有机电致发光显示面板、具备该有机电致发光显示面板的有机电致发光显示装置以及有...的制作方法

文档序号:8042069阅读:291来源:国知局
专利名称:有机电致发光显示面板、具备该有机电致发光显示面板的有机电致发光显示装置以及有 ...的制作方法
技术领域
本发明涉及有机电致发光(EL)显示面板、具有该有机电致发光显示面板的有机电致发光显示装置以及有机电致发光显示面板的制造方法。
背景技术
近年来,利用了有机材料的场致发光现象的有机电致发光显示面板(以下,简称为显示面板)的研究/开发正在进展。在该显示面板中,各像素部具有阳极电极、阴极电极、 和插入在所述阳极电极和阴极电极之间的有机发光层。并且,在显示面板的驱动中,从阳极电极注入空穴,从阴极电极注入电子,在有机发光层内空穴与电子再结合(复合),由此进行发光。作为上述有机发光层的制造方法的例子,有蒸镀法和印刷法。特别是,在通过作为印刷法之一的喷墨法形成发光层以及其他层的情况下,为了防止由于墨滴下而与相邻的其他颜色的材料混合(混色),需要将像素与相邻的其他像素之间通过由绝缘材料等构成的隔壁(提岸(bank))划分(区划)。形成该隔壁的方式存在如下方式并列设置多个线状隔壁,将有机发光层呈条状划分的方式(线提岸方式);和通过以井字状(格子状)形成的隔壁围绕各像素的周围的方式(像素提岸方式)。在线提岸方式的情况下,当通过喷墨等印刷方式涂敷形成有机发光层的材料时, 形成有机发光层的材料在多个像素部上移动,因此能够在多个像素部中使有机发光层的膜厚均一。但是,在线提岸方式的情况下,为了划分以线状配置的多个像素部的各自,需要将用于控制在像素部的端部的发光的像素规定层这样的别的层垂直于线状的隔壁而配置。因此,存在如下问题为了形成该像素规定层这样的别的层而增加一个形成有机电致发光元件的工艺,使得成本增加。另一方面,在像素提岸方式的情况下,不需要所述像素规定层这样的别的层,解决了成本上的问题。但是,在通过喷墨等印刷方式涂敷形成有机发光层的材料的情况下,因为多个像素部的每一个分别受限制,所以形成有机发光层的材料不会遍及多个像素部而移动,难以在多个像素部中使有机发光层的膜厚均一。作为采用了上述线提岸方式的一例,有专利文献1。所述专利文献1中,在沿线状的隔壁排列的多个像素部之间,形成规定在像素部间的发光的像素规定层这样的由绝缘材料构成的层。上述像素规定层也可以由隔壁材料形成。将该由隔壁材料构成的像素规定层称为“辅助隔壁”。像素规定层形成得比线状的隔壁低,以墨能够在线状的隔壁的延伸方向上流动的方式形成。由此,多个像素部的墨量被平均化。专利文献1 日本特开2009-200049号公报
然而,在上述现有技术中产生以下这样的问题。S卩,在上述专利文献1中记载了如下方法在隔壁材料曝光时使用半色调掩模等, 使第一隔壁和第二隔壁的曝光量不同,由此同时形成高度不同的第一隔壁和第二隔壁。但是,在现实中难以制作适于使用半色调掩模等形成隔壁的隔壁材料,上述方法存在缺乏实用性这样的问题。这是因为隔壁材料需要具备对隔壁形成时的曝光的感光性、 对烧成(烘焙(bake))处理等的耐受性、拨水性(也包括氟处理后的拨水性)、绝缘性等各种特性,除此以外还要使其适合使用了半色调掩模等的隔壁的形成,这是很困难的。因此, 寻求不受缚于隔壁材料的限制、能够同时形成高度不同的第一隔壁和第二隔壁的结构的显示面板等。本发明是为了实现解决上述课题而完成的,其目的在于,提供一种在形成上述线提岸方式的隔壁的情况下,隔壁材料的限制少、能够由相同的工序同时形成高度不同的两种隔壁的结构的有机电致发光显示面板、具备该有机电致发光显示面板的有机电致发光显示装置以及它们的制造方法。为了解决上述课题,本发明的一种方式的有机电致发光显示面板,具备平坦化膜,其使薄膜晶体管层的上方平坦化;一组隔壁,其形成在所述平坦化膜的上方,规定呈列状配置的多个像素部的各自的侧面;以及有机发光层,其形成在存在于所述一组隔壁之间的所述多个像素部;所述平坦化膜具有凹部,所述凹部沿与所述一组隔壁交叉的方向横穿成为所述多个像素部的各自的边界的区域而形成;以及预定的隔壁,所述预定的隔壁由与所述一组隔壁相同的材料构成,与所述一组隔壁连结,在所述平坦化膜的凹部的上方跟随其内部形状而形成,比所述一组隔壁低。在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,在平坦化膜上形成凹部,所述凹部沿与一组隔壁(以下,称为一组第一隔壁)交叉的方向横穿成为多个像素部的各自的边界的区域而形成。在该凹部的上方形成预定的隔壁(以下,称为第二隔壁),因此第二隔壁为跟随凹部的内部形状的形状,能够使得第二隔壁的高度比第一隔壁低。由此,能够通过凹部将第二隔壁设得低。例如,即使第一隔壁和第二隔壁的曝光量相同,也能够同时形成第一隔壁和第二隔壁。其结果,能够从隔壁材料所要求的各种特性中除去适合于使用半色调掩模形成这样的特性,因此能够扩大隔壁材料的选择项。即,本发明的一种方式的有机电致发光显示面板,在线提岸方式中,能够不受隔壁材料的限制,通过实现性高的方法,以相同的工序同时形成高度不同的两种隔壁。与此同时,即使在采用了线提岸方式的情况下,所述第二隔壁分别划分由所述一组隔壁共同规定限制的多个像素部,实现与像素规定层相同的功能。其结果,即使在采用线提岸方式的情况下,也可以不需要所述像素规定层。


图1是表示实施方式的有机电致发光显示面板1的概略结构的框图。图2是表示图像显示部10中的像素部100的A-A,示意剖面图。图3是表示图像显示部10中的像素部100的B-B,示意剖面图。图4是表示图像显示部10中的提岸111、121的构造的示意俯视图以及示意剖面图。
