专利名称：太阳能电池硅片扩散炉的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及太阳能电池生产技术领域，尤其是一种太阳能电池硅片扩散炉。
背景技术：
目前使用的太阳能电池硅片扩散炉，如
图1所示，通常都是采用扩散气体进入炉 体1后垂直于硅片3表面流动的方式，这种扩散方式使得扩散气体在受到硅片3表面的阻 挡后，难以在硅片3背面及硅片3的间隙内均勻分布，造成硅片3表面方块电阻均勻性较 差，硅片3中部方阻偏大，而四周偏小，硅片3表面的方块电阻极值差为10Ω / 口。
实用新型内容本实用新型要解决的技术问题是克服现有技术中之不足，提供一种太阳能电池 硅片扩散炉，解决由于扩散气体在硅片上分布不均而造成的硅片表面方块电阻均勻性较差 的问题。本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是一种太阳能电池硅片扩散炉， 包括炉体，炉体内设有石英舟，硅片放置于石英舟上，炉体上设有用于扩散气体进入炉体内 的进气管和扩散处理后排放尾气的排放管，排放管位于石英舟下方，所述的进气管内所流 向硅片的扩散气体沿平行于硅片表面的方向流动。一种优选实施方式，所述的进气管从炉体的侧面伸入到炉体内部且位于石英舟上 方，放置在石英舟上的硅片表面垂直于炉体的水平中心线，进气管上开设有供扩散气体垂 直向下流出的出气孔，排放管开设有垂直向上供尾气流入的进气孔。另一种优选实施方式，所述的进气管设置在炉体侧面并伸进炉体内，出气端位于 硅片侧向，放置在石英舟上的硅片表面平行于炉体的水平中心线，扩散处理后的尾气从排 放管后端进入排放管排出炉体外。本实用新型的有益效果是本实用新型通过采用扩散气体平行于硅片表面流动的 方式，使得扩散气体不会因为硅片自身的阻挡而到达不了硅片的背面以及硅片与硅片之间 的空隙内，如此，扩散气体能够均勻地分布在硅片表面，进而有效的改善了硅片表面方块电 阻的均勻性，经测定，硅片表面的方块电阻极值差可以达到5 Ω / □以下。
以下结合附图和实施方式对本实用新型进一步说明。图1是现有太阳能电池硅片扩散炉的结构示意图。图2是本实用新型第一种实施方式的结构示意图。图3是本实用新型另一种实施方式的结构示意图。图中1.炉体2.石英舟3.硅片4.进气管41.出气孔5.排放管51.进气孔具体实施方式
。现在结合附图对本实用新型作进一步的说明。这些附图均为简化的示意图仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。如图2所示的是本实用新型的第一种实施方式的结构示意图，一种太阳能电池硅 片扩散炉，包括炉体1，炉体1内设有石英舟2，硅片3放置于石英舟2上，炉体1上设有用 于扩散气体进入炉体1内的进气管4和扩散处理后排放尾气的排放管5，排放管5位于石英 舟2下方，所述的进气管4从炉体1的侧面伸入到炉体1内部且位于石英舟2上方，放置在 石英舟2上的硅片3表面垂直于炉体1的水平中心线，即与现有技术中硅片3的放置方式 相同，而在进气管4上开设有供扩散气体垂直向下流出的出气孔41，排放管5开设有垂直向 上供尾气流入的进气孔51，扩散气体通过进气管4进入炉体1，从进气管4的出气孔41流 出，沿平行于硅片3表面的方向流过硅片3进行扩散处理，再从排放管5上的进气孔51进 入排放管而排出炉体1外，这种扩散气体的流动方式，不会因为硅片3自身的阻挡使得扩散 气体到达不了硅片3的背面以及硅片3与硅片3之间的空隙内，可使扩散气体均勻地分布 在硅片3表面，从而有效地改善了硅片3表面方块电阻的均勻性，经测定，硅片3表面的方 块电阻极值差可以达到5 Ω / □以下。图3所示的是本实用新型的第二种实施方式的结构示意图，一种太阳能电池硅片 扩散炉，包括炉体1，炉体1内设有石英舟2，硅片3放置于石英舟2上，炉体1上设有用于 扩散气体进入炉体1内的进气管4和扩散处理后排放尾气的排放管5，排放管5位于石英舟 2下方，所述的进气管4设置在炉体1侧面并伸进炉体1内，进气管4的出气端位于硅片3 侧向，放置后的硅片3表面平行于炉体1的水平中心线，也就是说与现有技术相比，等于是 将原先硅片3在石英舟2的放置位置转过90°，这样，扩散气体进入炉体1后，依然可以保 证沿平行于硅片3表面的方向流动，不会因为硅片3自身的阻挡而到达不了硅片3的背面 以及硅片3与硅片3之间的空隙内，使得扩散气体能够均勻地分布在硅片3表面，从而有效 地改善了硅片3表面方块电阻的均勻性，扩散处理后的尾气从排放管5后端进入排放管5 排出炉体1外。
权利要求一种太阳能电池硅片扩散炉，包括炉体(1)，炉体内设有石英舟(2)，硅片(3)放置于石英舟(2)上，炉体(1)上设有用于扩散气体进入炉体(1)内的进气管(4)和扩散处理后排放尾气的排放管(5)，排放管(5)位于石英舟(2)下方，其特征是所述的进气管(4)内所流向硅片(3)的扩散气体沿平行于硅片(3)表面的方向流动。
2.根据权利要求1所述的太阳能电池硅片扩散炉，其特征是所述的进气管(4)从炉 体(1)的侧面伸入到炉体(1)内部且位于石英舟(2)上方，放置在石英舟(2)上的硅片(3) 表面垂直于炉体(1)的水平中心线，进气管(4)上开设有供扩散气体垂直向下流出的出气 孔(41)，排放管(5)开设有垂直向上供尾气流入的进气孔(51)。
3.根据权利要求1所述的太阳能电池硅片扩散炉，其特征是所述的进气管(4)设置 在炉体(1)侧面并伸进炉体(1)内，进气管(4)出气端位于硅片(3)侧向，放置在石英舟 (2)上的硅片(3)表面平行于炉体(1)的水平中心线，扩散处理后的尾气从排放管(5)后端 进入排放管(5)排出炉体⑴外。
专利摘要本实用新型公开了一种太阳能电池硅片扩散炉，包括炉体，炉体内设有石英舟，硅片放置于石英舟上，炉体上设有用于扩散气体进入炉体内的进气管和扩散处理后排放尾气的排放管，排放管位于石英舟下方，所述的进气管内所流向硅片的扩散气体沿平行于硅片表面的方向流动。本实用新型解决了由于扩散气体在硅片上分布不均而造成的硅片表面方块电阻均匀性较差的问题。
文档编号C30B31/16GK201713608SQ201020263438
公开日2011年1月19日 申请日期2010年7月16日 优先权日2010年7月16日
发明者蔡忠心 申请人:常州天合光能有限公司