小件产品等离子用旋转笼处理装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及小件产品等离子用旋转笼处理装置，包括真空舱体、电极、旋转笼和传动轴。所述传动轴的一端通过磁流体密封装置伸入真空舱体内部，传动轴的内端设置有安装法兰和旋转笼装卡系统，通过固定螺栓固定并一体化安装法兰和旋转笼装卡系统后，连接并固定旋转笼；传动轴的外端与减速机和电机联接，使电机能够带动旋转笼转动，同时随着旋转笼的转动，小件产品在旋转笼内翻滚，从而使各个样品以及样品的各个表面轮流暴露出来处在等离子的轰击之下，使得各个样品及其各表面得到充分和均匀的处理。
【专利说明】
小件产品等离子用旋转笼处理装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及一种旋转笼处理装置，特别是涉及一种对小件多表面产品进行等离子处理时使用的小件产品等离子用旋转笼处理装置。【背景技术】
[0002]等离子表面处理是一种新兴的高科技表面处理方法，通过处理可以使材料表面实现亲水、疏水等特殊功能，以便大幅度增强表面的粘合、焊接、涂镀或者是防水防腐蚀等能力。这一处理手段目前被广泛地应用于电子、芯片、航空航天、兵器、汽车等领域，而且随着科技的发展此技术的应用也越来越广泛。
[0003]现有通常的等离子表面处理技术是，在真空舱体内，导入射频或高频电源，连接到并联的、水平布置(或垂直)的一个或者数个电极板上。电极板之间有一定的间隙，可以在间隙处放入水平托盘，需要处理的样品就放置在托盘上。进行处理时，样品放入托盘并把托盘置入舱体，用真空栗把舱体内的真空度抽到0.1?0.6mbar左右，通入处理气体并接通射频电源。因为接入的射频电源一般电压在1000V至1600V之间，舱体内的电极板被接通射频电源后会击穿舱体内通入的处理气体，将气体分子电离产生等离子，电极板和舱体之间存在电位差，等离子在电位差的作用下从电极板向舱体或者接地的阴极运动，并轰击放置在托盘上的样品，从而使样品得到处理。
[0004]但是，如果使用上述传统的使用等离子设备处理小件多表面塑料、金属、或其他材料产品时，存在一些问题:一、由于是采用托盘摆放，摆放在托盘上产品至少会有一部分是与托盘接触的，不能暴露在粒子轰击之下，也就得不到处理。二、同时，由于等离子从上向下运动轰击产品，产品向上的表面的到的处理效果要优于侧面，使得产品各个表面处理效果不均匀。要想得到各表面均匀的处理就需要在完成一次处理后，取出托盘和样品，将样品逐一翻面再重新摆放在托盘上，进行再次处理。如果需要处理的表面多的话就需要多次翻面。 三、为了使样品的需要处理的表面暴露在面对电极，需要工人用手把样品逐一摆放在托盘上，并且不能有重叠，否则被遮挡的表面不能得到处理。小件样品的数量一般都非常大，处理量在每天几万乃至上百万件，如果这么大数量的样品要逐一摆放在托盘上的话，工人的工作量是非常大的，而且效率很低，同时如果摆放有重叠的时候有的样品表面就不能得到充分处理，从而在下一工序产生废品。
【发明内容】
[0005]为了解决以上问题，本实用新型采用了旋转笼技术。该装置不仅能使样品的各个表面得到均匀的处理，而且能大大地提高处理效率，增加产能、减少人工。
[0006]为了达到上述目的，本实用新型实现所采用的技术方案是:小件产品等离子用旋转笼处理装置，包括真空舱体、电极、旋转笼和传动轴。
[0007]可选地，在传统的等离子清洗机的基础上，从所述真空舱体后部通一根传动轴进入真空舱体内部，所述传动轴通过专用的磁流体密封装置深入所述真空舱体内部。
[0008]可选地，所述传动轴在真空舱体外部的一端连接电机和减速机，所述电机的输出轴连接减速机的输入轴，所述减速机的输出轴连接所述传动轴而提供旋转动力;所述传动轴在真空舱体内的一端设有安装法兰和旋转笼装卡系统，并连为一体，所述安装法兰和旋转笼装卡系统通过固定螺栓固定。
