具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器及其制备方法
【专利摘要】本发明涉及一种具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器，该电容器包括衬底基片、下部电极和上部电极，所述的下部电极涂覆在衬底基片上，该电容器还包括活性钛酸锶薄膜，所述的活性钛酸锶薄膜位于上部电极和下部电极之间，所述的上部电极为Al薄膜，活性钛酸锶薄膜与上部电极之间设有一层具有自修复作用的阳极氧化膜。与现有技术相比，本发明具有能够实现自修复、储能密度高、不存在电解液等优点。
【专利说明】
具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器及其制备方法
技术领域
[0001] 本发明属于电容器制备技领域，设及一种高储能密度的固态薄膜电容器缺陷自修 复技术，具体设及一种具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器及其制备方法。
【背景技术】
[0002] W集成电路为标志的微电子技术无处不在，已经成为信息社会的基础，同时也为 社会经济的发展做出了重要贡献。高集成度、低功耗、高性能、高可靠性、微型化是微电子技 术发展的方向。而电容器作为集成电路中必不可少的重要组成部分，足W引起重视。在电容 器的制备和使用过程中，介质中不可避免地会出现各种各样的缺陷，因此，实现介质中的缺 陷在强场下的自修复十分必要。
[0003] A1电解电容器工作时，阳极氧化膜的局部会由于某种原因受到破坏，产生一些弱 点，使电容器的漏电流增大。由于它的负极为电解质，在电场的作用下，电解质中的速 地被输运到缺陷处与从A1基底迁移过来的A13+结合，生成新的Ah〇3，修补薄膜中的缺陷，使 电容器恢复到正常的工作状态，运种能力称为电解电容器的自修复作用。粗电解电容器的 自愈原理与A1电解电容器类似，当工作电压升到较大值时，电容器化2〇5膜中缺陷处的电流 激增，产生的热量使作为阴极的Μη化发生热分解转化为高阻的Mn2〇3,修补或者隔绝了氧化 膜中的缺陷，使氧化膜介质随时得到加固并恢复其应有的绝缘能力，而不致遭到连续的累 积性破坏。尽管电解电容器的自修复作用修补了介质薄膜的缺陷，但同时却牺牲了电容器 的某些性能。比如，A1电解电容器在修复缺陷的过程中消耗了部分电解液;而粗电解电容器 则在消除缺陷处导电通道的同时减少了电容器的有效电极面积，如果缺陷极其微小，那么 对电容量的影响可W忽略不计，如果缺陷很大，如出现击穿等，那么电容器将无法正常工 作。金属化薄膜电容即是在聚醋薄膜的表面蒸锻一层金属膜代替金属锥做为电极。金属化 膜电容的最大优点就是"自愈"特性。所谓自愈特性就是薄膜介质中存在缺陷并在电压作用 下出现击穿短路，而击穿点的金属化层可在电弧作用下瞬间烙化蒸发而形成一个很小的无 金属区，使电容的两个极片重新相互绝缘而仍能继续工作，因此提高了电容器工作的可靠 性。
[0004] A1电解电容器，电容量较低，体积庞大，需要消耗电解液来实现其缺陷自修复，然 而电解液的存在使其安全性和可靠性受到了威胁。运种电解液会在电容器寿命期间蒸发， 从而改变其电气属性。如果电容器失效，会出现剧烈的反应：电容器中形成压力，迫使它释 放出易燃、腐蚀性气体，甚至引起电容器爆炸等问题。此外，电解质蒸发的速度与电容器溫 度密切相关，A1电解电容器易受工作环境的影响。总之，电解液的存在极大地限制了 A1电解 电容器储能密度的提高。
[0005] 粗电解电容器电容量较小，价格昂贵，应用范围有限。且Μη化占据体积较大，限制 了粗电解电容器储能密度的提高。
[0006] 对于金属化薄膜电容器，一方面由于金属化电容在长期工作条件易出现容量丢 失，因此容量稳定性较差;另一方面由于金属化膜层比金属锥要薄很多，因此耐受大电流能 力较差。
