一种继电器闭合线圈产生运动阻力的系统的制作方法

文档序号:8807259阅读:373来源:国知局
一种继电器闭合线圈产生运动阻力的系统的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及电子技术领域,尤其是一种继电器闭合线圈产生运动阻力的系统。
【背景技术】
[0002]在电子技术领域中,通过给磁场中的线圈通电来控制线圈在磁场中运动是一种常见的控制方式,在停止对线圈通电后,线圈会因为机器的运动而摆动,或者瞬间停止断电后因为惯性而产生的剧烈运动,而这些运动可能会给机器带来一些不好的影响。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型旨在提供一种结构简单的继电器闭合线圈产生运动阻力的系统。
[0004]为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种继电器闭合线圈产生运动阻力的系统,包括继电器、线圈、继电器控制电路和固定磁场,所述继电器的次级与线圈两端连接,该线圈设于固定磁场中;继电器与继电器控制电路相接。
[0005]作为本实用新型的进一步方案:所述线圈的平面与固定磁场的磁场线相切。
[0006]作为本实用新型的进一步方案:所述继电器闭合后,线圈构成一个闭合线圈。
[0007]与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该继电器闭合线圈产生运动阻力的系统,通过继电器使线圈闭合,线圈在做切割磁感应线运动时会产生与原磁场作用力相反的阻力,阻碍线圈运动;从而有效避免在停止对线圈通电后,线圈会因为产品的运动而摆动,或者瞬间停止断电后因为惯性而产生的剧烈运动;本实用新型结构简单、设计巧妙,生产成本低,值得大力推广。
【附图说明】
[0008]图1为本实用新型的连接示意图。
【具体实施方式】
[0009]下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
[0010]请参阅图1,本实用新型实施例中,一种继电器闭合线圈产生运动阻力的系统,包括继电器1、线圈2、继电器控制电路3和固定磁场4,所述继电器I的次级与线圈2两端连接,该线圈2设于固定磁场4中,线圈2平面与磁场线相切;继电器I与继电器控制电路3相接;当停止对线圈2的控制时,闭合继电器1,使线圈2闭合构成一个闭合线圈,此时线圈2在做切割磁感应线运动时会产生与原磁场作用力相反的阻力,阻碍线圈2运动;从而有效避免在停止对线圈2通电后,线圈2会因为产品的运动而摆动,或者瞬间停止断电后因为惯性而产生的剧烈运动。
[0011]对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
[0012]此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
【主权项】
1.一种继电器闭合线圈产生运动阻力的系统,包括继电器(1)、线圈(2)、继电器控制电路(3)和固定磁场(4),其特征在于,所述继电器(I)的次级与线圈(2)两端连接,该线圈(2)设于固定磁场(4)中;继电器(I)与继电器控制电路(3)相接。
2.根据权利要求1所述的一种继电器闭合线圈产生运动阻力的系统,其特征在于,所述线圈(2)的平面与固定磁场(4)的磁场线相切。
3.根据权利要求1所述的一种继电器闭合线圈产生运动阻力的系统,其特征在于,所述继电器(I)闭合后,线圈(2)构成一个闭合线圈。
【专利摘要】一种继电器闭合线圈产生运动阻力的系统,包括继电器、线圈、继电器控制电路和固定磁场,所述继电器的次级与线圈两端连接,该线圈设于固定磁场中,线圈平面与磁场线相切;继电器与继电器控制电路相接;该继电器闭合线圈产生运动阻力的系统,通过继电器使线圈闭合,线圈在做切割磁感应线运动时会产生与原磁场作用力相反的阻力,阻碍线圈运动;从而有效避免在停止对线圈通电后,线圈会因为产品的运动而摆动,或者瞬间停止断电后因为惯性而产生的剧烈运动;本实用新型结构简单、设计巧妙,生产成本低,值得大力推广。
【IPC分类】H01H50-44
【公开号】CN204516688
【申请号】CN201520030757
【发明人】潘华东, 埃萨赫·布耶尔纳, 周永, 伍刚
【申请人】江苏欧莱美激光科技有限公司
【公开日】2015年7月29日
【申请日】2015年1月17日
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