图5是表示形成于平坦化膜的凹部123的示意俯视图。图6是表示没有形成第二提岸121的图像显示部130的示意剖面图。图7是表示图像显示部10的制造方法中的平坦化膜形成工序的示意剖面图。图8是表示图像显示部10的制造方法中的阳极电极形成工序的示意剖面图。图9是表示图像显示部10的制造方法中的提岸形成工序的示意剖面图。图10是表示图像显示部10的制造方法中的有机发光层形成工序的示意剖面图。图11是表示图像显示部10的制造方法中的平坦化膜形成工序和阳极电极形成工序的示意剖面图。图12是表示图像显示部10的制造方法中的提岸形成工序和有机发光层形成工序的示意剖面图。图13是详细表示图像显示部10的制造方法中的提岸形成工序的一部分的示意剖面图。图14是表示变形例1的图像显示部10的提岸111、121的构造的示意剖面图。图15是表示变形例1的图像显示部10的提岸111、121的构造的示意剖面图。图16是表示变形例2的图像显示部10的提岸111、121的构造的示意剖面图。图17是表示变形例3的图像显示部10的像素部100的构造的示意剖面图。图18是表示变形例4的图像显示部10的像素部100的构造的示意剖面图。图19是表示变形例5的图像显示部10的像素部100的构造的示意剖面图。图20是表示包括有机电致发光显示面板1的有机电致发光显示装置500的外观立体图。图21是示意性表示有机电致发光显示装置500的主要部分结构的框图。标号说明1有机电致发光显示面板10,200图像显示部100像素部IOOa像素区域101 基板102 TFT 层103平坦化膜103a 平坦面111 第一提岸112阳极电极112a,b电极端部112c 接触插头(contact plug)112d 弯曲部112e开口边缘部113有机发光层114阴极电极121 第二提岸
121a 突出部121b 倾斜面122 凹部123箱形部125接触孔127 凹部129有机发光材料140多色调掩模172 墨300有机电致发光显示装置
具体实施例方式(本发明的一种方式的概要)本发明的一种方式的有机电致发光显示面板,具备平坦化膜,使薄膜晶体管层的上方平坦化;一组隔壁,其形成在所述平坦化膜的上方,规定呈列状配置的多个像素部的各自的侧面;以及有机发光层,其形成在存在于所述一组隔壁之间的所述多个像素部;所述平坦化膜具有凹部,所述凹部沿与所述一组隔壁交叉的方向横穿成为所述多个像素部的各自的边界的区域而形成;以及预定的隔壁,所述预定的隔壁由与所述一组隔壁相同的材料构成,与所述一组隔壁连结,在所述平坦化膜的凹部的上方跟随其内部形状而形成,比所述一组隔壁低。在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,在平坦化膜上形成凹部,所述凹部沿与一组隔壁(以下,称为一组第一隔壁)交叉的方向横穿成为多个像素部的各自的边界的区域而形成。在该凹部的上方形成预定的隔壁(以下,称为第二隔壁),从而第二隔壁为跟随凹部的内部形状的形状,能够使得第二隔壁的高度比第一隔壁低。由此,能够通过凹部将第二隔壁设得低。例如,即使第一隔壁和第二隔壁的曝光量相同,也能够同时形成第一隔壁和第二隔壁。其结果,能够从隔壁材料所要求的各种特性中除去适合于使用半色调掩模形成这样的特性,因此能够扩大隔壁材料的选择项。即,本发明的一种方式的有机电致发光显示面板,在线提岸方式中,能够不受隔壁材料的限制,通过实现性高的方法,以相同的工序同时形成高度不同的两种隔壁。与此同时,即使在采用了线提岸方式的情况下,所述第二隔壁分别划分由所述一组隔壁共同规定限制的多个像素部,实现与像素规定层相同的功能。其结果,即使在采用了线提岸方式的情况下,也能够不需要所述像素规定层。而且,如上所述本发明的一种方式的有机电致发光显示面板采用线提岸方式,第二隔壁的高度设得比第一隔壁低。因此,在形成有机发光层时,通过喷墨法等印刷法涂敷的含有有机发光材料的墨能够在一组第一隔壁间流动,在多个像素部中有机发光层的膜厚变得均一。凹部可以在平坦化膜的上面(有机发光层侧的面)侧开口而在下面(驱动配线层侧的面)侧不开口,也可以在平坦化膜的上面侧和下面侧这两侧都开口。在凹部没有在下面侧开口的情况下,在与凹部不同的区域中形成接触孔,但是可以例如通过使用了多色调掩模的曝光处理,容易地同时形成接触孔、各自具有不同高度的凹部和平坦部。此外,凹部在平坦化膜的上面侧和下面侧这两侧都开口的情况下,例如可以在凹部设置台阶,在凹部的下部形成接触孔状的孔。并且,可以例如如上所述使用多色调掩模, 容易地同时形成具有台阶的凹部和平坦部。平坦化膜可以不像隔壁材料那样具有多种功能,因此存在适于半色调掩模等多色调掩模的感光性材料。即,本发明的一种方式的有机电致发光显示面板,成为能够不增加制造工艺地形成彼此高度不同的两种隔壁的构造。凹部在平坦化膜的上面侧和下面侧这两侧都开口的情况下,如后所述,能够将像素电极层配置在凹部内,通过下面侧的开口电连接像素电极层和驱动电极层。在该方式中, 可以认为凹部兼具作为接触孔的功能。在该情况下,不必将凹部和接触孔形成在不同区域, 能够使像素部的面积更大。第二隔壁不需要设得所有部分都比第一隔壁低。为了确保墨的流动性,例如优选, 在与一组第一隔壁正交的方向上,比第一隔壁低的部分的长度为一组第一隔壁间的距离的 50%以上,更优选为70%以上。凹部在平坦化膜的上面侧和下面侧这两侧都开口的情况下,因为在下面侧的开口的上方不存在平坦化膜,所以能够将下面侧的开口的上方的区域称为“除去了平坦化膜的区域”。此外,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,可以采用如下结构在上述结构中,形成在所述平坦化膜的所述凹部的底面比所述一组隔壁的底面低。根据本方式,即使在一组第一隔壁的底面例如比像素部下方的平坦部低的情况下,也能够将第二隔壁的高度设得比第一隔壁的高度低。其结果,能够由线提岸形成类似像素提岸。即,既允许在一组第一隔壁滴下的墨的流动,又能够使第二隔壁作为像素规定层发挥功能。凹部的底面,优选其俯视观察至少从所述一组隔壁的一方的侧面下端位置到另一方的侧面下端位置连续的区域中的高度比一组第一隔壁的底面低。