[0007] 中国专利CN103971933A公开了一种固态薄膜电容器及其制备方法，运种电容器利 用活性A12化薄膜在强场下活跃的离子输运(特别是电介质缺陷处附近的离子更为活跃），将 离子输运至缺陷附近的电极界面实现阳极氧化，进而实现了缺陷处的自修复。与A1电解电 容器不同，此种电容器中不存在液态电解质，而是采用具有电介质作用的活性Al2〇3薄膜作 为阳极氧化中氧的提供方，避免了电解液存在带来的问题，但是Al2〇3薄膜的介电常数较低， 因此限制了其储能密度的进一步提高。
【发明内容】
[0008] 本发明的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种具有自修复作 用的固态薄膜集成电路电容器及其制备方法。
[0009] 本发明的目的可W通过W下技术方案来实现：
[0010] -种具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器，包括衬底基片、下部电极和上 部电极，所述的下部电极涂覆在衬底基片上，该电容器还包括活性铁酸锁薄膜，所述的活性 铁酸锁薄膜位于上部电极和下部电极之间，所述的上部电极为A1薄膜，活性铁酸锁薄膜与 上部电极之间设有一层具有自修复作用的阳极氧化膜。
[0011] 活性铁酸锁薄膜与上部电极之间形成的具有自修复作用的阳极氧化膜为阳极氧 化侣薄膜。
[0012 ]所述的下部电极包括A1薄膜、Pt薄膜、Au薄膜、化薄膜或Ag薄膜。
[0013] 当下部电极为A1薄膜时，该电容器还包括一层位于活性铁酸锁薄膜与下部电极之 间的具有自修复作用的阳极氧化膜。
[0014] 此时，活性铁酸锁薄膜与下部电极之间的一层具有自修复作用的阳极氧化膜为阳 极氧化侣薄膜。
[0015] 所述的下部电极的厚度为200~300nm，所述的上部电极的厚度为200~300nm，所 述的活性铁酸锁薄膜的厚度为200~300nm，所述的阳极氧化膜的厚度为20~60nm。
[0016] 所述的衬底基片为娃片。
[0017] 具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器的制备方法，该方法包括W下步骤： [001引（1)制备活性铁酸锁溶胶前驱体：
[0019] (1-1)制备锁源:将醋酸锁溶解在冰醋酸中，于70~90°C揽拌0.5~化，溫度缓慢降 至40~60°C后加入PVP的冰醋酸溶液，在40~60°C下继续揽拌20~60min，得到锁源，其中， 醋酸锁与PVP的用量比为Imol: (3~8)g;锁源中醋酸锁与冰醋酸的总量的比值为Imol: (1.5 ~2.5化；
[0020] (1-2)制备铁源:将四异丙醇铁溶解在乙二醇甲酸中，40~60°C下揽拌10~60min， 加入乙酷丙酬，保持溫度在40~60°C下继续揽拌0.5~化，得到铁源，其中，四异丙醇铁、乙 二醇甲酸和乙酷丙酬的用量比为Imol: (2~3)L: (0.08~0.12化；
[0021] (1-3)将铁源缓慢滴加至锁源，并在40~60°C下揽拌5~30min，加入乙二醇，保持 溫度在40~60°C下揽拌2~地，冷却至室溫，将澄清液过滤后，得到活性铁酸锁溶胶前驱体， 其中乙二醇的用量与锁源中Sr2+的量的比为(0.1~0.3化:Imol;
[0022] (2)采用磁控瓣射或蒸发锻膜法在沉底基片上制备一层导电薄膜，作为下部电极；
[0023] (3)将活性铁酸锁溶胶前驱体涂覆在下部电极的表面，进行此过程5~7次，每次涂 覆后进行热处理，达到所需厚度后在450~530°C的溫度下通氧气退火处理2~地，制得活性 铁酸锁薄膜；
[0024] (4)采用蒸发锻膜法或磁控瓣射法在活性铁酸锁薄膜上制备一层A1薄膜，作为上 部电极，然后置于湿度大于90%的潮湿空气中30~60min，使活性铁酸锁薄膜进行水合反 应；
[0025] (5)采用电化学处理方法，在活性铁酸锁薄膜与上部电极的界面上进行阳极氧化 反应，生成阳极氧化膜，制得固态薄膜电容器单元；
