内边缘163a。
[0119]另一方面，期望下面将要描述的图17或图18中所示的形状，作为引导键顶150在参考位置与输入位置之间运动的、支持构件140的导引面147的形状。
[0120]图17是示出了根据第三实施方式的支持构件140的导引面147的第一实施方式的构造的立体图。在图17所示的示例中，导引面147是弯曲的斜面。更具体地，导引面147是凹形的曲面。在这种情况下，在键顶150的运动期间，键顶150的边缘153a(图16)略微与开口 162的内边缘163a分开，并且因此，可以有效地防止键顶150的边缘153a被卡在开口 162的内边缘163a上。
[0121]图18是示出了根据第三实施方式的支持构件140的导引面147的第一实施方式的构造的立体图。在图18所示的示例中，导引面147是平坦的斜面。导引面147的倾斜角度可以等于键顶150的斜面154的角度或者可以大于斜面154的角度。因此，键顶150的运动可以平稳地进行。
[0122](第二实施方式)
[0123]图19是示出了根据第三实施方式的键顶150的斜面154的第二实施方式的构造的立体图。在图19所示的示例中，键顶150的斜面154是由所谓的R倒角形成的曲面(也被称为R平面)。具体地，斜面154可以是凸形的弯曲。因此，改进了键顶150的边缘的美学外观，并且可以有效地防止键顶150的边缘153a接触开口 162的内边缘163a。
[0124]关于上述的具有凸形的曲面的斜面154，期望上述的图17中所示的凹形的弯曲形状，作为支持构件140的导引面147的形状。因此，由于为R平面的斜面154可以抑制键顶150在运动期间接近开口的内边缘162，所以可以有效地防止与开口 162的内边缘163a接触。
[0125](第三实施方式)
[0126]图20是示出了根据第三实施方式的键顶150的斜面154的第三实施方式的构造的立体图。在图20所示的示例中，键顶150的斜面154也是曲面。具体地，斜面154可以在与图19的方向相反的方向上凹形的弯曲。在这种形状的情况下，可以更有效地防止键顶150的边缘153a接触开口 162的内边缘。
[0127]关于上述的具有凹形的曲面的斜面154，除了图17和图18中所示的形状以外，例如，期望图21中所示的形状，作为支持构件140的导引面147的形状。
[0128]图21是示出了根据第三实施方式的支持构件140的导引面147的第三实施方式的构造的立体图。在图21所示的示例中，导引面147是弯曲的斜面。更具体地，导引面147是凸形的曲面。
[0129](3-2.键顶150的斜面与前盖之间的位置关系)
[0130]在第一实施方式中，斜面154被描述为形成在键顶150的边缘153a处(图7),但并不限于此。例如，如图22所示，斜面154可以形成在键顶150的边缘153a的相对侧的边缘153c处。也就是说，斜面可以形成在键顶150的边缘中的、当键顶150从参考位置运动至输入位置时与开口的内边缘分开的边缘153c (对应于第二边缘)处。
[0131]图22是用来描述根据第三实施方式键顶150的斜面与前盖160之间的位置关系的图。图22的状态351表示键顶150位于参考位置处，以及状态352表示键顶150位于输入位置处。键顶150包括延伸部分153e，当位于状态351中所示的参考位置时延伸部分153e延伸以使得边缘153c侧进入到前盖160的下侧中。因此，从边缘153c至延伸部分153e形成斜面155。
[0132]通过形成斜面155，延伸部分153e很容易地进入到前盖160的下侧中。另外，通过设置延伸部分153e，当键顶150运动至如图22的状态352所示的输入位置时，延伸部分153e位于开口 162处，并且因此，可以防止键顶150与前盖160之间的间隙被加宽。特别地，通过设置延伸部分153e，键顶150与前盖160之间的间隙可以具有均匀的宽度。
[0133]顺便提及，在上文中，斜面被描述为形成在键顶150的边缘153a和边缘153c中的每个边缘处，但并不限于此，例如，斜面可以仅形成在键顶150的边缘153c处。
[0134]<4.总结〉
[0135]在上述的电子装置10中，键顶150具有沿着运动方向在边缘处形成的斜面154。通过设置斜面154，当键顶150运动时，不抵触其中布置有对应的键顶150的开口 162的内边缘。因此，键顶150可以在参考位置与输入位置之间平稳地运动。此外，通过设置斜面154，不必需要加宽键顶150的边缘与开口 162的内边缘之间的间隙，从而改进了键顶150的布置的设计。
[0136]已经参考附图详细地描述了本公开内容的优选的实施方式，但本公开内容的技术范围并不受这些示例的限制。应理解，只要在所附权利要求或其等同物的范围内，对本领域技术人员来说可以根据设计要求和其他因素进行各种修改、组合、子组合和变更。
[0137]另外，文中所描述的效果仅仅是为了说明或解释的目的而非限制目的。也就是说，除了上述效果或上述效果的替代效果以外，根据本公开内容的技术可以实现对本领域技术人员来说根据本说明书的说明显而易见的其他效果。
[0138]另外，本发明的技术还可以被构造如下。
[0139](1) 一种键盘装置，包括:
[0140]键顶，所述键顶布置在盖构件的开口中并且是可按压的；
