专利名称：电磁波干扰膜制造方法和利用此方法的显示器模块以及其制造方法
技术领域：
本发明是有关电磁波干扰膜的发明，特别是，有关把制造工程简单化，可以节约所需材料的电磁波干扰膜的制造方法和利用此方法的显示器模块以及其制造方法的发明。
背景技术：
一般来说，显示画像的显示设备的整面具有旨在切断向外部放射电磁波的电磁波干扰膜。这一电磁波干扰膜不仅切断电磁波，还具有旨在确保显示设备要求的可视光透射率的网丝形状的导电模式。但现有网丝形状的导电模式存在这样的问题，即，使可视光透射率低下的同时，引发网纹干扰现象，使画质低下。下面，举个例一利用气体放电显示画面的等离子显示器，将详细说明现有电磁波干扰膜的疑点。
等离子显示器根据数码视频数据，调节各像素的气体放电时间，并以此显示画像。在这样的等离子显示器中，最具有代表性的是如图1所示那样，具有三电极，并以交流电压驱动的交流型等离子显示器。
图1是表示通常交流型等离子显示器结构的斜视图，特别是，表示相当于一个子像素(Sub-Pixel)的放电单元结构。
图1所示的放电单元具有在上部基板10上依次形成的支撑电极双12A、12B和具有上部电介质层14和保护膜16的上板15、依次形成在下部基板18上的数据电极20、下部电介质层22、具有隔墙24和荧光体层26的下板25。
上部基板10和下部基板18被隔墙24平衡偏离。各个支撑电极双12A、12B以具有相对较大的宽度，并旨在透射可视光线的透明电极和具有相对较小的宽度，并旨在补偿透明电极电阻成份的金属电极组成。这样的支撑电极双12A、12B以扫描电极12A和支撑电极12B组成。扫描电极12A主要提供决定数据提供时间的扫描信号和旨在维持放电的支撑信号；支撑电极12B主要提供为维持放电的支撑信号。在上部电介质层14和下部电介质层22上，积累气体放电时产生的电荷。保护膜16防止等离子溅射导致的上部电介质层14的受损，不仅延长等离子显示器使用时间，而且还提高2次电子的放出效果。作为保护膜16，通常使用氧化镁(MgO)。这样的电介质层14、22和保护膜16能够降低从外部输入的放电电压。数据电极20与上述支撑电极双12A、12B交叉形成。这一数据电极20提供旨在选择将要显示单元的数据信号。隔墙24与上下部基板10、18一起，准备放电空间的同时，与数据电极20并列形成，防止气体放电产生的紫外线露出相临单元。荧光体层26涂抹在下部电介质层22和隔墙24的表面，产生红色、绿色、蓝色中的一种颜色可视光线。放电空间填充旨在气体放电的He、Ne、Ar、Xe、Kr等不活性气体和以这些气体组合的放电气体或因放电，可以产生紫外线的受澈二聚物(Excimer)气体。
这一结构的放电单元被数据电极20和扫描电极12A之间的对向放电选择后，被支撑电极双12A、12B之间的表面放电维持放电。于是，放电单元根据维持放电时产生的紫外线，荧光体26发光，以此可视光线向单元外部放射。这时，放电单元根据视频数据，调节单元放电的维持时间，即维持放电次数，体现灰度级(Gray Scale Level)。
图2大概表示包括图1所示的等离子显示器30在内的等离子显示器套的分解斜视图。
图2所示的等离子显示器套具有盒60、盒60内的印刷电路板50、等离子显示器30、玻璃型整面过滤器40、包住玻璃型整面过滤器40的正面外围部份，并能与盒60合上的罩70。
等离子显示器30是如图1所示那样，粘在上板15和下板25形成。
位于等离子显示器30背面的印刷电路板50具有形成在等离子显示器30的支撑电极双12A、12B和旨在驱动地址电极20的多数驱动和控制线路。这样的印刷电路板50和等离子显示器30之间设有散放等离子显示器30和印刷电路板50产生的热的隔热板(没有图示)。