[0026] (6)将制备好的电容器单元或将电容器单元组合，通过绝缘介质进行封装固化，再 进行两端引线，制得具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器。
[0027] 优选地，步骤（1-3)中加入的铁源的Ti4+与锁源中的Sr2+的摩尔比为1:1。符合二者 的化学反应配比和铁酸锁的化学计量比，节省原料。
[0028] 步骤（1-3)中加入的乙二醇用于调节生成的活性铁酸锁溶胶前驱体的粘度，而其 粘度跟与每一层介质薄膜的厚度W及薄膜的平滑度有关，在所述的乙二醇用量下，涂覆方 便且膜的平滑度好，较为合适。
[00巧]步骤(3)中的热处理的条件为180~220°C处理3~7min，升溫至480~520°C处理3 ~7min，然后降溫至180~220°C处理3~7min。
[0030] 步骤（3)的热处理条件为180~220 °C处理3~7min，升溫至330~370 °C处理3~ 7min，继续升溫至480~520°C处理3~7min，然后降溫至330~370°C处理3~7min，继续降溫 至180~220°C处理3~7min。
[0031] 热处理过程使铁酸锁薄膜中的有机物充分燃烧分解，使得该薄膜更加致密光滑。
[0032] 步骤(5)的电化学处理法采用将上部电极作为阳极，下部电极作为阴极，接入电路 通电，施加按照0.1~0.5V/S的速率增加的电压，直至施加电压高于电容器单元额定工作电 压的5~10%，利用活性铁酸锁薄膜在电场下的离子输运作用，在活性铁酸锁薄膜和上部电 极的界面上发生阳极氧化反应，在阳极生成一层阳极氧化膜。
[0033] 同理，在活性铁酸锁薄膜与下部电极之间形成一层具有自修复作用的阳极氧化膜 时，改变电场方向，将下部电极作为阳极，将上部电极作为阴极接入电路，加按照0.1~ 0.5V/S的速率增加的电压，直至施加电压高于电容器单元额定工作电压5~10%，利用活性 铁酸锁薄膜在电场下的离子输运作用，在活性铁酸锁薄膜和下部电极的界面上发生阳极氧 化反应，在阳极生成一层阳极氧化膜。
[0034] 本发明采用活性铁酸锁薄膜作为电介质，同时利用活性铁酸锁薄膜在强场下活跃 的离子输运(特别是电介质缺陷处附近的离子更为活跃，而且在电化学处理过程中铁酸锁 薄膜的Ti4+能够变价为Ti3%电子的转移可W促进离子的输运），实现了离子输运功能，将离 子输运至缺陷附近的电极界面实现阳极氧化，进而实现缺陷的自修复。
[0035] 本发明的介质薄膜为铁酸锁薄膜，与一些传统的介质氧化物(Si〇2、化地5、Al2化等） 相比，铁酸锁具有比较高的介电常数，因此成为了高储能密度电容器介质的候选者。此外， 良好的介电性能也使得铁酸锁电容器的电容量有所提高。但是国内外学者都致力于通过提 高铁酸锁的介电常数来提高电容器的储能密度。但我们从影响储能密度的另一个参数即击 穿场强入手，通过自修复手段提高铁酸锁的击穿场强，进而提高电容器的储能密度，达到了 比较好的效果。铁酸锁属于顺电体，其储能密度的计算公式为U=l/2 · ε . E2,其中U表示储 能密度，ε表示介电常数，E表示击穿场强。因此储能密度与介电常数成正比，与击穿场强的 平方成正比。而当在铁酸锁薄膜中生成一层Al2〇3阳极氧化膜时，运层Al2〇3薄膜能够起到修 复铁酸锁薄膜中缺陷的作用，从而使得铁酸锁薄膜的击穿场强大幅度提高（能够提高60~ 80 % )，从而进一步提高了储能密度。
[0036] 运种自修复技术与现有的自修复技术存在显著区别。相比A1电解电容器，本发明 所述电容器采用具有电介质作用的活性铁酸锁薄膜作为阳极氧化所需氧的提供方，避免了 液态电解质存在造成的问题;相比金属化薄膜电容器，本发明中通过形成阳极氧化膜来修 复介质中缺陷或弱点，因而不存在自愈后电容量减小的问题。相比Al2〇3固态薄膜电容器，本 发明所述电容器电介质的介电常数较大，进而促进了电容量和储能密度的提高，而且由于 铁酸锁薄膜的离子运输功能更强，对缺陷的修复效果更好。
