一种等离子体刻蚀机的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种干法刻蚀装置，具体涉及一种等离子体刻蚀机。
【背景技术】
[0002]目前，等离子刻蚀技术作为干法刻蚀中最常见的形式之一，因其具有良好的各向异性以及工艺可控性被广泛用于集成电路、半导体照明、微机电系统、先进封装、光波导等领域。
[0003]等离子体刻蚀是采用高频辉光放电反应，使反应气体激活成活性粒子，如原子或游离基，这些活性粒子扩散到需刻蚀的部位，在那里与被刻蚀材料进行反应，形成挥发性反应物而被去除，从而实现刻蚀的目的。
[0004]现有技术中，等离子体刻蚀机一般由反应室、送气单元、抽气单元、电气自动控制单元、高频电源、匹配器以及主机柜等组成。反应室是等离子刻蚀机的核心，内部设置电感线圈，电感线圈利用线圈支架支撑，高频辉光放电反应过程采用电感线圈产生辉光放电，并在电感线圈内侧放置石英坩祸作为反应场所。
[0005]现有等离子体刻蚀机中，线圈支架内侧壁设置线圈槽，电感线圈沿线圈槽缠绕在线圈支架上，线圈槽起到固定电感线圈的作用。由于电感线圈固定在线圈支架内侧，缺乏定位，在工作时，反应室内外的温度会升高，电感线圈会产生高温变形，触碰坩祸导致其烧穿，极大的降低了坩祸的使用寿命，还会造成工件表面刻蚀不均匀，影响刻蚀效果。
[0006]因此，开发一种新的用于等离子体刻蚀机线圈支架，以固定电感线圈，在工作时，提供均匀的电场和气体分布，具有积极的现实意义。
【发明内容】
[0007]本实用新型的发明目的是提供一种等离子体刻蚀机。
[0008]为达到上述发明目的，本实用新型采用的技术方案是:一种等离子体刻蚀机，包括线圈支架和电感线圈，所述线圈支架包括上固定环、下固定环、设于上固定环与下固定环之间的至少3根支撑杆；所述支撑杆的外侧壁上设有线圈槽，使电感线圈沿着线圈槽螺旋缠绕于支架之上；所述支撑杆的外侧还设有配合的盖板，使电感线圈夹持于支撑杆和盖板之间。
[0009]上文中，上固定环、下固定环与支撑杆构成一固定的柱形线圈架；支撑杆上设置凹槽作为线圈槽，感应线沿着线圈槽缠绕在支架上形成螺旋形电感线圈；支撑杆最接近电感线圈的一面为内侧，相对于内侧的一面为外侧；盖板设置于支撑杆外侧，防止电感线圈变形。
[0010]所述线圈槽可以是圆弧槽结构，也可以是长方体槽等常规结构。
[0011]上述技术方案中，所述支撑杆的数量为3?8根，且支撑杆均匀分布在上固定环与下固定环之间。优选的，所述支撑杆的数量为6根。
[0012]上述技术方案中，每根支撑杆上设有8?10个线圈槽。电感线圈缠绕的圈数为8?9圈。
[0013]上述技术方案中，所述线圈槽的宽度为6?6.5 mm，深度为7?9 mm。感应线可以顺利穿过线槽，并且被线槽固定。优选的，所述线圈槽的宽度为6.1 mm，深度为8 mm。
[0014]上述技术方案中，所述上固定环与下固定环为圆环形结构。
[0015]上述技术方案中，所述盖板为长方体形结构；其通过螺丝固定连接于支撑杆上。在工作时，线圈受热变形，在盖板的保护下，位移极小，保证电场均匀，而且不会触碰坩祸。
[0016]上述技术方案中，所述上固定环与下固定环均为环氧树脂环。所述支撑杆的材质为特氟龙。
[0017]上述技术方案中，所述线圈支架内设有坩祸，电感线圈与坩祸的间隙为5?7 mm。
[0018]由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点:
[0019]1、本实用新型在等离子体刻蚀机的线圈支架外侧壁设置线圈槽，通过该线圈槽来固定电感线圈，从而避免了现有线圈在工作时变形触碰坩祸导致其损坏的缺陷，有利于延长坩祸使用寿命；同时在线圈支架外侧穿线更为方便，有利于设备生产、维护；
[0020]2、本实用新型通过设置盖板进一步稳定电感线圈；在工作时，线圈受热变形，在盖板的保护下，位移极小，保证电场均匀，有利于刻蚀效果的稳定；同时使得线圈不易变形，减少电感线圈的更换频次；
[0021]3、本实用新型的等离子体刻蚀机用线圈支架结构简单，位于反应室内，保证反应过程中电场、气体的稳定，减少电感线圈的更换频次，延长坩祸使用寿命，提高整体设备的稳定性，保证刻蚀效果，适合工业化应用。