玻璃型整面过滤器40运行切断等离子显示器30向正面产生的电磁波、防止外部光线的反射、切断近红外线、色纠正等功能。为此，如图3所示那样，玻璃型整面过滤器40具有粘在玻璃基板42整面的第1抗反射膜44、依次粘在玻璃基板42背面的电磁波干扰膜46、近红外线干扰膜48、色纠正膜52、第2抗反射膜54。
玻璃基板42利用强化玻璃，支持玻璃型整面过滤器40，并保护整面过滤器40和等离子显示器，使其免受外部冲击受损。第1和第2抗反射(Antireflection)膜44、54防止从外部射入的光重新反射到外部，提高对比度。电磁波干扰膜46从等离子显示器30吸收产生的电磁波，切断其电磁波向外部放射。近红外线干扰膜48吸收等离子显示器30产生的约800～1000nm波长的近红外线，切断向外部放射，以此使遥控器等发出的控制用红外线(约947nm)不受上述近红外线的干扰，正常输入到等离子显示器套的红外线接收部。色纠正膜52包括色调染料(Color Dye)，调整色泽，以此提高色纯度。这样的多数薄膜44、46、48、52、54通过胶合剂或粘合剂，粘在玻璃基板42。
盒60保护可以与印刷电路板50、玻璃型整面过滤器40一起装入的等离子显示器30，使其免受外部冲击的同时，切断等离子显示器30的侧面和背面放射的电磁波。另外，使玻璃型整面过滤器40偏离等离子显示器30，盒60通过其背面支持的支撑副材料(没有图示)，与玻璃型整面过滤器40的电磁波干扰膜46存在电的连接。于是，盒60与玻璃型整面过滤器40的电磁波干扰膜46一起，连接地线，吸收等离子显示器30放射的电磁波放电，以此切断电磁波向外部放射。
罩70包住玻璃型整面过滤器40正面的外围部，并能与盒60合上。
这样，现有等离子显示器套使用切断电磁波的同时，旨在纠正光学特点的玻璃型整面过滤器40。但因玻璃型整面过滤器40包括相对较厚的玻璃基板，即强化玻璃42，不仅成为等离子显示器套的厚度和重量增加的主要原因，还具有制造成本较高的短处。
于是，如图4所示那样，提出了消除玻璃基板的胶片型整面过滤器。图4所示的胶片型整面过滤器60具有等离子显示器30的上板15依次粘上的色纠正膜68、近红外线切断膜66、电磁波干扰膜64、抗反射膜62。
抗反射膜62防止从外部射入的光线再次反射到外部。电磁波干扰膜64吸收等离子显示器30产生的电磁波放电，以此切断电磁波向外部放射。近红外线干扰膜66吸收等离子显示器30产生的近红外线，切断向外部的放射。色纠正膜68包括色调染料，调整色泽，以此提高色纯度。这样的多数薄膜62、64、66、68通过胶合剂或粘合剂，粘在等离子显示器30的上板15。
这样，图3所示的玻璃型整面过滤器40和胶片型整面过滤器60具有为切断等离子显示器30产生的电磁波的电磁波干扰膜46、64。电磁波干扰膜46、64为了确保透射率，如图5和图6所示那样，具有导电性网丝74、支持导电性网丝74的帧72、形成导电性网丝74和帧72的片基76。
就图5和图6，导电性网丝74以利用银、铜等金属的照相平版印刷术(Photolithography)工程和蚀刻工程进行制定模式而形成。详细说明的话，片基上形成金属薄膜，并把光致抗蚀剂(Photo Resist)涂抹在金属薄膜上。接着，利用掩膜(Mask)，对光致抗蚀剂进行制定模式，以此形成帧和网丝形状的光致抗蚀剂模式。把这样的光致抗蚀剂模式利用掩膜，对金属薄膜进行制定模式，以此如图6所示那样，帧72和导电性网丝74形成在片基76上。另外，以剥离工程消除帧72和导电性网丝74上残留的光致抗蚀剂模式。
