衬底支持装置及机台装置的制造方法
【专利摘要】一种衬底支持装置包含承载单元以及至少一个衬底支持单元。衬底支持单元可移动地连接于承载单元，并具有至少两个第一延伸元件以支持衬底。这些第一延伸元件朝第一方向延伸且两者之间具有间距。
【专利说明】
衬底支持装置及机台装置
技术领域
[0001]本发明涉及一种支持装置，特别涉及一种衬底支持装置及机台装置。
【背景技术】
[0002]在半导体工艺或衬底加工工艺中，常需要使用衬底支持单元来支持和/或传输衬底，以使衬底能合适于进行所需工艺或到达所需的地点进行所需工艺。而在衬底支持装置支持衬底的过程中，衬底难免会受到重力的影响而产生弯曲(bending)，因此衬底支持装置所提供给衬底的支持效果相当程度地影响工艺的质量以及产品的良率。
[0003]请参照图1，其为一种公知机台装置4的示意图，公知机台装置4包含有平台承载单元41及衬底支持单元42，而平台承载单元41可供衬底S平贴置放于其上，且衬底S面积略大于平台承载单元41，而衬底支持单元41由下而上承托住衬底S外周侧，以达到抓取及传输的目的。
[0004]因衬底S平贴置放于平台承载单元41上，导致衬底支持单元42在抓取衬底S时，会受限于平台承载单元41，而仅能针对衬底S外露于平台承载单元41的部分进行承托，另夕卜，再加上现在的平面电子装置，例如显示装置、触控装置等等，都要求轻薄化，以致于电子装置内所使用的衬底也需要相当的薄形化，而衬底的弯曲量会随着薄型化的设计而变大，因此，公知衬底支持单元无法对薄化衬底的弯曲量提供合适的支持效果，以致影响工艺的进行以及广品的良率。
[0005]因此，如何提供一种衬底支持装置，能高效率地应用于这些薄化衬底而能提供合适的支持效果以应对薄化衬底的弯曲量，进而提升工艺质量及产品良率，实为当前重要课题之一。
【发明内容】
[0006]有鉴于上述课题，本发明的目的在于提供一种衬底支持装置，其具有创新的结构设计而能高效率地应用于这些薄化衬底并提供合适的支持效果以应对薄化衬底的弯曲量，进而提升工艺质量及产品良率。另外，本发明也提供一种机台装置，其具有上述的衬底支持
目.ο
[0007]为达上述目的，本发明的一种衬底支持装置包含承载单元以及至少一个衬底支持单元。衬底支持单元可移动地连接于承载单元，并具有至少两个第一延伸元件以支持衬底。这些第一延伸元件朝第一方向延伸且两者之间具有间距。
[0008]在一个实施例中，承载单元还包含有承载臂及移动件，移动件设于承载臂内。同时，衬底支持单元包含有连接于这些第一延伸元件之间的连接件，而移动件与该连接件相连接。
[0009]在一个实施例中，这些第一延伸元件连接于连接件的两端，并分别延伸设置于承载臂的两侧。
[0010]在一个实施例中，衬底支持装置包含有两个衬底支持单元，而这些衬底支持单元分别设置于承载单元上，并可朝彼此作相对移动，其中，这些衬底支持单元之间还限定有支持区，这些第一延伸元件分别朝该支持区延伸设置。
[0011]在一个实施例中，衬底支持装置包含有两个侧向支持单元，且这些侧向支持单元设在支持区的两侧，且与这些衬底支持单元不同侧，这些衬底支持单元与这些侧向支持单元同时支持衬底。
[0012]为达上述目的，本发明的一种机台装置包含有衬底支持装置及平台承载单元，并可在衬底支持装置与平台承载单元之间移动或承载衬底，其主要特征在于:衬底支持装置使用如上所述的任一衬底支持装置，并且平台承载单元具有对应第一延伸元件数量的凹部，第一延伸元件可对应容置凹部内。
[0013]承上所述，本发明的一种衬底支持装置的衬底支持单元还设置至少两个第一延伸元件以支持衬底，并且这些第一延伸元件朝第一方向延伸且两者之间具有一间距。当衬底由衬底支持装置所支持时，朝第一方向延伸的两个第一延伸元件能扩大支持范围，进而提供充足的支持效果以应对薄化衬底的弯曲量，进而提升工艺质量及产品良率。