所谓俯视观察可以设为例如从平坦化膜等各层层叠的方向的上方眺望下方的观察点。此外,在空穴注入输送层等插入在第一隔壁的下方的情况下,凹部的底面被设得比空穴注入输送层等的底面低。而且, 在凹部形成了台阶的情况下,例如可以将最上级的台阶面设为底面。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,可以采用如下结构在上述结构中,在所述平坦化膜与所述有机发光层之间,与所述多个像素部的各自对应地夹有像素电极层,所述像素电极层的端部的一部分被配置在形成于所述平坦化膜的凹部,所述预定的隔壁覆盖了配置在形成于所述平坦化膜的凹部的所述像素电极层的端部的一部分。根据本发明,由第二隔壁覆盖像素电极层的端部的一部分,由此能够防止电场集中在上述端部而产生亮度不均。例如在像素电极层的平面形状为矩形的情况下,可以将像素电极层的端部的一部分设为与该矩形的四边中的、与第一隔壁交叉的两边中的至少一边相当的部分。即,可以将像素电极层的端部的一部分设为在第一隔壁的延伸方向上像素电极层的两个端部中的至少一方的端部。对上述亮度不均的产生进行说明。在使有机发光层发光时向像素电极层施加电压,有时存在电场集中在像素电极层的端部的一部分、在有机发光层中局部的电流流动的情况。在有机发光层中局部的电流流动的情况下,局部地亮度变高,会产生亮度不均。于是, 在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,通过由第二隔壁覆盖像素电极层的端部的一部分,从而防止电场集中在上述端部的一部分而产生亮度不均。而且,根据本方式,通过由第二隔壁覆盖像素电极层的端部的一部分,从而能够防止在像素电极层的端部的一部分产生的、像素电极层与共同电极(是形成在有机发光层的上方、具有与像素电极层相反极性的电极,也可以称为上部电极)之间的短路。对上述短路的发生进行说明。像素电极层具有一定膜厚。在没有通过绝缘膜覆盖像素电极层的端部的一部分的情况下,特别是若发光层的膜厚比像素电极层的膜厚薄,则所制膜的发光层在像素电极层的端部的一部分上产生不连续的台阶的可能性变高,有时像素电极层的端部的一部分露出,与发光层制膜后形成的共同电极直接或以很低的电阻相接触。由于像这样像素电极层的端部的一部分与共同电极接触,从而发生上述短路。于是,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,通过由第二隔壁覆盖像素电极层的端部的一部分,从而能够防止上述像素电极层与共同电极之间发生短路。像素电极层的端部中的例如与第一隔壁相邻的部分,也可以不由第二隔壁覆盖,而由第一隔壁覆盖。此外,在采用这样的结构的情况下,通过将像素电极层的端部的一部分配置在凹部,从而能够尽可能地扩大像素部的大小。如果将端部的一部分配置在凹部外,则因为没有配置像素电极层的部分不有助于发光,所以会使像素部变得较小。即,不能有效地利用一组第一隔壁间的能够形成像素部的区域。与此相对,根据本方式,能够有效地利用能形成像素部的区域。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,可以采用如下结构在上述结构中,形成于所述平坦化膜的凹部没有形成在所述一组隔壁的下方。根据本方式,能够使一组第一隔壁的高度在其延伸方向上均一。作为极端的例子, 若凹部以在与一组第一隔壁交叉的方向上横穿第一隔壁的下方的方式形成,则第一隔壁中的位于凹部上方的部分的高度变得比其他部分低,例如会变为与第二隔壁相同的高度。这是因为本方式的隔壁材料是跟随凹部的内部形状而堆积的。其结果,在形成有机发光层时,含有有机发光材料的墨不仅超过第二隔壁还超过第一隔壁而流动。在线提岸方式中,因为多数情况下在由第一隔壁划分的像素部堆积不同颜色的有机发光材料,所以在形成有机发光层时,优选墨不超过第一隔壁。与此相对,本发明的一种方式的有机电致发光显示面板,确保第一隔壁比第二隔壁高,所以能够使得在形成有机发光层时墨不超过第一隔壁。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,可以采用如下结构在上述结构中,形成于所述平坦化膜的凹部,以其缘部进入到所述一组隔壁的侧面的下方的状态而形成。根据本方式,能够将第二隔壁设得整体比第一隔壁低,所以墨的流动性提高。这是因为,例如如后所述,在凹部的侧面没有进入第一隔壁的情况下,第二隔壁中与第一隔壁相连的部分的高度变为与第一隔壁相同的高度,不有助于墨的流动。在本方式中,优选在第一隔壁的顶部的下方不形成凹部,在该情况下容易将第一隔壁的顶部的高度保持得比第二隔壁高。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,可以采用如下结构在上述结构中,所述一组隔壁形成为线状。根据本方式,多数像素部连续排列,易于将包含于显示面板的全部像素部以行列状(矩阵状)排列。虽然说是连续,但相互相邻的像素部彼此由预定的隔壁划分,实际上不相连。此外,多个像素部可以以直线状排列,也可以以曲折状排列。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,可以采用如下结构在上述结构中,形成于所述多个像素部的有机发光层是由同一颜色的发光材料构成的有机发光层。根据本方式,形成于在一组第一隔壁间排列的多个像素部的有机发光层是同一颜色的,由此能够使包含有机发光材料的墨在一组第一隔壁间流动,能够使得多个像素部的有机发光层的膜厚均一。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,可以采用如下结构在上述结构中,所述凹部的下部,形成连接所述像素电极层与所述薄膜晶体管层的接触孔,所述凹部的上侧开口形成在与形成有所述接触孔的区域在上下方向上重叠的区域。根据本方式,平坦化膜的凹部的上侧开口形成在与形成有接触孔的区域在上下方向上重叠的区域。