如上所述，现有电磁波干扰膜制造方法包括旨在形成光致抗蚀剂模式的照相平版印刷术工程和对金属薄膜，旨在进行制定模式的蚀刻工程。于是，现有电磁波干扰膜制造方法不仅因其所需工程数量多，变得复杂，还因照相平版印刷术工程和蚀刻工程，材料损失也较多。
发明内容于是，本发明的目的在于，提供可以减少工程数和材料损失的电磁波干扰膜制造方法、利用此方法的显示器模块及其制造方法。
为了实现上述目的，根据本发明的电磁波干扰膜制造方法是包括准备片基的步骤、在上述片基上，利用丝网印刷法和喷墨法中的一个，形成导电性模式的步骤为特点。
形成上述导电性模式的步骤是包括在上述片基上，把金属浆糊(Paste)形成为所愿意模式的步骤和烧成上述形成金属浆糊的步骤为特点。
形成上述导电性模式的步骤是包括形成导电性网丝的步骤为特点。
形成上述导电性模式的步骤是追加包括形成从外围支持上述导电性网丝的帧的步骤为特点。
追加包括形成上述导电性模式之前，在上述片基上，形成透明导电膜的步骤为特点。
根据本发明一个特点的显示器模块具有显示器、形成在上述显示器的上面，并包括旨在防止上述显示器电磁波放射的导电性模式的电磁波干扰膜以及粘在上述电磁波干扰膜上的胶片型光学过滤器。
根据本发明另一个特点的显示器模块具有显示器、形成在上述显示器上面，并包括旨在防止上述显示器电磁波放射的导电性模式的电磁波干扰膜以及在上述电磁波干扰膜上，偏离地安装的玻璃型光学过滤器。
上述导电性模式具有导电性网丝为特点。
上述导电性模式追加具有从外围支持上述导电性网丝的帧为特点。
上述电磁波干扰膜追加具有上述导电性模式和上述显示器之间形成的片基和透明导电膜中的至少一个为特点。
根据本发明特点的显示器制造方法包括准备显示器的步骤、在上述显示器的上面，形成包括旨在防止上述显示器电磁波放射的导电性模式的电磁波干扰膜的步骤、在上述电磁波干扰膜上，粘上胶片型光学过滤器的步骤。
根据本发明另一个特点的显示器模块制造方法包括如下步骤准备显示器的步骤；在上述显示器上面，形成包括旨在防止上述显示器电磁波放射的导电性模式的电磁波干扰膜的步骤；在上述电磁波干扰膜上，偏离地安装玻璃型光学过滤器的步骤。
形成上述电磁波干扰膜的步骤是包括如下步骤为特点利用上述丝网印刷法和喷墨法中的一个，把金属浆糊形成在上述显示器上面的步骤；烧成上述形成的金属浆糊，形成上述导电性模式的步骤。
形成上述电磁波干扰膜的步骤是包括形成导电性网丝的步骤为特点。
形成上述电磁波干扰膜的步骤是追加包括形成从外围支持上述导电性网丝的帧的步骤为特点。
形成上述电磁波干扰膜的步骤是追加包括形成上述导电性模式之前，在上述显示器的上面，形成片基和透明导电膜中至少一个的步骤为特点。
除了上述目的以外，本发明的其它目的和特点可以通过参照附图的实施例说明，将能更清楚地理解。
如上所述，根据本发明的电磁波干扰膜制造方法是利用丝网印刷法或喷墨法，形成导电性模式，以此不仅能够使制造工程简单化，而且不包括照相平版印刷术工程和蚀刻工程，可以减少材料损失。
另外，根据本发明的显示器模块和其制造方法是利用上述电磁波干扰膜的制造方法，把电磁波干扰膜直接形成在显示器上，以此可以使制造工程简单化，也可以减少材料损失。
图1是表示现有三电极交流表面放电型等离子显示器(Plasma DisplayPanelPDP)结构的斜视图。
图2是包括图1所示的等离子显示器的等离子显示器套的分解斜视图。
图3是表示图2所示的玻璃型整面过滤器和等离子显示器的垂直结构的截面图。
图4是表示现有的粘上胶片型整面过滤器的等离子显示器垂直结构的截面图。
图5是表示图3和图4所示的电磁波干扰膜具体结构的平面图。
图6是把图5所示的电磁波干扰膜沿着A-A’线切断的截面图。
图7是步骤性地说明根据本发明实施例的电磁波干扰膜制造方法的流程图。