[0037] 本发明不但解决了 A1电解电容器电解液的问题，而且由于铁酸锁薄膜的介电常数 很高，而且生成的Al2〇3薄膜修复了铁酸锁薄膜中的缺陷，从而提高了铁酸锁薄膜的击穿场 强，进而提高了电容器的储能密度，通过本发明能够大大提高了电容器的储能密度。
[0038] 与现有技术相比，本发明具有W下优点：
[0039] 1、结构、制备工艺简单，易于批量生产。
[0040] 2、原料成本低廉，极大地降低了生产成本。
[0041 ] 3、内部不含液态电介质，提高了安全性和可靠性。
[0042] 4、介质介电常数较高，储能密度较高，可微型化，小型化并应用于集成电路。
[0043] 5、电容器具有自修复能力，极大地提高了电容器的使用寿命。
【附图说明】
[0044] 图1为本发明未经电化学处理的电容器单元截面示意图及对其进行电化学处理的 电路示意图；
[0045] 图2为本发明经过电化学处理后的电容器单元截面示意图；
[0046] 图中，1为娃片，2为下部电极，3为活性铁酸锁薄膜，4为A1薄膜，5为阳极Al2〇3膜。
【具体实施方式】
[0047] 下面结合附图和具体实施例对本发明进行详细说明。
[004引实施例1
[0049]如图1所示，为本发明未经电化学处理的电容器单元截面示意图及电路示意图，该 电容器单元包括娃片1(衬底基片）、下部电极2、活性铁酸锁薄膜3及A1薄膜4。如图2所示，为 本发明经电化学处理后的电容器单元截面示意图，该电容器单元包括娃片1、下部电极2、活 性铁酸锁薄膜3、A1薄膜4W及阳极Al2〇3膜5,活性铁酸锁薄膜3设置在下部电极2和A1薄膜4 之间，活性铁酸锁薄膜3与A1薄膜4界面处为一层通过电化学方法处理形成的具有自修复功 能的阳极Ah化膜5。在缺陷消除与修复工序中，将电容器单元两端施加按一定幅度逐步增加 的电压，直至施加的电压高于电容器单元的额定工作电压，并保持一段时间，进而形成稳定 的阳极Al2〇3膜5。下部电极2为导电薄膜（销薄膜）。单层电容器单元的下部电极2厚度为 300nm、Al薄膜4的厚度为20化m，活性铁酸锁薄膜3厚度为30化m;阳极Al2〇3膜5厚度为50皿， 电容值为5.化F。
[0050]其中，该固态薄膜电容器单元的制备包括W下步骤：
[0化1] a、将醋酸锁溶解在冰醋酸中，于80°C揽拌化，溫度缓慢降至50°C后加入PVP(0.5g) 的冰醋酸溶液，在50°C下继续揽拌30min，其中，两次加入的冰醋酸共为20ml。再称取 0.0 Imo 1的四异丙醇铁溶解在24ml乙二醇甲酸中，50°C下揽拌0.化，加入1ml乙酷丙酬，50°C 下继续揽拌化。将上述铁源缓慢滴加至锁源，并在50°C下揽拌15min，加入2ml乙二醇，50°C 下揽拌化，冷却至室溫，将澄清液进行过滤，得到溶胶前驱体；
[0052] b、采用蒸发锻膜法或磁控瓣射法在娃片1上制备下部电极；
[0053] C、将步骤a制得的活性铁酸锁溶胶前驱体涂覆在步骤b制得的下部电极2表面上， 进行此过程5次，每次涂覆后进行热处理，热处理的条件为200°C处理5min，350°C处理5min， 500°C处理5min，350°C处理5min，200°C处理5min，最后在500°C下通氧气退火处理化，制得 活性铁酸锁薄膜3;
[0054] d、采用蒸发锻膜法或磁控瓣射法在步骤C制得的活性铁酸锁薄膜3上制备A1薄膜 4，随后置于潮湿空气中，使活性铁酸锁薄膜3进行水合反应;水合反应条件为相对湿度大于 90%的潮湿空气氛围，反应时间为30min;
[0055] e、采用电化学处理法，在活性铁酸锁薄膜3与A1薄膜4的界面上进行阳极氧化反 应，生成阳极Al2〇3膜5,制得固态薄膜电容器单元。所述电化学处理法，具体步骤是:将A1薄 膜4作为阳极，下部电极2作为阴极，接入电路通电，利用活性铁酸锁薄膜3在电场下的离子 输运，在活性铁酸锁薄膜3和A1薄膜4的界面上发生阳极氧化反应，在阳极生成新的一层阳 极Al2〇3膜5。由于缺陷处离子电导较高，在其附近形成的阳极Al2〇3膜5也更厚，从而实现了 缺陷处的自修复。