换言之,与形成接触孔的区域重叠地形成凹部,由此能够防止因形成了凹部而无用地使像素部变窄。在上下方向上重叠的区域,俯视观察具有与形成接触孔的区域重复的区域。因此, 凹部在平坦化膜的上面侧以及下面侧这两侧开口,例如能够通过凹部使像素电极层的一部分与驱动配线层接触。在该情况下,凹部具有接触孔的功能,可以认为接触孔为凹部的一部分。例如,存在凹部的形状为上部形成为箱形状、下部形成为较小直径的孔形状的情况。所谓连接像素电极层与薄膜晶体管层,例如是指接触孔在像素电极层侧和所述驱动配线层侧这两侧开口,能够使得像素电极层进入到接触孔而与驱动配线层接触。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,可以采用如下结构在上述结构中,所述凹部为随着从所述上侧开口部接近所述下侧开口部而连续或阶段性地直径缩小的形状。根据本方式,能够将凹部的形状设为例如在平坦化膜的上面侧为适于使第二隔壁低的形状,在平坦化膜的下面侧为使作为接触孔的功能优先的形状。此外,在本方式的凹部为随着从上侧开口部接近下侧开口部而连续地直径缩小的形状的情况下,凹部以贯通平坦化膜的状态而形成、且在凹部上没有形成台阶。因此,在形成平坦化膜时,即便不用多色调掩模,也能够通过单色调掩模同时形成凹部和接触孔。此外,也能够使凹部作为接触孔发挥功能。凹部的直径缩小的程度,例如可以为在形成平坦化膜时因曝光以及显像处理的特性而必然形成的程度。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,可以采用如下结构在上述结构中,在所述凹部的内部存在除去了所述平坦化膜的区域,所述接触孔至少被设置在除去了所述平坦化膜的区域,所述像素电极层与所述驱动配线层经由所述接触孔而接触。本方式明确了像素电极层和驱动配线层经由接触孔而接触。除去了平坦化膜的区域例如是形成有贯通平坦化膜的孔的区域等。此外,凹部的形状可以是在上部与下部之间形成有台阶的形状,也可以是没有形成台阶的形状。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,可以采用如下结构在上述结构中,在所述驱动配线层的上面与所述平坦化膜的下面之间具有绝缘保护层,所述绝缘保护层,在形成有所述接触孔的区域中具有开口部,所述绝缘保护层的开口部的面积比所述凹部的面积小。根据本方式,通过将凹部的面积设得比绝缘保护膜的开口部的面积大,从而能够确保像素电极层与驱动配线层的接触面积。在本方式中,优选在俯视观察,形成有开口部的区域全部包含在形成有凹部的区域内。在本方式中可以增加如下结构所述像素电极层通过所述下侧开口部和所述保护层开口部与所述驱动电极层电连接。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,可以采用如下结构在上述结构中,形成有所述凹部的上侧开口部的俯视区域,比形成有所述接触孔的俯视区域大、 且与形成有所述接触孔的俯视区域的整体重叠。根据本方式,形成有凹部的区域被设定得比形成有接触孔的区域大,但与形成有接触孔的区域的整体重叠,由此能够尽可能地扩大像素部。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,可以采用如下结构在上述结构中,所述一组隔壁例如存在三组,对于所述至少三组隔壁中的三组隔壁,红色、绿色、 蓝色各对应着一组隔壁,在各组隔壁之间设置有所述有机发光层、所述凹部和所述预定的隔壁。在本方式中,能够显示彩色图像。在显示彩色图像的情况下,对应色不限定于三种颜色,可以是四种颜色以上。例如可以一组隔壁存在四组,按红色、绿色、蓝色、白色的各颜色对应有一组隔壁。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,可以采用如下结构在上述结构中,将形成于所述平坦化膜的凹部设为第一凹部,所述预定的隔壁,跟随所述第一凹部的内部形状而凹陷,从而在上部形成有第二凹部,在所述第二凹部堆积有与所述有机发光层同样的有机发光材料,形成于所述三组隔壁中的一组隔壁之间的第二凹部,其容积与形成于其他两组隔壁之间的第二凹部不同。如本方式那样,在线提岸方式中,含有有机发光材料的墨也被涂敷于第二隔壁上。 即,有机发光材料不仅堆积于有机发光层,也堆积于第二凹部上。并且,通过改变第一凹部的容积,可以改变第二凹部的容积,改变堆积于该第二凹部的有机发光材料的量。并且,例如,如果不改变墨的涂敷量而增大第二凹部的容积来增加有机发光材料的堆积量,则有机发光层的膜厚反而减少。虽然在三组隔壁间涂敷相互不同颜色的墨,但在将各色墨的涂敷量设为相等的情况下,例如通过使凹部的容积按各颜色不同,也能够按颜色调整有机发光层的膜厚。由此, 适于三种颜色中的一种颜色的有机发光层的最适当的膜厚与其他颜色不同的情况。也可以使墨的涂敷量和凹部的容积这两方不同。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,可以采用如下结构在上述结构中,将形成于所述平坦化膜的凹部设为第一凹部,所述预定的隔壁跟随所述第一凹部的内部形状而凹陷,从而在上部形成有第二凹部,在所述第二凹部堆积有与所述有机发光层同样的有机发光材料,形成于所述三组隔壁中的一组隔壁之间的所述第二凹部,其面积与形成于其他两组隔壁之间的所述第二凹部不同。在本方式中,能够通过改变第一凹部的面积来改变第二凹部的面积,改变堆积于该第二凹部的有机发光材料的量。因此,即使在将各色墨的涂敷量设得相等的情况下,也能够通过例如按各颜色使第一凹部的面积不同,从而按各颜色调整有机发光层的膜厚,起到与前项同样的作用效果。