[0009]可选地，所述旋转笼设置在所述真空舱体的内部，其底部向内，卡接固定于所述旋转笼装卡系统，从而使旋转笼为悬臂结构，电机启动时，旋转就会通过减速机-传动轴-旋转笼装卡系统传递至旋转笼，并以旋转笼轴为中心旋转。[〇〇1〇] 可选地，所述旋转笼转速为0.1?lOOrpm。
[0011]可选地，所述旋转笼为圆柱形笼，笼上有通孔，孔的大小以保证产品不会泄露出来为准，优选为孔径1?500mm;待测样品装入旋转笼后，加封笼盖。
[0012]可选地，所述电极设置在所述真空舱体内部下端，固定在绝缘柱。[〇〇13]可选地，所述电极为弧形电极，与旋转笼同心，以使电极离产品更近，从而处理效果更好。
[0014]可选地，所述电极作为阳极，真空舱体作为阴极。
[0015]可选地，所述传动轴的上侧设置有真空栗接口，下侧设置有高频电源入口。
[0016]可选地，所述真空舱体的外部上端设置有处理气体接口。
[0017]进行等离子处理时，关闭真空舱门，真空舱体被抽真空至0.1-0.6mbar以达到等离子发生时所需要的真空度，启动处理气体输入，并维持真空度保持稳定。启动设定好了功率的射频电源，这时与射频电源连接的电极带电，并电离处理气体，产生等离子，等离子充满整个真空舱体包括旋转笼内部，并轰击裸露在表面的小件样品。小件产品在旋转笼内翻滚， 裸露在表面的小件产品被等离子轰击并得到处理。离子在电场的作用下会从阳极出发被加速，并向作为阴极的旋转笼和真空舱体轰击。小部分离子轰击在旋转笼体上，大部分会通过旋转笼体上的孔洞直接轰击产品，同时旋转笼内本来的气体也会被电离，产生不规则的运动并轰击样品，从而使产品得到处理。为了保证小件产品得到充分处理，旋转笼内小件产品装入量不宜超过旋转笼容积的30%，同时处理时间要足够长，以使处理充分。达到处理时间后，关闭电机和射频电源，旋转笼停止旋转。通入空气以使真空舱体内的真空与大气连通， 使真空舱体1内恢复常压。打开舱门，将旋转笼从旋转笼装卡系统上取下拿出，将处理后的小件产品倒出，完成处理。
[0018]本实用新型的有益效果是，因为旋转笼在电机和减速机的带动下旋转，装在旋转笼内的样品会不停地翻滚，使各个样品以及样品的各个表面轮流暴露出来处在等离子的轰击之下，从而使得各个样品及其各表面得到充分和均匀的处理，避免个别产品或个别表面因为得不到有效处理而产生的废品；同时省却了大量用于摆放样品的工作量，大幅提升了生产效率;装置使用的零件均可现成采购，易于实现。【附图说明】
[0019]图1是本实用新型的旋转笼处理装置的结构示意图；
[0020]图中:1、真空舱体(阴极)，2、电极(阳极)，3、旋转笼，4、笼盖，5、传动轴，6、旋转笼装卡系统，7、磁流体密封装置，8、真空栗接口，9、绝缘柱，10、高频电源入口，11、处理气体接口，12、安装法兰。【具体实施方式】[0021 ]下面结合附图对本实用新型进一步说明。[〇〇22]如图1所示，小件产品等离子用旋转笼处理装置，包括真空舱体1、电极2、旋转笼3 和传动轴5。
[0023]具体地，所述传动轴5在真空舱体1外的一端联接电机和减速机，所述电机的输出轴连接减速机的输入轴，所述减速机的输出轴连接所述传动轴5,所述传动轴5在真空舱体1 内部一端设有安装法兰12和旋转笼装卡系统6,旋转笼装卡系统6通过固定螺栓被固定在安装法兰上12,并连为一体。
[0024]所述旋转笼3设置在所述真空舱体1的内部，其底部向内，卡接固定于所述旋转笼装卡系统6,从而使旋转笼3为悬臂结构，并以旋转笼3轴为中心旋转，电机启动时，旋转就会通过减速机-传动轴5-旋转笼装卡系统6传递至旋转笼3;所述旋转笼3可取下。[〇〇25] 所述旋转笼3转速为0.1?lOOrpm。
[0026]所述所述旋转笼3为圆柱形笼，笼上有通孔，孔的大小以保证产品不会泄露出来为准，优选为孔径1?500mm;待测样品装入旋转笼后，加封笼盖4。
[0027]所述电极2设置在所述真空舱体1内部下端，固定在绝缘柱9。
[0028]所述电极2为弧形电极，与旋转笼3同心，以使电极2离产品更近，从而处理效果更好。