[0056] 工作时，固态薄膜电容器采用活性铁酸锁薄膜3作为电容器中的电介质，同时利用 活性铁酸锁薄膜3在强场下活跃的离子输运，特别是在电介质缺陷处附近的离子更为活跃， 实现了与A1电解电容器中电解液作用相似的离子输运媒介，将离子输运至缺陷附近的电极 界面实现阳极氧化，进而实现了缺陷的自修复。
[0化7]实施例2
[0化引本实施例中，每次涂覆铁酸锁薄膜后的热处理条件为200°C处理5min，350°C处理 5min，500°C处理5min，350°C处理5min，200°C处理5min，得到一定厚度的铁酸锁薄膜后在 450°C下通氧气退火处理化，其余实验步骤条件同实施例1。
[0化9]实施例3
[0060] 本实施例中，每次涂覆铁酸锁薄膜后的热处理条件为200°C处理5min，50(TC处理 5min，200°C处理5min，得到一定厚度的铁酸锁薄膜后500°C下通氧气退火处理化，其余实验 步骤条件同实施例1。
[0061 ] 实施例4
[0062] 本实施例中，下部电极厚度为2(K)nm、Al薄膜的厚度为300nm，活性铁酸锁薄膜厚度 为300皿；阳极Al2〇3膜厚度为50nm，电容值为5.化F(电容器表面积0.1cm2，活性铁酸锁薄膜 介电常数为25,阳极Al2〇3膜介电常数为10)，其余实验步骤条件同实施例1。
[0063] 实施例5
[0064] 本实施例中，下部电极厚度为2(K)nm、Al薄膜的厚度为200nm，活性铁酸锁薄膜厚度 为200皿;阳极Al2〇3膜厚度为50皿，电容值为6.81nF(电容器表面积ο. 1cm2，铁酸锁膜介电常 数为25,阳极Al2〇3膜介电常数为10)，其余实验步骤条件同实施例1。
[00化]实施例6
[0066] 本实施例的具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器与实施例1基本相同，不 同之处在于，本实施例的电容器的制备过程包括W下步骤：
[0067] a、将醋酸锁溶解在冰醋酸中，于70°C揽拌化，溫度缓慢降至40°C后加入PVP(0.4g) 的冰醋酸溶液，在40°C下继续揽拌60min，其中，两次加入的冰醋酸共为15ml。再称取 0.0 Imo 1的四异丙醇铁溶解在30ml乙二醇甲酸中，40 °C下揽拌60min，加入0.8ml乙酷丙酬， 40°C下继续揽拌化。将上述铁源缓慢滴加至锁源，并在40°C下揽拌30min，加入2ml乙二醇， 40°C下揽拌4h，冷却至室溫，将澄清液进行过滤，得到溶胶前驱体；
[0068] b、采用蒸发锻膜法或磁控瓣射法在娃片1上制备销薄膜，形成下部电极4;
[0069] C、将步骤a制得的活性铁酸锁溶胶前驱体涂覆在步骤b制得的销薄膜表面上，进行 此过程7次，每次涂覆后进行热处理，热处理的条件为180°C处理7min，330°C处理7min，480 。(:处理7min，330°C处理7min，180°C处理7min，达到所需厚度后480°C通氧气下退火处理4h， 制得活性铁酸锁薄膜3;
[0070] d、采用蒸发锻膜法或磁控瓣射法在步骤C制得的活性铁酸锁薄膜3上制备A1薄膜 4，随后置于潮湿空气中，使活性铁酸锁薄膜3进行水合反应;水合反应条件为相对湿度大于 90%的潮湿空气氛围，反应时间为60min;
[0071] e、采用电化学处理法，在活性铁酸锁薄膜3与A1薄膜4的界面上进行阳极氧化反 应，生成阳极Al2〇3膜5,制得具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器单元。电化学处理 法，具体步骤是:将A1薄膜4作为阳极，销薄膜作为阴极，接入电路通电，利用活性铁酸锁薄 膜3在电场下的离子输运，在活性铁酸锁薄膜3和A1薄膜4的界面上发生阳极氧化反应，在阳 极生成新的一层阳极Al2〇3膜5。由于缺陷处离子电导较高，在其附近形成的阳极Ah化膜5也 更厚，从而实现了缺陷处的自修复。