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,可以采用如下结构在上述结构中,所述凹部,具有上部凹部,其形状为随着从在平坦化膜的上面侧开口的上侧开口部向在下面侧开口的下侧开口部接近而连续地直径缩小;和下部凹部,其形状为随着从所述下侧开口部向所述上侧开口部接近而连续地直径扩大,并且,在所述上部凹部与所述下部凹部之间存在台阶;所述像素电极层,从所述像素部延伸到所述凹部内而形成,通过所述下侧开口部与所述驱动电极层电连接,形成于所述三组隔壁中的一组隔壁之间的所述上部凹部和所述第二凹部,各自的深度或面积分别与形成于其他两组隔壁之间的所述上部凹部和所述第二凹部不同,并且,形成于所述三组隔壁之间的所述下部凹部的所述下侧开口部为彼此相同的形状。根据本方式,能够改变任一组的第一隔壁间的上部凹部的深度或面积,改变堆积于该第二凹部的有机发光材料的量。因此,即使在将各色墨的涂敷量设得相等的情况下,也能够通过例如按各颜色使第一凹部的面积不同,从而按各颜色调整有机发光层的膜厚,起到与前项同样的作用效果。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,可以采用如下结构在上述结构中,所述预定的隔壁,具有在所述三组隔壁的延伸方向上规定所述有机发光层的侧面的倾斜面,形成于所述三组隔壁中的一组隔壁之间的预定的隔壁的倾斜面的倾斜角度, 与形成于其他两组隔壁之间的预定的隔壁的倾斜面的倾斜角度不同。根据本方式,在形成有机发光层时,在对涂敷于各组隔壁间的含有有机发光材料的墨进行干燥时,能够将其表面形状保持为适当的形状。这是因为,根据预定的隔壁的倾斜面的倾斜角度,墨的表面形状发生改变(之后进行说明)。此外,适当的倾斜角度根据墨的特性(表面张力、粘度等)而不同,所以优选若对应色不同则使倾斜角度不同。而且,能够通过使倾斜角度不同,来调整在第二凹部中流动的有机发光材料的量,所以能够调整堆积于第二凹部的有机发光材料的量。另外,不必使所有三种颜色的倾斜角度相互不同。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,可以采用如下结构在上述结构中,所述像素电极层的配置在所述凹部的开口边缘的部分弯曲,所述预定的隔壁, 形成在比所述凹部大的区域,在所述一组隔壁的延伸方向上覆盖所述像素电极层弯曲的部分。在本方式中,在凹部的开口边缘,像素电极层弯曲,成为在施加了电压的情况下电场易于集中的形状。通过由预定的隔壁覆盖该像素电极层弯曲的部分,能够防止电场集中在该弯曲部分而在有机发光层中局部的电流流动。而且,根据本方式,通过由第二隔壁覆盖像素电极层的弯曲部,能够防止在像素电极层的弯曲部发生的、像素电极层与共同电极之间的短路。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,可以采用如下结构所述驱动配线层为薄膜晶体管层。根据本方式,能够以有源矩阵方式驱动多个像素部。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,可以采用如下结构所述像素电极层由金属、半导体、或者金属以及半导体构成。
而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示装置中,可以采用如下结构具备技术方案1至技术方案13的任一项所述的有机电致发光显示面板。本方式,具备所述的有机电致发光显示面板,能够起到与所述的方式同样的作用效果。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板的制造方法中,可以采用如下构成。该方法包括第一工序,在薄膜晶体管层的上方形成平坦化膜,将所述薄膜晶体管层的上方平坦化;第二工序,在所述平坦化膜的上方形成一组隔壁,所述一组隔壁规定呈列状配置的多个像素区域的各自的侧面;以及第三工序,在存在于所述一组隔壁之间的所述多个像素区域中形成有机发光层;在所述第一工序中,在所述平坦化膜形成凹部,所述凹部沿与所述一组隔壁交叉的方向横穿成为所述多个像素部的各自的边界的区域而形成;在所述第二工序中,形成预定的隔壁,使所述预定的隔壁跟随所述平坦化膜的凹部的内部形状、 且形成为比所述一组隔壁低的形状,所述预定的隔壁由与所述一组隔壁同样的材料构成、 与所述一组隔壁连结。根据本方式,在形成线提岸方式的隔壁的情况下,即使将第一隔壁和第二隔壁的曝光量设得相等,也能够同时形成第一隔壁和第二隔壁。其结果,隔壁材料的选择项扩大, 能够使用更好的隔壁材料。即,本发明的一种方式的有机电致发光显示面板的制造方法,在线提岸方式中,能够使得隔壁材料的限制少,并能通过同样的工序同时形成高度不同的两种隔壁。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板的制造方法中,可以采用如下构成在所述第二工序中,在所述平坦化膜上涂敷形成所述一组隔壁和所述预定的隔壁的隔壁材料,经由留下所述一组隔壁和所述预定的隔壁的掩模图案,将所述隔壁材料曝光, 所述预定的隔壁,跟随所述平坦化膜的凹部的内部形状而进入到所述凹部的内部,从而变为比所述一组隔壁低的高度。本方式具体地规定了第二工序。涂敷于平坦化膜的隔壁材料,在形成有凹部的区域中进入到凹部的内部,高度变低。通过留下该凹部上方的高度低的部分,例如在将曝光量设得相等的情况下,也能够将第二隔壁的高度设得比第一隔壁低。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板的制造方法中,可以采用如下构成在所述第二工序中,留下所述预定的隔壁的掩模图案是留下比形成于所述平坦化膜的凹部的俯视区域大的掩模图案。根据本方式,第二隔壁的俯视区域(俯视观察时的区域)在第一隔壁的延伸方向上伸出(超出)到凹部的俯视区域之外。因此,即使在涂敷于平坦化膜的隔壁材料的厚度尺寸比凹部的深度尺寸小的情况下,第二隔壁中的攀上凹部的侧面而伸出到凹部的俯视区域外的部分,也能够作为像素规定层发挥功能,该像素规定层用于规定在发光时有机发光层中不会发生局部电场集中等而稳定的发光区域。