一种静端带有屏蔽罩的真空开关管的制作方法

文档序号:8807247阅读:331来源:国知局
一种静端带有屏蔽罩的真空开关管的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种开关管,属于高压电气设备领域,具体涉及一种静端带有屏蔽罩的真空开关管。
【背景技术】
[0002]真空开关管作为电路开断器件,应用广泛。目前,现有技术中的真空开关管,结构复杂,绝缘性差,工作不稳定,并且在开关断开时,触头的喷贱物容易污染瓷筒内壁。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型主要是解决现有技术所存在的上述技术问题。提供了一种带有屏蔽罩的真空开关。
[0004]本实用新型的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的:
[0005]一种静端带有屏蔽罩的真空开关管,包括:两端分别设置有动管芯盖和静端盖的瓷筒,在瓷筒内通过触头相互连接的动管芯和静杆,所述动管芯和静杆不相接触的两端分别穿过所述动管芯盖和静端盖,所述瓷筒内还有一个位于所述触头外部的屏蔽罩,所述屏蔽罩的外壁上设置有气体吸附剂。
[0006]优化的,上述的一种静端带有屏蔽罩的真空开关管,所述静端盖和所述瓷筒相接的部位设置有封接环。
[0007]优化的,上述的一种静端带有屏蔽罩的真空开关管,所述动管芯盖上固定有波纹管,该波纹管的另一端固定于所述动管芯上。
[0008]优化的,上述的一种静端带有屏蔽罩的真空开关管,所述屏蔽罩的一侧焊接于所述静端盖上。
[0009]因此,本实用新型具有如下优点:1.设计合理,结构简单且完全实用;2.绝缘性好,工作稳定。
【附图说明】
[0010]图1为实用新型结构示意图。
【具体实施方式】
[0011]下面通过实施例,并结合附图,对本实用新型的技术方案作进一步具体的说明。图中瓷筒1、动管芯盖2、静端盖3、触头4、动管芯5、静杆6、屏蔽罩7、气体吸附剂8、封接环9、波纹管10。
[0012]实施例:
[0013]如图1所示,一种静端带有屏蔽罩的真空开关管,包括:两端分别设置有动管芯盖2和静端盖3的瓷筒1,在瓷筒I内通过触头4相互连接的动管芯5和静杆6,动管芯5和静杆6不相接触的两端分别穿过动管芯封口 2和静端盖3,瓷筒I内还有一个位于触头4外部的屏蔽罩7,屏蔽罩7的外壁上设置有气体吸附剂8,该气体吸附剂可以用于吸收空气中的水份,保持管内干燥。屏蔽罩7可以防止开关分断时的火花灼伤波纹管10。
[0014]静端盖3和瓷筒I相接的部位设置有封接环9,屏蔽罩7的一侧焊接于静端盖3上。动管芯盖2上固定有波纹管10,该波纹管10的另一端固定于所述动管芯5上。
[0015]本文中所描述的具体实施例仅仅是对本实用新型精神作举例说明。本实用新型所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代,但并不会偏离本实用新型的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。
[0016]尽管本文较多地使用了瓷筒1、动管芯盖2、静端盖3、触头4、动管芯5、静杆6、屏蔽罩7、气体吸附剂8、封接环9、波纹管10等术语,但并不排除使用其它术语的可能性。使用这些术语仅仅是为了更方便地描述和解释本实用新型的本质;把它们解释成任何一种附加的限制都是与本实用新型精神相违背的。
【主权项】
1.一种静端带有屏蔽罩的真空开关管,其特征在于,包括:两端分别设置有动管芯盖(2)和静端盖(3)的瓷筒(1),在瓷筒(I)内通过触头(4)相互连接的动管芯(5)和静杆(6),所述动管芯(5)和静杆(6)不相接触的两端分别穿过所述动管芯盖(2)和静端盖(3),所述瓷筒(I)内还有一个位于所述触头(4)外部的屏蔽罩(7),所述屏蔽罩(7)的外壁上设置有气体吸附剂⑶。
2.根据权利要求1所述的一种静端带有屏蔽罩的真空开关管,其特征在于,所述静端盖(3)和所述瓷筒(I)相接的部位设置有封接环(9)。
3.根据权利要求1所述的一种静端带有屏蔽罩的真空开关管,其特征在于,所述动管芯盖(2)上固定有波纹管(10),该波纹管(10)的另一端固定于所述动管芯(5)上。
4.根据权利要求1所述的一种静端带有屏蔽罩的真空开关管,其特征在于,所述屏蔽罩(7)的一侧焊接于所述静端盖(3)上。
【专利摘要】本实用新型涉及一种开关管,属于电气连接设备领域,具体涉及一种静端带有屏蔽罩的真空开关管。包括:两端分别设置有动管芯盖和静端盖的瓷筒,在瓷筒内通过触头相互连接的动管芯和静杆,所述动管芯和静杆不相接触的两端分别穿过所述动管芯盖和静端盖,所述瓷筒内还有一个位于所述触头外部的屏蔽罩,所述屏蔽罩的外壁上设置有气体吸附剂。因此,本实用新型具有如下优点:1.设计合理,结构简单且完全实用;2.绝缘性好,工作稳定。
【IPC分类】H01H33-662
【公开号】CN204516676
【申请号】CN201520285914
【发明人】胡闻问, 张雍, 郑宗仁
【申请人】武汉飞特电气有限公司
【公开日】2015年7月29日
【申请日】2015年5月5日
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