用于二极管的清洗架的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种用于二极管的清洗架，属于二极管清洗技术领域。
【背景技术】
[0002]半导体二极管生产制造过程中，清洗是最重要的环节之一，尤其是清洗过程中的超声波清洗工艺，是直接关乎二极管综合电性能的主要因素，如何对二极管进行有效、快速的清洗，是长期困扰二极管制造厂商的重要问题。二极管的清洗清洁度直接影响产品的质量的稳定可靠性。
【发明内容】
[0003]本实用新型针对现有技术存在的不足和缺陷，提供一种用于二极管的清洗架。
[0004]为实现上述目的，本实用新型所采用的技术方案是:一种用于二极管的清洗架，包括架体和多个用于盛放酸洗盘的托盘，所述托盘由上至下依次倾斜固定在架体上，所述的托盘呈“门”字形，其由一平面板折弯而成，“门”字形托盘两侧下端设有向外的翻边，翻边外侧设有向上设置的竖板，所述“门”字形托盘的侧边、翻边和竖板形成滑槽。
[0005]所述的托盘之间的距离相等，两个托盘之间的距离大于酸洗盘的高度，两者的高度差为 lcm~l.2cm。
[0006]所述的托盘与水平面之间的夹角为15° ~35°。
[0007]所述的托盘采用不锈钢制成。
[0008]所述的架体由中空的圆管焊接形成的矩形上、下框架和连接上、下框架的立杆组成，所述托盘由上至下依次固定在立杆上。
[0009]所述的托盘的数量为6个。
[0010]本实用新型的有益效果是:
[0011]本实用新型的托盘防止二极管从酸洗盘中脱落，托盘的倾斜设计方便酸洗盘的取放，酸洗盘倾斜放置，元器件倾斜放置，防止二极管脱落，并且清洗更干净，清洗效果好，提高产品质量，结构简单，设计合理。
【附图说明】
[0012]图1是本实用新型用于二极管的清洗架的主视结构示意图；
[0013]图2是本实用新型用于二极管的清洗架的侧视结构示意图；
[0014]图3是本实用新型用于二极管的清洗架的托盘的结构结构示意图；
[0015]图4是本实用新型用于二极管的清洗架的使用状态示意图。
[0016]图中标号代表的意义为:1、上框架，2、立杆，3、托盘，4、下框架，5、滑槽，6、二极管，7、酸洗盘，8、支腿。
【具体实施方式】
[0017]下面结合附图及【具体实施方式】对本实用新型作进一步详细描述:
[0018]实施例1:参见图1、2和3，一种用于二极管的清洗架，包括架体和多个用于盛放酸洗盘7的托盘3，所述托盘3由上至下依次倾斜固定在架体上，所述的托盘3呈“门”字形，其由一平面板折弯而成，“门”字形托盘两侧下端设有向外的翻边，翻边外侧设有向上设置的竖板，所述“门”字形托盘的侧边、翻边和竖板形成滑槽5。
[0019]所述的托盘之间的距离相等，两个托盘3之间的距离大于酸洗盘7的高度，两者的高度差为lcm~l.2cm。
[0020]所述的托盘3与水平面之间的夹角为15° ~35°，根据需要选取合适的角度，比如15。、25。、30。或 35。。
[0021]所述的托盘3采用不锈钢制成。
[0022]所述的架体由中空的圆管焊接形成的矩形上、下框架1、4和连接上、下框架1、4的立杆2组成，所述托盘3由上至下依次固定在立杆2上。本实用新型的酸洗盘7有酸洗盘体和支腿组成，酸洗盘体上开设多个用于插装二极管的插孔。
[0023]本实用新型的使用方法:参见图4，首先，将需要清洗的二极管插入酸洗盘的插孔中；然后，将插满二极管的酸洗盘放入本实用新型清洗架的托盘3中，具体是，将酸洗盘的支腿8放入滑槽，推动酸洗盘进入托盘；最后，将装满酸洗盘的清洗架放入超声波清洗机中进行酸洗。本实用新型的每个托盘均倾斜一定角度设置在清洗架上，且每个托盘之间的距离相同，在超声波的作用下，没个托盘上的材料均能悉数从酸洗盘的插孔内拖车，并呈一定角度倾斜，进而使材料和清洗盘的盘面及插孔内残存的杂质得到良好的清楚，从而提高清洗的二极管的清洁度，保证产品质量。
【主权项】
1.一种用于二极管的清洗架，包括架体和多个用于盛放酸洗盘的托盘，其特征在于:所述托盘由上至下依次倾斜固定在架体上，所述的托盘呈“门”字形，其由一平面板折弯而成，“门”字形托盘两侧下端设有向外的翻边，翻边外侧设有向上设置的竖板，所述“门”字形托盘的侧边、翻边和竖板形成滑槽。
2.根据权利要求1所述的二极管的清洗架，其特征在于:所述的托盘之间的距离相等，两个托盘之间的距离大于酸洗盘的高度，两者的高度差为lcm~l.2cm。
3.根据权利要求1或2所述的二极管的清洗架，其特征在于:所述的托盘与水平面之间的夹角为15° ~35°。
4.根据权利要求1所述的用于二极管的清洗架，其特征在于:所述的托盘采用不锈钢制成。
5.根据权利要求1所述的用于二极管的清洗架，其特征在于:所述的架体由中空的圆管焊接形成的矩形上、下框架和连接上、下框架的立杆组成，所述托盘由上至下依次固定在立杆上。
6.根据权利要求1、4或5所述的用于二极管的清洗架，其特征在于:所述的托盘的数量为6个。
【专利摘要】本实用新型涉及一种用于二极管的清洗架，属于二极管清洗技术领域，它包括架体和多个用于盛放酸洗盘的托盘，所述托盘由上至下依次倾斜固定在架体上，所述的托盘呈“冂”字形，其由一平面板折弯而成，“冂”字形托盘两侧下端设有向外的翻边，翻边外侧设有向上设置的竖板，所述“冂”字形托盘的侧边、翻边和竖板形成滑槽。本实用新型的托盘防止二极管从酸洗盘中脱落，托盘的倾斜设计方便酸洗盘的取放，酸洗盘倾斜放置，元器件倾斜放置，防止二极管脱落，并且清洗更干净，清洗效果好，提高产品质量。
【IPC分类】H01L21-673
【公开号】CN204315543
【申请号】CN201420822729
【发明人】于林, 杨宏民
【申请人】台冠电子（新乡）半导体工业有限公司
【公开日】2015年5月6日
【申请日】2014年12月23日