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板的制造方法中,可以采用如下构成在所述第一工序中,经由在所述平坦化膜形成所述凹部的掩模图案使所述平坦化膜曝光,在所述平坦化膜形成所述凹部的掩模图案是具有光的透射率相互不同的多个透光区域的多色调掩模图案。根据本方式,使用所谓的多色调掩模,例如既能够使平坦化膜的平坦部的高度和凹部的高度不同,又能够在平坦化膜上同时形成凹部和接触孔。接触孔是为了连接像素电极层与TFT层而必须形成的,所以如果与接触孔同时形成,则能够不增加制造工艺地形成凹部。多色调掩模包括灰色调掩模(gray tone mask)、缝隙掩模(slit mask,狭缝掩模)、 叠层掩模(stacked layer mask)、半色调掩模。可以将凹部和接触孔形成在不同的区域,也可以将接触孔形成在凹部内。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板的制造方法中,可以采用如下构成在所述第一工序中,通过所述多色调掩模图案,在形成所述凹部的区域中,使照射到形成接触孔的区域和其周围的区域的光的透射率不同而曝光,在所述平坦化膜形成具有台阶的凹部。根据本方式,使形成接触孔的区域的曝光量和其周围的区域的曝光量不同,能够形成具有台阶的凹部。由此,能够不增加制造工艺地形成具有接触孔的凹部。具有台阶的凹部,例如可以设为上部为从一组第一隔壁的一方到另一方为止连续的大且浅的形状,下部为在平坦化膜的下面侧开口的较小直径的孔形状。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板的制造方法中,可以采用如下构成在所述第二工序中,经由使照射到形成所述一组隔壁的区域和形成所述预定的隔壁的区域的光的透射率相等的掩模图案,使所述隔壁材料曝光。根据本方式,例如能够使用单色调掩模,同时形成高度不同的第一隔壁和第二隔壁。因此,能够使得隔壁材料的限制减少。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板的制造方法中,可以采用如下构成。该方法还包括如下的第四工序在所述第二工序之前,在所述平坦化膜上与所述多个像素区域的各自对应地形成像素电极层;在所述第四工序中,所述像素电极层的端部的一部分被配置在所述凹部的内部;在所述第二工序中,通过所述预定的隔壁覆盖所述像素电极层的端部的一部分。根据本方式,通过将像素电极层的端部的一部分配置在凹部,能够得到尽可能扩大了像素区域的显示面板。此外,由预定的隔壁覆盖像素电极层的端部的一部分,能够得到能防止电场集中在该端部而在有机发光层中发生局部的电流流动的显示面板。而且,根据本方式,通过由第二隔壁覆盖像素电极层的弯曲部,能够防止在像素电极层的弯曲部发生的、像素电极层与共同电极之间的短路。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板的制造方法中,可以采用如下构成在所述第四工序中,所述像素电极层形成为从所述像素区域延伸到所述凹部的内部、在所述凹部的开口边缘弯曲的形状,在所述第二工序中,留下所述预定的隔壁的掩模图案是留下比形成于所述平坦化膜的凹部的俯视区域大的掩模图案,通过所述预定的隔壁覆盖所述像素电极层的弯曲部分。根据本方式,通过由预定的隔壁覆盖像素电极层弯曲的部分,能够得到能防止在发光时电场集中在该弯曲部分而在有机发光层中发生局部的电流流动的显示面板。此外,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,可以采用如下结构在上述结构中,所述一组隔壁分别具备在其延伸方向上连续地形成的顶部,和以随着从所述顶部向所述平坦化膜接近、所述一组隔壁间的距离减少的朝向倾斜的侧面;所述凹部,俯视观察至少形成在从所述一组隔壁的一方的侧面下端位置到另一方的侧面下端位置为止连续的区域;所述区域中的所述平坦化膜的高度比位于所述一组隔壁的顶部的下方的所述平坦化膜的高度低。本方式是更具体地规定第一隔壁和凹部的构成的方式。根据本方式,例如即使在平坦化膜中位于第一隔壁下方的部分的高度比形成像素部的部分(平坦部)的高度低的情况下,通过将平坦化膜的高度设得比所述连续区域中位于第一隔壁下方的部分低,从而也能够将第二隔壁的高度设得比第一隔壁低。连续的区域在第一隔壁的延伸方向上具有某种程度的宽度。该区域的宽度尺寸可以设为能够将第二隔壁设得比第一隔壁低的尺寸。例如,能够将上述区域的宽度尺寸设为第一隔壁的高度尺寸以上、或者一组隔壁间的距离的一半以上。此外,连续的区域,优选以位于第一隔壁的顶部的下方的所述平坦化膜的高度为基准,低第一隔壁的顶部的高度的 20%以上,当低40%以上时,易于进一步提高墨的流动性。上述连续的区域中的第一隔壁附近的区域不需要低第一隔壁的顶部的高度的20%以上等。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,可以采用如下结构在上述结构中,所述凹部具有在平坦化膜的上面侧开口的上侧开口部和在下面侧开口的下侧开口部,所述像素电极层从所述像素部延伸到所述凹部内而形成,通过所述下侧开口部与所述驱动电极层电连接。根据本方式,能够使凹部具有接触孔的功能。因此,不需要在俯视观察为凹部以外的区域另外形成接触孔,能够防止由于形成凹部而无用地使像素部变窄。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,可以采用如下结构在上述结构中,所述凹部具有随着从所述上侧开口部向所述下侧开口部接近而连续地直径缩小的形状的上部凹部、和随着从所述下侧开口部向所述上侧开口部接近而连续地直径扩大的形状的下部凹部,在上部凹部与下部凹部之间存在台阶。