【附图说明】
[0022]图1为本实用新型实施例一中线圈支架的结构示意图。
[0023]图2为本实用新型实施例一中带有电感线圈的线圈支架的结构示意图。
[0024]其中:1、上固定环；2、下固定环；3、支撑杆；4、盖板；5、线圈槽；6、螺丝；7、电感线圈。
【具体实施方式】
[0025]下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述:
[0026]实施例一
[0027]参见附图1所示，一种等离子体刻蚀机用线圈支架，包括上固定环1、下固定环2、设于上固定环与下固定环之间的支撑杆3 ;固定环为圆环形结构；6根支撑杆均匀分布在上固定环与下固定环之间；支撑杆3的外侧设有线圈槽5 ;盖板4通过螺丝6安装在支撑杆3的外侧。为了显示线圈槽的结构，附图只体现了 I个盖板。
[0028]本实施例中，每根支撑杆上设有9个线圈槽；线圈槽为圆弧形结构，线圈槽的宽度为6.1mm，深度为8mm ;盖板为269X 10X20mm的长方体；上固定环与下固定环的材质为环氧树脂；支撑杆的材质为特氟龙。
[0029]上固定环、下固定环与支撑杆构成一固定的柱形线圈架，感应线沿着线圈槽缠绕在支架上形成螺旋形电感线圈7，盖板设置于支撑杆外侧，防止电感线圈变形，参见附图2所示。
[0030]实际工作时，用以上新型线圈支架以及电感线圈代替现有线圈支架与电感线圈，形成新的等离子体刻蚀机；坩祸置于电感线圈内侧，电感线圈与坩祸的间隙为5 _，工件置于坩祸内，通电即可进行等离子刻蚀。在刻蚀过程中，反应室内外的温度会升高，电感线圈会产生高温变形，本实用新型的线圈支架不仅起到固定作用，还保证线圈不易变形，减少电感线圈的更换频次，延长石英坩祸的使用寿命，提高设备的稳定性；从而有效提高了刻蚀效果ο
【主权项】
1.一种等离子体刻蚀机，包括线圈支架和电感线圈，其特征在于:所述线圈支架包括上固定环(1)、下固定环(2)、设于上固定环(I)与下固定环(2)之间的至少3根支撑杆(3); 所述支撑杆(3)的外侧壁上设有线圈槽(5)，使电感线圈沿着线圈槽螺旋缠绕于支架之上； 所述支撑杆(3)的外侧还设有配合的盖板(4)，使电感线圈夹持于支撑杆和盖板之间。
2.根据权利要求1所述的等离子体刻蚀机，其特征在于:所述支撑杆的数量为3?8根，且支撑杆均匀分布在上固定环与下固定环之间。
3.根据权利要求2所述的等离子体刻蚀机，其特征在于:所述支撑杆的数量为6根。
4.根据权利要求1所述的等离子体刻蚀机，其特征在于:每根支撑杆(3)上设有8?10个线圈槽。
5.根据权利要求1所述的等离子体刻蚀机，其特征在于:所述线圈槽的宽度为6?6.5_，深度为7~9 mm。
6.根据权利要求1所述的等离子体刻蚀机，其特征在于:所述上固定环与下固定环为圆环形结构。
7.根据权利要求1所述的等离子体刻蚀机，其特征在于:所述盖板(4)通过螺丝(6)固定连接于支撑杆上。
8.根据权利要求1所述的等离子体刻蚀机，其特征在于:所述上固定环与下固定环均为环氧树脂环。
9.根据权利要求1所述的等离子体刻蚀机，其特征在于:所述线圈支架内设有坩祸，电感线圈与i甘祸的间隙为5?7 mm。
【专利摘要】本实用新型公开了一种等离子体刻蚀机，包括线圈支架和电感线圈，所述线圈支架包括上固定环、下固定环、设于上固定环与下固定环之间的至少3根支撑杆；所述支撑杆的外侧壁上设有线圈槽，使电感线圈沿着线圈槽螺旋缠绕于支架之上；所述支撑杆的外侧还设有配合的盖板，使电感线圈夹持于支撑杆和盖板之间。本实用新型的线圈支架不仅起到固定作用，还保证线圈不易变形，减少电感线圈的更换频次，延长石英坩埚的使用寿命，提高设备的稳定性；从而有效提高了刻蚀效果。
【IPC分类】H01J37-32
【公开号】CN204391038
【申请号】CN201520127847
【发明人】缪国芳, 王志宝, 谢贤清
【申请人】苏州阿特斯阳光电力科技有限公司, 盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司
【公开日】2015年6月10日
【申请日】2015年3月5日