一种单晶炉真空管路的制作方法

文档序号:8146544阅读:306来源:国知局
专利名称:一种单晶炉真空管路的制作方法
技术领域
本实用新型涉及一种单晶炉真空管路。
背景技术
目前,在单晶炉真空管路中,其真空计与抽气管道直接相连接,导致设置在真空管 路旁侧的水管产生的水凝,会直接滴到真空计上,造成真空计报废;另外,真空计与抽气管 道相距太近,在单晶炉清扫时,易碰到真空计,增加对真空计磨损,减少了真空计的使用寿 命。
发明内容本实用新型的目的是提供能间接提高真空计使用寿命的一种单晶炉真空管路。本实用新型采取的技术方案是一种单晶炉真空管路,包括真空计与抽气管道,其 特征在于真空计通过软管与抽气管道相接。采用本实用新型,由于真空计通过软管连接抽气管道,单晶炉中水管产生的水凝 不会直接滴到真空计上,同时,在清扫时不会碰到真空计,因此间接提高了真空计的使用寿 命。

图1是本实用新型的示意图。
具体实施方式
下面结合具体的实施例对本实用新型作进一步说明。参照图1,该单晶炉真空管路包括真空计3与抽气管道4,真空计3通过软管2与 抽气管4相接通,水管1设置在真空管路的侧边,由于软管2使真空计1远离抽气管道4,单 晶炉中水管1产生的水凝不会直接滴到真空计3上,同时,在清扫抽气管道4时不会碰到真 空计3,因此间接提高了真空计3的使用寿命。
权利要求一种单晶炉真空管路,包括真空计与抽气管道,其特征在于真空计通过软管与抽气管道相接。
专利摘要本实用新型涉及一种单晶炉真空管路,该单晶炉真空管路包括真空计与抽气管道,真空计通过软管与抽气管道相接。采用本实用新型,由于真空计通过软管连接抽气管道,单晶炉中水管产生的水凝不会直接滴到真空计上,同时,在清扫时不会碰到真空计,因此间接提高了真空计的使用寿命。
文档编号C30B35/00GK201665726SQ20102013869
公开日2010年12月8日 申请日期2010年3月23日 优先权日2010年3月23日
发明者夏安阳, 郑裕财, 郜勇军 申请人:浙江矽盛电子有限公司
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1