图8是表示根据本发明制造方法的电磁波干扰膜的截面图。
图9是步骤性地说明根据本发明另一个实施例的电磁波干扰膜制造方法的流程图。
图10是表示具有根据本发明实施例的胶片型光学过滤器的等离子显示器模块的截面图。
图11是步骤性地说明图10所示的等离子显示器模块制造方法的流程图。
图12a至图12c是步骤性地表示图11所示流程图的等离子显示器模块制造方法的截面图。
图13是表示具有根据本发明另一个实施例的玻璃型光学过滤器的等离子显示器模块的截面图。
图14是步骤性地说明图13所示的等离子显示器模块制造方法的流程图。
图15a至图15c是步骤性地表示根据图14所示流程图的等离子显示器模块制造方法的图纸。
具体实施方式下面将参照图7至图15c，对本发明的理想实施例进行详细说明。
图7是步骤性地说明根据本发明实施例的电磁波干扰膜制造方法的流程图；图8是表示根据图7所示的制造方法形成的电磁波干扰膜的截面图。
首先，在步骤10-S10，准备片基82。之后，在步骤12-S12，利用片基82上的丝网印刷法，以帧或网丝形状印刷金属浆糊。在这里，金属浆糊包括铝、铜、银、镍、金或纳米碳管的纳米粒子或粉末。另外，在步骤14-S14，烧成印刷的金属浆糊，以此如图7所示那样，形成以导电性网丝84和帧86组成的导电性模式。这时，在片基82上，有可能形成不具备帧86，仅以导电性网丝84组成的导电性模式。另外，形成上述导电性模式84、86之前，透明导电膜通过溅射之类的粘合方法，有可能追加涂抹在片基82上。
图9是步骤性地说明根据本发明另一个实施例的电磁波干扰膜制造方法的流程图。
首先，在步骤20-S20，准备片基82。之后，在步骤22-S22，以喷墨法把金属浆糊喷射在准备的片基82特定领域，以此形成帧或网丝形状的金属浆糊。在这里，金属浆糊包括铝、铜、银、镍、金或纳米碳管的纳米粒子或粉末。另外，在步骤24-S24，烧成形成的金属浆糊，以此如图7所示那样，形成以导电性网丝84和帧86组成的导电性模式。这时，在片基82上，有可能形成不具备帧86，仅以导电性网丝84组成的导电性模式。另外，形成上述导电性模式84、86之前，透明导电膜通过溅射之类的粘合方法，有可能追加涂抹在片基82上。
这样，根据本发明的电磁波干扰膜80的制造方法是利用丝网印刷法或喷墨法，在片基82上形成导电性的模式。于是，根据本发明的电磁波干扰膜制造方法因其工程数减少的同时，还不包括照相平版印刷术工程和蚀刻工程，可以减少材料损失。
这样的电磁波干扰膜80包括在玻璃型整面过滤器，设在等离子显示器或包括在胶片型整面过滤器，粘在等离子显示器。
另外，根据本发明的电磁波干扰膜也可以利用上述丝网印刷法或喷墨法，直接形成在等离子显示器的上面。下面，对上面具有直接形成的电磁波干扰膜的等离子显示器模块和其制造方法进行详细说明。
图10是表示具有根据本发明实施例的胶片型整面过滤器的等离子显示器模块的截面图。
图10所示的等离子显示器模块具有相互粘合的上板92和下板94、形成在上板92上面的具有电磁波干扰膜88的等离子显示器90、粘在等离子显示器90的电磁波干扰膜88上的胶片型光学过滤器100。
包括在等离子显示器90的上板92和下板94内部准备气体放电空间，并粘在一起，还利用气体放电，显示画像。
在上板92的上面，电磁波干扰膜88具有通过上述的丝网印刷法或喷墨法，直接形成的导电性网丝和帧或导电性网丝之类的导电性模式，切断等离子显示器90的电磁波向外放射。上述导电性模式形成之前，这样的电磁波干扰膜88有可能追加具有上板92上形成的片基或透明导电膜或片基和透明导电膜。