【附图说明】
[0014]图1为一种公知机台装置4的示意图。
[0015]图2为本发明一个实施例的衬底支持装置的局部的示意图。
[0016]图3为本发明一个实施例的衬底支持装置的另一示意图。
[0017]图4A及图4B为本发明一个实施例的衬底支持装置的另外的示意图。
[0018]图4C及图4D分别为图4A及图4B的衬底支持装置的侧向支持单元的侧视示意图。
[0019]图5为本发明一个实施例的机台装置的俯视示意图。
【具体实施方式】
[0020]以下将参照相关附图，说明依据本发明优选实施例的一种衬底支持装置及机台装置，其中相同的元件将以相同的参照符号加以说明。
[0021]图2为本发明一个实施例的衬底支持装置I的局部的示意图。如图2所示，衬底支持装置I包含承载单元11、至少一个衬底支持单元12。本实施例的衬底支持装置I可应用于支持和/或传输衬底，衬底例如为玻璃衬底，并可例如应用于半导体工艺或其它衬底加工工艺，在此并不限制。
[0022]承载单元11用以支持衬底支持单元12。本实施例不限制承载单元11的形状及材质。在本实施例中，承载单元11还包含有承载臂111及移动件112，移动件112设于承载臂111内。移动件112例如为直线驱动元件并可例如包含汽缸(cylinder)，其与衬底支持单元12连接并驱动衬底支持单元12进行直线运动。
[0023]衬底支持单元12可移动地连接于承载单元11，并具有至少两个第一延伸元件121以支持衬底(图未绘示)，这些第一延伸元件121朝第一方向Dl延伸且两者之间具有一间距。另外，在本实施例中，衬底支持单元12包含有连接于第一延伸元件121之间的连接件122，且移动件112与连接件122相连接。在此，连接件122呈π字型并且承载臂111通过连接件122的凹槽，如此，经由此特殊结构设计可使得整个衬底支持单元12所占体积减少。当然，上述π字型结构仅为举例说明，本发明并非以此为限。此外，本实施例的第一延伸元件121连接于连接件122的两端，并分别延伸设置于承载臂111的两侧。
[0024]图3为本发明一个实施例的衬底支持装置I的另一示意图，其中，衬底支持装置I包含两个衬底支持单元12，分别设置于承载臂111的两端并用以支持衬底S。并且，这些衬底支持单元12分别设置于承载单元11上，并可朝彼此作相对移动，在此通过上述的移动件112而作相对移动。在本实施例中，可通过改变这些第一延伸元件121的长度，因而能对衬底S提供更充足的支撑力量与面积，使得衬底S的下垂量减少，在此衬底的最大下垂量以25mm为例，因而有助于工艺质量与产品良率。
[0025]图4A及图4B为本发明一个实施例的衬底支持装置I的另外的示意图，其中，衬底支持装置I除了包含两衬底支持单元12之外，还包含至少两个侧向支持单元13，其分别由图4C及图4D所示，并且图4A与图4B显示衬底支持装置I的两种不同动作状态，其中，图4A为衬底支持装置I处于非抓取衬底的状态，而图4B则为衬底支持装置I处于抓取衬底S的状态。在本实施例中，这些衬底支持单元12之间还限定有支持区SA(如图4B所示)，两个衬底支持单元12的这些第一延伸元件121分别朝支持区SA延伸设置。需注意的是，图中所示的支持区SA的大小并非用以限制本发明，在此重点为支持区SA的所在位置。此外，这些侧向支持单元13设在支持区SA的两侧，且与这些衬底支持单元12不同侧。这些衬底支持单元12与这些侧向支持单元13同时支持衬底S。图4C为图4A的衬底支持装置I的侧向支持单元13的侧视示意图，图4D为图4B的衬底支持装置I的侧向支持单元13的侧视示意图，在此，当欲抓取该衬底S时，侧向支持单元13会向下翻转，并使侧向支持单元13的表面131位于衬底S下方。经由侧向支持单元13所提供的侧向支持力而能对衬底S提供更充足的支撑力量与面积，使得衬底S的下垂量进一步地减少。