[0141]第一磁体，所述第一磁体设置在所述键顶中；以及
[0142]支持部分，所述支持部分包括吸引所述第一磁体的第二磁体，并且所述支持部分支持所述键顶，
[0143]其中，所述支持部分支持所述键顶在与所述键顶的高度方向相交的运动方向上、在所述第一磁体被吸引至所述第二磁体的第一位置与通过按压释放吸引的第二位置之间运动，及
[0144]其中，所述键顶具有在边缘处沿所述运动方向形成的斜面。
[0145](2)根据⑴所述的键盘装置，
[0146]其中，所述斜面被形成为与所述运动方向平行。
[0147](3)根据⑴或⑵所述的键盘装置，
[0148]其中，所述斜面形成在所述键顶的边缘中的、当所述键顶从所述第一位置运动至所述第二位置时靠近所述开口的内边缘的第一边缘处。
[0149](4)根据⑴至(3)中任一项所述的键盘装置，
[0150]其中，所述斜面是连接所述键顶的顶面和侧面的表面。
[0151](5)根据(4)所述的键盘装置，
[0152]其中，所述斜面是平面。
[0153](6)根据(4)所述的键盘装置，
[0154]其中，所述斜面是曲面。
[0155](7)根据(3)所述的键盘装置，
[0156]其中，当所述键顶位于所述第一位置时，所述键顶的所述第一边缘与所述第一边缘面对的所述开口的内边缘之间的距离等于与所述键顶的所述第一边缘垂直的第二边缘与所述第二边缘面对的所述开口的内边缘之间的距离。
[0157](8)根据⑴所述的键盘装置，还包括:
[0158]第一壳体，在所述第一壳体中设置有所述键顶；以及
[0159]第二壳体,所述第二壳体在相对于所述第一壳体滑动的同时是可移动的，
[0160]其中，所述第二壳体的端部在滑动时接触所述斜面。
[0161](9)根据(5)或(6)所述的键盘装置，
[0162]其中，所述支持部分具有引导所述键顶在所述第一位置与所述第二位置之间运动的导引面，以及
[0163]其中，所述导引面是平面。
[0164](10)根据(5)或(6)所述的键盘装置，
[0165]其中，所述支持部分具有引导所述键顶在所述第一位置与所述第二位置之间运动的导引面，以及
[0166]其中，所述导引面是曲面。
[0167](11)根据⑴或⑵所述的键盘装置，
[0168]其中，所述斜面形成在所述键顶的所述边缘中的、当所述键顶从所述第一位置运动至所述第二位置时从所述开口的内边缘分开的第二边缘处。
[0169](12)根据(11)所述的键盘装置，
[0170]其中，所述键顶包括延伸部分，当所述键顶位于所述第一位置时所述延伸部分以所述键顶从第二边缘侧进入到所述开口的下部中的方式延伸。
【权利要求】
1.一种键盘装置，包括: 键顶，所述键顶布置在盖构件的开口中并且是可按压的； 第一磁体，所述第一磁体设置在所述键顶中；以及 支持部分，所述支持部分包括吸引所述第一磁体的第二磁体，并且所述支持部分支持所述键顶， 其中，所述支持部分支持所述键顶在与所述键顶的高度方向相交的运动方向上、在所述第一磁体被吸引至所述第二磁体的第一位置与通过按压释放吸引的第二位置之间运动，及 其中，所述键顶具有在边缘处沿所述运动方向形成的斜面。
2.根据权利要求1所述的键盘装置， 其中，所述斜面被形成为与所述运动方向平行。
3.根据权利要求1所述的键盘装置， 其中，所述斜面形成在所述键顶的边缘中的、当所述键顶从所述第一位置运动至所述第二位置时靠近所述开口的内边缘的第一边缘处。
4.根据权利要求1所述的键盘装置， 其中，所述斜面是连接所述键顶的顶面和侧面的表面。
5.根据权利要求4所述的键盘装置， 其中，所述斜面是平面。
6.根据权利要求4所述的键盘装置， 其中，所述斜面是曲面。
7.根据权利要求3所述的键盘装置， 其中，当所述键顶位于所述第一位置时，所述键顶的所述第一边缘与所述第一边缘面对的所述开口的内边缘之间的距离等于与所述键顶的所述第一边缘垂直的第二边缘与所述第二边缘面对的所述开口的内边缘之间的距离。
8.根据权利要求1所述的键盘装置，还包括: 第一壳体，在所述第一壳体中设置有所述键顶；以及 第二壳体，所述第二壳体在相对于所述第一壳体滑动的同时是可移动的， 其中，所述第二壳体的端部在滑动时接触所述斜面。
9.根据权利要求5所述的键盘装置， 其中，所述支持部分具有引导所述键顶在所述第一位置与所述第二位置之间运动的导引面，以及 其中，所述导引面是平面。
10.根据权利要求5所述的键盘装置， 其中，所述支持部分具有引导所述键顶在所述第一位置与所述第二位置之间运动的导引面，以及 其中，所述导引面是曲面。
11.根据权利要求1所述的键盘装置， 其中，所述斜面形成在所述键顶的所述边缘中的、当所述键顶从所述第一位置运动至所述第二位置时从所述开口的内边缘分开的第二边缘处。
12.根据权利要求11所述的键盘装置， 其中，所述键顶包括延伸部分，当所述键顶位于所述第一位置时所述延伸部分以所述键顶从第二边缘侧进入到所述开口的下部中的方式延伸。
【文档编号】H01H13/705GK104345893SQ201410354652
【公开日】2015年2月11日 申请日期:2014年7月24日 优先权日:2013年7月31日
【发明者】木村泰典, 千原秀一, 辻泰志, 三泽淳一郎, 原田真吾 申请人:索尼公司