胶片型光学过滤器100具有旨在吸收等离子显示器90放射的近红外线的近红外线吸收剂、包括旨在调节色泽的色调染料在内的近红外线干扰膜96、粘在近红外线干扰膜96上，防止外部光线反射的抗反射膜98。具有这一构成的胶片型光学过滤器100通过胶合剂或粘合剂，与等离子显示器90的上板92上形成的电磁波干扰膜88粘在一起。
图11是步骤性地说明图10所示的等离子显示器模块制造方法的流程图；图12a至图12c是步骤性地表示其制造方法的截面图。
首先，在步骤30-S30，如图12a所示那样，准备上板92和下板94粘合的等离子显示器90。
接着，在步骤32-S32，如图12b所示那样，在等离子显示器90的上板92，通过上述的丝网印刷法或喷墨法，把金属浆糊形成为具有导电性模式的电磁波干扰膜88。这时，导电性模式只具有旨在透射可视光线和旨在切断电磁波的导电性网丝或追加具有从外围支持导电性网丝的帧。另外，上述导电性模式形成之前，电磁波干扰膜88也有可能追加具有上板92上形成的片基或透明导电膜或片基和透明导电膜。
在下一个步骤34-S34，如图12c所示那样，准备具有近红外线干扰膜96和抗反射膜98的胶片型光学过滤器90，通过胶合剂或粘合剂粘在等离子显示器90的电磁波干扰膜88。
图13是表示根据本发明另一个实施例的具有玻璃型整面过滤器的等离子显示器模块的截面图。
图13所示的等离子显示器模块具有相互粘合的上板92和下板94、形成在上板92上的具有电磁波干扰膜88的等离子显示器90、偏离地安装在等离子显示器90的玻璃型光学过滤器100。
等离子显示器90包括的上板92和下板94在内部准备气体放电空间，并相互粘合，还利用气体放电，显示画像。
在上板92的上面，磁波干扰膜88具有通过上述的丝网印刷法或喷墨法，形成的导电性网丝和帧或导电性网丝之类的导电性模式，切断等离子显示器90向外放射电磁波。上述导电性模式形成之前，这样的电磁波干扰膜88也有可能追加具有上板92上形成的片基或透明导电膜或片基和透明导电膜。
玻璃型光学过滤器110具有支持玻璃型整面过滤器110的玻璃基板106、粘在玻璃基板106的一个侧面，为吸收等离子显示器90放射的近红外线的近红外线干扰膜104、粘在近红外线干扰膜104，并包括为调节色泽的色调染料的色纠正膜102、各自粘在玻璃基板106和色纠正膜102上，防止外部光线反射的第1和第2抗反射膜108、109。具有这一构成的玻璃型光学过滤器110与形成电磁波干扰膜88的等离子显示器90隔着一定距离，设在等离子显示器套准备的单独的支持副材料(没有图示)。
图14是步骤性地说明图13所示的等离子显示器模块制造方法的流程图；图15a至图15c是步骤性地表示这一制造方法的截面图。
首先，在步骤40-S40，如图15a所示那样，准备上板92和下板94粘合的等离子显示器90。
接着，在步骤42-S42，如图15b所示那样，在等离子显示器90的上板92，通过上述的丝网印刷法或喷墨法，把金属浆糊形成为具有导电性模式的电磁波干扰膜88。这时，导电性模式只具有旨在透射可视光线和旨在切断电磁波的导电性网丝或追加具有从外围支持导电性网丝的帧。另外，上述导电性模式形成之前，电磁波干扰膜88也有可能追加具有上板92上形成的片基或透明导电膜或片基和透明导电膜。
在下一个步骤44-S44，如图15c所示那样，具有第2抗反射膜109、色纠正膜102、近红外线干扰膜104、玻璃基板106、第1抗反射膜108依次重叠结构的玻璃型光学过滤器110与形成电磁波干扰膜88的等离子显示器90隔着一定距离，设在等离子显示器套准备的单独的支持副材料(没有图示)上。