根据本方式,能够将凹部的形状设为在平坦化膜的上面侧为适于使第二隔壁低的形状,在平坦化膜的下面侧为使作为接触孔的功能优先的形状。而且,在本发明的一种方式的有机电致发光显示面板中,可以采用如下结构在上述结构中,所述像素电极层通过所述下侧开口部和所述绝缘保护层的开口部与所述驱动电极层电连接。根据本方式,能够使凹部具有接触孔的功能。因此,不需要在俯视观察为凹部以外的区域另外形成接触孔,能够防止由于形成凹部而无用地使像素部变窄。(实施方式)以下,参照附图对用于实施本发明的方式的一例进行说明。以下的说明中使用的方式,是为了易于清楚地说明本发明的结构以及作用/效果而使用的例子,本发明在其本质的特征部分以外不受以下的实施方式的任何限定。1.有机电致发光显示面板1的概略结构使用图1对本实施方式的有机电致发光显示面板1(以下,简称为“显示面板1”) 的整体结构进行说明。显示面板1构成为具有图像显示部10、和与其连接的驱动控制部20。图像显示部 10是利用有机材料的场致发光现象的有机电致发光显示器,排列有多个有机电致发光元件而构成。此外,驱动控制部20由信号线驱动电路21、扫描线驱动电路23和控制电路25构成。在信号线驱动电路21和扫描线驱动电路23连接有控制像素电路的控制配线,该像素电路在后述的薄膜晶体管层由薄膜晶体管构成。信号线驱动电路21和扫描线驱动电路23 由电源供给部(参照图21)供给电力。在实际的显示面板1中,关于驱动控制部20相对于图像显示部10的配置并不限于此。2.图像显示部10的结构使用图2和图3对图像显示部10的结构进行说明。本实施方式的图像显示部10, 作为一例采用了顶部发光(top emission,上发射)型的有机电致发光显示器。此外,图像显示部10将具备有机发光层的多个像素部100配置为矩阵状而构成,所述有机发光层具有红(R)、绿(G)、蓝⑶中的任一种颜色的发光材料。在图1中,在“圆C”的内侧放大地示意性示出了多个像素部100的排列的一部分。图2是关于一部分的像素部100示意性地示出了图1中的A-A’剖面的图。此夕卜, 图3是关于一个像素部100示意性地示出了图2所示的B-B’剖面的图。将图2和图3的上侧(Z轴方向)作为图像显示部10的上方进行说明。在图像显示部10中,在基板101上形成薄膜晶体管层(TFT层)102,在其上方形成平坦化膜103。TFT层102是在基板101上形成多个薄膜晶体管(TFT) 105、配线图案而成的。在该TFT层102与平坦化膜103之间插入作为绝缘保护膜的钝化膜107。在图中简略图示了 TFT层102,省略了一部分的结构的图示。TFT105受动于信号线驱动电路21和扫描线驱动电路23而工作,向各像素部100 供给电力。TFT105,如图3所示,层叠源极105a、漏极10 、沟道层105c、栅极绝缘膜105d、 栅极电极10 而成。一方的TFT105的源极10 或者漏极10 延长,形成与像素部100 电连接的SD电极(源极/漏极电极)106。钝化膜107由氮化硅(SiN)、氧化硅(SiO)等无机系电介质材料、和/或丙烯酸系、聚酰亚胺系等有机系电介质材料形成。平坦化膜103堆积在存在凹凸的TFT层102上,在TFT层102的上方形成平坦面 103a。平坦化膜103能够至少使形成像素部100的区域平坦即可,不需要使形成后述的接触孔、凹部等全部区域平坦化。此外,由于可以使平坦化膜103具有与钝化膜107同样的功能,所以在该情况下钝化膜107不是必须的。在本实施方式中,采用了将排列成行列状(矩阵状)的多个像素部100划分为条状的线提岸方式。因此,在图像显示部10中,将像素部100划分为条状的多个第一提岸 111(图2)并列设置在平坦化膜103上。第一提岸111在Y轴方向上直线延伸。此外,第一提岸111的剖面形状,优选大致梯形,X轴方向上的两个侧面Illa分别为倾斜面,顶部为大概平坦的顶面111b。并且,两个侧面Illa分别作为规定像素部100的有机发光层113的一个侧面的隔壁起作用。在图3中,在Z轴方向的最上部以涂白图示了处于切断面的里侧的第一提岸111的侧面111a。在彼此相邻的第一提岸111间的区域中,在平坦化膜103上形成阳极电极112,在该阳极电极112上形成有机发光层113。阳极电极112和有机发光层113以按每个像素部 100分离的状态而形成。此外,至少在发光区域中,在阳极电极112和有机发光层113之间, 可以插入例如空穴注入层(省略图示)、空穴输送层(省略图示)等。而且,可以根据发光元件特性在有机发光层113与阴极电极114之间插入电子输送层(省略图示)、电子注入层 (省略图示)。并且,在第一提岸111和有机发光层113上依次层叠形成阴极电极114和密封层 (省略图示)。此外,在图像显示部10中,在彼此相邻的一组第一提岸111之间形成横穿以列状排列的多个像素部100间的区域的多个第二提岸121 (图3)。各第二提岸121分别与一组第一提岸111连结。通过这些第二提岸121,形成第一提岸111的延伸方向(Y轴方向)上的像素部100的边界。第二提岸121的剖面形状与第一提岸111有很大的不同。第二提岸 121的剖面形状像是如下的形状与第一提岸111同样的剖面形状的提岸向平坦化膜103 的凹处陷没而形成的形状。这是由后述那样第二提岸121的形成方法引起的。第一提岸111、第二提岸121(以下,简称为“提岸111、121”)以及平坦化膜103具有绝缘性。在本实施方式中,像素部100包括在平坦化膜103上层叠的阳极电极112、有机发光层113、以及阴极电极114,其俯视观察时的区域(以下,记为俯视区域)由第一提岸111 和第二提岸121规定。像素部100的俯视区域主要由有机发光层113的俯视区域来确定,有机发光层113 在X轴方向上由一组第一提岸111夹持,限制了其俯视区域。即,在一组第一提岸111间排列的各像素部100的两侧面由一组第一提岸111来规定。