[0072] 工作时，固态薄膜电容器采用活性铁酸锁薄膜3作为电容器中的电介质，同时利用 活性铁酸锁薄膜3在强场下活跃的离子输运，特别是在电介质缺陷处附近的离子更为活跃， 实现了离子输运媒介的作用，将离子输运至缺陷附近的电极界面实现阳极氧化，进而实现 了缺陷的自修复。
[0073] 实施例7
[0074] 本实施例的具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器与实施例1基本相同，不 同之处在于，本实施例的电容器的制备过程包括W下步骤：
[007引 a、将醋酸锁溶解在冰醋酸中，于90°C揽拌0.5h，溫度缓慢降至50°C后加入PVP (0.6g)的冰醋酸溶液，在60°C下继续揽拌20min，其中，两次加入的冰醋酸共为25ml。再称取 0.0 Imo 1的四异丙醇铁溶解在20ml乙二醇甲酸中，60 °C下揽拌化，加入1.2ml乙酷丙酬，60 °C 下继续揽拌0.化。将上述铁源缓慢滴加至锁源，并在60°C下揽拌5min，加入2ml乙二醇，60°C 下揽拌化，冷却至室溫，将澄清液进行过滤，得到溶胶前驱体；
[0076] b、采用蒸发锻膜法或磁控瓣射法在娃片1上制备销薄膜，形成下部电极4;
[0077] C、将步骤a制得的活性铁酸锁溶胶前驱体涂覆在步骤b制得的销薄膜表面上，进行 此过程6次，每次涂覆后进行热处理，所述的热处理的条件为220°C处理3min，37(TC处理 3min，520°C处理3min，370°C处理3min，220°C处理3min，最后520°C通氧气下退火处理2小 时，制得活性铁酸锁薄膜3;
[0078] d、采用蒸发锻膜法或磁控瓣射法在步骤C制得的活性铁酸锁薄膜3上制备A1薄膜 4,随后置于潮湿空气中，使活性铁酸锁薄膜3进行水合反应;水合反应条件为相对湿度为 100%的潮湿空气氛围，反应时间为30min;
[0079] e、采用电化学处理法，在活性铁酸锁薄膜3与A1薄膜4的界面上进行阳极氧化反 应，生成阳极Al2〇3膜5,制得具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器单元。电化学处理 法，具体步骤是:将A1薄膜4作为阳极，销薄膜作为阴极，接入电路通电，利用活性铁酸锁薄 膜3在电场下的离子输运，在活性铁酸锁薄膜3和A1薄膜4的界面上发生阳极氧化反应，在阳 极生成新的一层阳极Al2〇3膜5。由于缺陷处离子电导较高，在其附近形成的阳极Ah化膜5也 更厚，从而实现了缺陷处的自修复。
[0080] 工作时，固态薄膜电容器采用活性铁酸锁薄膜3作为电容器中的电介质，同时利用 活性铁酸锁薄膜3在强场下活跃的离子输运，特别是在电介质缺陷处附近的离子更为活跃， 实现了离子输运媒介的作用，将离子输运至缺陷附近的电极界面实现阳极氧化，进而实现 了缺陷的自修复。
[0081 ] 实施例8
[0082] 该实施例的具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器，包括衬底基片、下部电 极和上部电极，下部电极涂覆在衬底基片上，该电容器还包括活性铁酸锁薄膜，活性铁酸锁 薄膜位于上部电极和下部电极之间，上部电极为A1薄膜，下部电极为A1薄膜，活性铁酸锁薄 膜分别与上部电极和下部电极之间为通过电化学处理方法形成的一层具有自修复作用的 Al2〇3 膜。