通过上述说明的内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项发明技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。因此，本项发明的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利范围来确定其技术性范围。
权利要求
1.电磁波干扰膜制造方法，包括准备片基；在上述片基上，利用丝网印刷法或喷墨法中的一个，形成导电性模式。
2.如权利要求1所述的电磁波干扰膜制造方法，其特征在于，形成上述导电性模式的步骤包括在上述片基上，把金属浆糊形成为所愿意模式，和烧成上述形成的金属浆糊。
3.如权利要求1所述的电磁波干扰膜制造方法，其特征在于，形成上述导电性模式的步骤包括形成导电性网丝。
4.如权利要求1所述的电磁波干扰膜制造方法，其特征在于，形成上述导电性模式的步骤是追加包括形成从外围支持上述导电性网丝的帧。
5.如权利要求1所述的电磁波干扰膜制造方法，其特征在于，追加包括形成上述导电性模式之前，在上述片基上，形成透明导电膜。
6.显示器模块，包括显示器；形成在上述显示器上面，防止上述显示器电磁波放射的导电性模式的电磁波干扰膜；粘在上述电磁波干扰膜上的胶片型光学过滤器。
7.显示器模块，包括显示器；形成在上述显示器上面，防止上述显示器电磁波放射的导电性模式的电磁波干扰膜；偏离地设在上述电磁波干扰膜上的玻璃型光学过滤器。
8.如权利要求项6或7中的任何一项所述的显示器模块，其特征在于，上述导电性模式是具有导电性网丝。
9.如权利要求项6或7中的任何一项所述的显示器模块，其特征在于，上述导电性模式是追加具有从外围支持上述导电性网丝的帧。
10.如权利要求项6或7中的任何一项所述的显示器模块，其特征在于，上述电磁波干扰膜是至少追加具有上述导电性模式和上述显示器之间形成的片基和透明导电膜中的一个。
11.显示器模块制造方法，包括准备显示器；在上述显示器的上面，形成包括旨在防止上述显示器电磁波放射的导电性模式的电磁波干扰膜；在上述电磁波干扰膜上，粘上胶片型光学过滤器。
12.显示器模块制造方法，包括准备显示器；在上述显示器上面，形成包括旨在防止上述显示器电磁波放射的导电性模式的电磁波干扰膜；在上述电磁波干扰膜上，偏离地安装玻璃型光学过滤器。
13.如权利要求项11或12中的任何一项所述的显示器模块制造方法，其特征在于，上述形成电磁波干扰膜的步骤包括利用上述丝网印刷法和喷墨法中的一个，把金属浆糊形成在上述显示器上面；烧成上述形成的金属浆糊，形成上述导电性模式。
14.如权利要求项11或12中的任何一项所述的显示器模块制造方法，其特征在于，上述形成电磁波干扰膜的步骤包括形成导电性网丝。
15.如权利要求项14所述的显示器模块制造方法，其特征在于，上述形成电磁波干扰膜的步骤进一步包括形成从外围支持上述导电性网丝的帧。
16.如权利要求项11或12中的任何一项所述的显示器模块制造方法，其特征在于，上述形成电磁波干扰膜的阶段步骤进一步包括上述导电生模式之前，在上述显示器的上面，至少形成片基和透明导电膜中一个。
全文摘要
本发明是提供可以减少工程数和所需材料损失的电磁波干扰膜制造方法和利用此方法的显示器模块以及其制造方法。本发明的电磁波干扰膜制造方法是包括准备片基(Base Film)的步骤、在上述片基上，利用丝网印刷(Screen Printing)法和喷墨(Ink Jet)法中的一个，形成导电性模式的步骤为特点。
文档编号G12B17/02GK1756473SQ20041006691
公开日2006年4月5日 申请日期2004年9月30日 优先权日2004年9月30日
发明者林钟来 申请人:南京Lg同创彩色显示系统有限责任公司