[0026]图5为本发明一个实施例的机台装置3的俯视示意图，其中，机台装置3包含如上所述的衬底支持装置I及平台承载单元2。并且，该机台装置3可在衬底支持装置I与平台承载单元2之间移动或承载衬底S。其中，该平台承载单元2具有对应第一延伸元件121数量的凹部21 (以4个为例)，第一延伸元件121可对应容置于凹部21内。由于本发明的平台承载单元2需对应设计而具有对应数量的凹部21以容置第一延伸元件121，使这些第一延伸元件121可朝该平台承载单元2的中央延伸，不受限于该平台承载单元2，穿过这些凹部21而进行动作，并因而对衬底S提供更多的支持力量。
[0027]综上所述，本发明的一种衬底支持装置的衬底支持单元还设置至少两个第一延伸元件以支持衬底，并且这些第一延伸元件朝第一方向延伸且两者之间具有一间距。当衬底由衬底支持装置所支持时，朝第一方向延伸的两个第一延伸元件能扩大支持范围，进而提供充足的支持效果以应对薄化衬底的弯曲量，进而提升工艺质量及产品良率。
[0028]以上所述仅为举例性，而非为限制性。任何未脱离本发明的精神与范畴，而对其进行的等效修改或变更，均应包含于随附的权利要求范围中。
【主权项】
1.一种衬底支持装置，包含: 承载单元；以及 至少一个衬底支持单元，其可移动地连接于该承载单元，并具有至少两个第一延伸元件以支持衬底，所述第一延伸元件朝第一方向延伸且两者之间具有间距。2.根据权利要求1所述的衬底支持装置，其中该承载单元还包含有承载臂及移动件，该移动件设于该承载臂内，同时，该衬底支持单元包含有连接于所述第一延伸元件之间的连接件，而该移动件与该连接件相连接。3.根据权利要求2所述的衬底支持装置，其中所述第一延伸元件连接于该连接件的两端，并分别延伸设置于该承载臂的两侧。4.根据权利要求1所述的衬底支持装置，其中该衬底支持装置包含有两个衬底支持单元，而所述衬底支持单元分别设置于该承载单元上，并可朝彼此作相对移动，其中，所述衬底支持单元之间还限定有支持区，所述第一延伸元件分别朝该支持区延伸设置。5.根据权利要求2所述的衬底支持装置，其中该衬底支持装置包含有两个衬底支持单元，而所述衬底支持单元分别设置于该承载单元上，并可朝彼此作相对移动，其中，所述衬底支持单元之间还限定有支持区，所述第一延伸元件分别朝该支持区延伸设置。6.根据权利要求4所述的衬底支持装置，其中该衬底支持装置包含有两个侧向支持单元，且所述侧向支持单元设在该支持区的两侧，且与所述衬底支持单元不同侧，所述衬底支持单元与所述侧向支持单元同时支持该衬底。7.根据权利要求5所述的衬底支持装置，其中该衬底支持装置包含有两个侧向支持单元，且所述侧向支持单元设在该支持区的两侧，且与所述衬底支持单元不同侧，所述衬底支持单元与所述侧向支持单元同时支持该衬底。8.一种机台装置，其包含有衬底支持装置及平台承载单元，并可在该衬底支持装置与该平台承载单元之间移动或承载衬底，其主要特征在于: 该衬底支持装置，其使用如权利要求1至7中任一项所述的衬底支持装置； 该平台承载单元，其具有对应该第一延伸元件数量的凹部，该第一延伸元件可对应容置该凹部内。
【文档编号】H01L21/67GK106033739SQ201510120844
【公开日】2016年10月19日
【申请日】2015年3月19日
【发明人】李自强
【申请人】南京瀚宇彩欣科技有限责任公司, 瀚宇彩晶股份有限公司