[0083] 本实施例的具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器单元的制备步骤与实施 例1基本相同，不同之处在于，本实施例中，采用磁控瓣射法在娃片上制备A1薄膜，将制得的 活性铁酸锁溶胶前驱体涂覆在A1薄膜表面上，并进行热处理，制得活性铁酸锁薄膜;采用磁 控瓣射法在步骤C制得的活性铁酸锁薄膜上制备A1薄膜，随后置于潮湿空气中，使活性铁酸 锁薄膜进行水合反应;水合反应条件为100 %潮湿空气氛围，反应时间为30min，采用电化学 处理法，在活性铁酸锁薄膜与A1薄膜（上部电极W及下部电极）的界面上进行阳极氧化反 应，生成阳极Al2〇3膜，制得具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器单元。电化学处理 法，具体步骤是：将上部电极的A1薄膜作为阳极，下部电极的铁薄膜作为阴极接入电路通 电，利用活性铁酸锁薄膜在电场下的离子输运，在活性铁酸锁薄膜和上部电极的A1薄膜的 界面上发生阳极氧化反应，在阳极生成新的一层阳极Al2〇3膜。由于缺陷处离子电导较高，在 其附近形成的阳极Al2〇3膜也更厚，从而实现了缺陷处的自修复。通过改变电场方向，在活性 铁酸锁薄膜和下部电极的铁薄膜的界面上生成阳极Al2〇3膜，从而更好地实现了固态薄膜电 容器单元中活性铁酸锁薄膜的自修复。
[0084] 具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器单元（电容器表面积0.1cm2,铁酸锁 膜介电常数为25，阳极Al2〇3膜介电常数为10)
[0085] 电容器单元参数如表1所示：
[00化]表1
[0087]
[0088] 实施例9
[0089] 本实施例与实施例1基本相同，不同之处在于，本实施例的下部电极的厚度为 200加1，上部电极的厚度为200加1，活性铁酸锁薄膜的厚度为200加1，阳极氧化膜的厚度为 50nm〇
[0090] 实施 10
[0091] 本实施例与实施例1基本相同，不同之处在于，本实施例的下部电极的厚度为 230加1，上部电极的厚度为230加1，活性铁酸锁薄膜的厚度为260加1，阳极氧化膜的厚度为 60nm〇
[0092] 实施 11
[0093] 本实施例与实施例1基本相同，不同之处在于，本实施例的下部电极的厚度为 270加1，上部电极的厚度为270加1，活性铁酸锁薄膜的厚度为300加1，阳极氧化膜的厚度为 60nm〇
[0094] 实施例12
[00M]本实施例与实施例1基本相同，不同之处在于本实施例的下部电极为Au薄膜。
[0096] 实施例13
[0097] 本实施例与实施例1基本相同，不同之处在于本实施例的下部电极为化薄膜。
[009引 实施例14
[0099]本实施例与实施例1基本相同，不同之处在于本实施例的下部电极为Ag薄膜。
【主权项】
1. 一种具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器，包括衬底基片、下部电极和上部 电极，所述的下部电极涂覆在衬底基片上，其特征在于，该电容器还包括活性钛酸锶薄膜， 所述的活性钛酸锶薄膜位于上部电极和下部电极之间，所述的上部电极为A1薄膜，活性钛 酸锶薄膜与上部电极之间设有一层具有自修复作用的阳极氧化膜。2. 根据权利要求1所述的具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器，其特征在于，所 述的下部电极包括A1薄膜、Pt薄膜、Au薄膜、Cu薄膜或Ag薄膜。3. 根据权利要求2所述的具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器，其特征在于，当 下部电极为A1薄膜时，该电容器还包括一层位于活性钛酸锶薄膜与下部电极之间的具有自 修复作用的阳极氧化膜。4. 根据权利要求3所述的具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器，其特征在于，所 述的下部电极的厚度为200~300nm，所述的上部电极的厚度为200~300nm，所述的活性钛 酸锶薄膜的厚度为200~300nm，所述的阳极氧化膜的厚度为20~60nm〇5. 