[0029]所述电极2作为阳极，真空舱体1作为阴极。
[0030]所述传动轴5的上侧设置有真空栗接口 8,下侧设置有高频电源入口 10。[〇〇31]所述真空舱体1的外部上端设置有处理气体接口 11。[0〇32]在进行等离子处理时，关闭真空舱门，真空舱体被抽真空至0.1?0.6mbar以达到等离子发生时所需要的真空度，启动处理气体输入，并维持真空度保持稳定。启动设定好了功率的射频电源，这时与射频电源连接的电极带电，并电离处理气体，产生等离子，等离子充满整个真空舱体1包括旋转笼3内部，并轰击裸露在表面的小件样品。启动电机，旋转笼3 开始旋转，小件产品在旋转笼内翻滚，裸露在表面的小件产品被等离子轰击并得到处理。小部分离子轰击在旋转笼3体上，大部分会通过旋转笼3体上的孔洞直接轰击产品，同时旋转笼3内本来的气体也会被电离，产生不规则的运动并轰击样品，从而使产品得到处理。为了保证小件产品得到充分处理，旋转笼3内小件产品装入量不宜超过旋转笼3容积的30%，同时处理时间要足够长，以使处理充分。达到处理时间后，关闭电机和射频电源，旋转笼3停止旋转。通入空气以使真空舱体1内的真空与大气连通，使真空舱体1内恢复常压。打开舱门， 将旋转笼3从旋转笼装卡系统6上取下拿出，将处理后的小件产品倒出，完成处理。
[0033]本实用新型的有益效果是，因为旋转笼在电机和减速机的带动下旋转，装在旋转笼内的样品会不停地翻滚，使各个样品以及样品的各个表面轮流暴露出来处在等离子的轰击之下，从而使得各个样品及其各表面得到充分和均匀的处理，避免个别产品或个别表面因为得不到有效处理而产生的废品；同时省却了大量用于摆放样品的工作量，大幅提升了生产效率;装置使用的零件均可现成采购，易于实现。
[0034]以上结合附图为本实用新型的实施方式进行了详细说明，但本实用新型不限于上述实施方式，凡依据本实用新型申请专利范围所做的均等变化与修饰，皆应属本实用新型的涵盖范围。
【主权项】
1.一种小件产品等离子用旋转笼处理装置，其特征是:所述旋转笼处理装置包括:真空 舱体(1)、电极(2)、旋转笼(3)和传动轴(5);所述传动轴(5) —端通过专用的磁流体密封装 置(7)伸入真空舱体(1)内，伸入真空舱体(1)内部的一端设置有安装法兰(12)和旋转笼装 卡系统(6);所述旋转笼(3)设置在所述真空舱体(1)内部，其底部向内，并卡接固定于所述 旋转笼装卡系统(6)，使旋转笼(3)为悬臂结构，并以旋转笼(3)轴为中心旋转。2.根据权利要求1所述的所述旋转笼处理装置，其特征是，所述旋转笼(3)为圆柱形笼， 笼上有通孔，孔径为1?500mm;待测样品装入旋转笼(3)后，加封笼盖(4)。3.根据权利要求1或2所述的旋转笼处理装置，其特征是，所述旋转笼(3)转速为0.1? 100rpm〇4.根据权利要求1所述的旋转笼处理装置，其特征是，所述传动轴(5)在真空舱体(1)夕卜 部的一端连接电机和减速机，所述电机的输出轴连接减速机的输入轴，所述减速机的输出 轴连接所述传动轴(5)而提供旋转动力。5.根据权利要求1所述的旋转笼处理装置，其特征是，所述电极(2)设置在所述真空舱 体(1)内部下端，固定在绝缘柱(9)。6.根据权利要求1或5所述的旋转笼处理装置，其特征是，所述电极(2)为弧形电极，与 旋转笼(3)同心。7.根据权利要求1或5所述的旋转笼处理装置，其特征是，所述电极(2)作为阳极，真空 舱体(1)作为阴极。8.根据权利要求1或4所述的旋转笼处理装置，其特征是，所述传动轴(5)的上侧设置有 真空栗接口(8)，下侧设置有高频电源入口(10)。9.根据权利要求1的所述旋转笼处理装置，其特征是，所述真空舱体(1)的外部上端设 置有处理气体接口(11)。
【文档编号】H05H1/24GK205584604SQ201620341417
【公开日】2016年9月14日
【申请日】2016年4月21日
【发明人】郑亮
【申请人】郑亮