根据权利要求1所述的具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器，其特征在于，所 述的衬底基片为娃片。6. 如权利要求1所述的一种具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器的制备方法， 其特征在于，该方法包括以下步骤： (1) 制备活性钛酸锶溶胶前驱体： (1-1)制备锶源:将醋酸锶溶解在冰醋酸中，于70~90°C搅拌0.5~2h，温度缓慢降至40 ~60 °C后加入PVP的冰醋酸溶液，在40~60°C下继续搅拌20~60min，得到锶源，其中，醋酸 锶与PVP的用量比为lmol: (3~8)g;锶源中醋酸锶与冰醋酸的总量的比值为lmol: (1.5~ 2.5)L； (1-2)制备钛源:将四异丙醇钛溶解在乙二醇甲醚中，40~60°C下搅拌10~60min，加入 乙酰丙酮，保持温度在40~60°C下继续搅拌0.5~2h，得到钛源，其中，四异丙醇钛、乙二醇 甲醚和乙酰丙酮的用量比为lmol :(2~3)L:(0.08~0.12)L; (1-3)将钛源缓慢滴加至锶源，并在40~60°C下搅拌5~30min，加入乙二醇，保持温度 在40~60°C下搅拌2~4h，冷却至室温，将澄清液过滤后，得到活性钛酸锶溶胶前驱体，其中 乙二醇的用量与锶源中Sr 2+的量的比为(0.1~0.3)L: lmol; (2) 采用磁控溅射或蒸发镀膜法在沉底基片上制备一层导电薄膜，作为下部电极； (3) 将活性钛酸锶溶胶前驱体涂覆在下部电极的表面，进行此过程5~7次，每次涂覆后 进行热处理，达到所需厚度后在450~530°C的温度下通氧气退火处理2~4h，制得活性钛酸 锶薄膜； (4) 采用蒸发镀膜法或磁控溅射法在活性钛酸锶薄膜上制备一层A1薄膜，作为上部电 极，然后置于湿度大于90%的潮湿空气中30~60min，使活性钛酸锶薄膜进行水合反应； (5) 采用电化学处理方法，在活性钛酸锶薄膜与上部电极的界面上进行阳极氧化反应， 生成阳极氧化膜，制得固态薄膜电容器单元； (6) 将制备好的电容器单元或将电容器单元组合，通过绝缘介质进行封装固化，再进行 两端引线，制得具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器。7. 根据权利要求6所述的具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器的制备方法，其 特征在于，步骤(3)中的热处理的条件为180~220°C处理3~7min，升温至480~520°C处理3 ~7min，然后降温至180~220°C处理3~7min。8. 根据权利要求6所述的具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器的制备方法，其 特征在于，步骤(3)的热处理条件为180~220°C处理3~7min，升温至330~370°C处理3~ 7min，继续升温至480~520°C处理3~7min，然后降温至330~370°C处理3~7min，继续降温 至180~220°C处理3~7min。9. 根据权利要求6所述的具有自修复作用的固态薄膜集成电路电容器的制备方法，其 特征在于，步骤(5)中的电化学处理法采用将上部电极作为阳极，下部电极作为阴极，接入 电路通电，施加按照0.1~0.5V/S的速率增加的电压，直至施加电压高于电容器单元额定工 作电压的5~10%，利用活性钛酸锶薄膜在电场下的离子输运作用，在活性钛酸锶薄膜和上 部电极的界面上发生阳极氧化反应，在阳极生成一层阳极氧化膜。
【文档编号】H01G4/12GK105869888SQ201610197451
【公开日】2016年8月17日
【申请日】2016年3月31日
【发明人】姚曼文, 李菲, 陈建文, 彭勇, 苏振, 徐开恩, 姚熹
【申请人】同济大学