具体而言,各像素部100的两侧面由一组第一提岸111的相对的两个侧面Illa来规定。以下,表示图像显示部10的主要构成材料。a)基板 101基板101,例如以无碱玻璃、钠玻璃、无荧光玻璃、磷酸系玻璃、硼酸系玻璃、石英、 丙烯酸系树脂、苯乙烯系树脂、聚碳酸酯系树脂、环氧系树脂、聚乙烯、聚酯、硅系树脂、或者氧化铝等绝缘性材料作为基础而形成。b)平坦化膜103平坦化膜103使用了作为正型感光性树脂材料的聚酰亚胺系、丙烯酸系、苯丙环丁烯(cyclotene)系、酚醛清漆树脂系。作为平坦化膜103的材料,例如可以使用丙烯酸、 聚酰亚胺、硅氧烷等感光性树脂材料。此外,也可以使用负型感光性树脂材料。C)阳极电极112阳极电极112由单层、或层叠多个层而成的层叠体构成。所述单层由金属性材料构成。阳极电极112例如使用Ag(银)、APC(银、钯、铜的合金)、ARA(银、铷、金的合金)、 MoCr(钼和铬的合金)、NiCr (镍和铬的合金)等而形成。此外,也能够使用ITOandium Tin Oxide,铟锡氧化物)、IZOan2O3-SiO)、Zn0、In0、Sn0等半导体材料来形成阳极电极112。在此,金属性材料是指若温度上升则电阻变大的材料,半导体材料是指若温度上升则电阻变小的材料。在如本实施方式那样为顶部发光型的情况下,优选由高反射性的材料形成。d)提岸 111、121提岸111、121由树脂等有机材料形成,具有正型感光性和绝缘性。作为用于形成提岸111、121的有机材料的例子,可举出(苯丙环丁烯系树脂)。并且,提岸111、121优选具有有机溶剂耐性。也可以使用负型的感光性材料。
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而且,在提岸111、121的形成中,因为要实施涂敷处理、曝光/显像处理、烘焙处理等,所以优选由具有希望的功能(即,在这些处理后在墨涂敷工序中具有良好的墨拨水性, 在面板的驱动/保管时分解气体量是微量,等等)的材料形成。关于用于形成提岸111、121的绝缘材料,以上述的各材料为首,尤其可以使用电阻率为105(Ω .cm)以上的材料。这是因为,在使用了电阻率为105(Ω - cm)以下的材料的情况下,导致在阳极电极112与阴极电极114之间发生泄漏电流、或者在相邻像素部100间发生泄漏电流,产生消耗功率的增加等各种问题。此外,为了使第一提岸111具有拨液(疏液)性,使用氟树脂等具有拨水性的材料,或者也能够使用氟气对表面进行等离子处理。如果在使用亲液性的材料形成了提岸111 的情况下,则在制造图像显示部10时,含有有机发光材料的墨顺着提岸111的表面传送、在 X轴方向在相邻的像素部100之间移动,就会使彼此不同颜色的墨混合。而且,关于提岸111、121的构造,不仅能够采用图2所示那样的一层构造,还能够采用两层以上的多层构造。在该情况下,能够在每层组合上述材料,也能够在每层使用无机材料和有机材料。e)有机发光层113有机发光层113具有通过使从阳极电极112注入的空穴和从阴极电极114注入的电子再结合从而产生激发状态而发光的功能。用于形成有机发光层113的材料需要使用能够用湿式印刷法制膜的发光性的有机材料。具体而言,优选以例如特许公开公报(日本特开平5-163488号公报)中记载的荧光物质来形成,所述荧光物质是8-羟基喹啉盐化合物、茈化合物、香豆素化合物、氮杂香豆素化合物、Tl唑化合物、嘴二唑化合物、紫环酮(perinone)化合物、吡咯并吡咯化合物、萘化合物、蒽化合物、芴化合物、荧蒽化合物、并四苯化合物、芘化合物、晕苯化合物、 喹诺酮化合物和氮杂喹诺酮化合物、吡唑啉衍生物和吡唑啉酮衍生物、罗丹明化合物、1, 2-苯并菲(chrysene)化合物、菲化合物、环戊二烯化合物、芪化合物、二苯基醌化合物、苯乙烯基化合物、丁二烯化合物、二氰基亚甲基吡喃化合物、二氰基亚甲基噻喃化合物、荧光素化合物、吡喃馈化合物、噻喃错化合物、硒吡喃馈(selenapyrylium)化合物、碲吡喃错 (telluropyrylium)化合物、芳香族醛连氮化合物、寡聚苯撑化合物、噻吨化合物、蒽化合物、菁化合物、吖啶化合物、8-羟基喹啉化合物的金属配合物、2,2’ -联吡啶化合物的金属配合物、希夫盐与III族金属的配合物、喔星金属配合物、稀土类配合物等。f)阴极电极114阴极电极114例如由ΙΤ0、IZO(氧化铟锌)等形成。在顶部发光型的图像显示部 10的情况下,优选由透光性的材料形成。关于透光性,优选透射率为80 (%)以上。作为用于形成阴极电极114的材料,除了上述以外,例如还可以使用依次层叠了包含碱金属、碱土类金属或它们的卤化物的层、和包含银的层的构造。在上述中,包含银的层可以单独由银形成,也可以由银合金形成。此外,为了实现提高光取出效率,也可以从该包含银的层的上方设置透明度高的折射率调整层。g)密封层密封层具有抑制有机发光层113等暴露于水分、或暴露于空气的功能,例如使用 SiN(氮化硅)、SiON(氮氧化硅)等材料形成。在顶部发光型的图像显示部10的情况下,优选由透光性的材料形成。3.提岸111、121、阳极电极112以及平坦化膜等的详细构成以下,参照图2 图4对第一提岸111、第二提岸121以及平坦化膜103等进行说明。图4(a)是对图像显示部10的一部分示意性地示出了第一、第二提岸111、121的俯视图的图。此外,图4(b)、(c)是示意性地示出了 X-X’剖面的图,图4(d)、(e)是示意性地示出了 Y-Y’剖面的图。在这些图中没有图示有机发光层113和阴极电极114。如图4(a)所示,形成像素部100的像素区域IOOa由第一提岸111和第二提岸121 围绕。各像素区域IOOa是在Y轴方向上长的矩形状。在图4(b)、(c)中,在Z轴方向的上侧以涂白图示了处于切断面的里侧的第二提岸121。各像素区域100a(以及像素部100),如由图中的标号R、G、B所示,与红(R)、绿 (G)、蓝(B)中的某一颜色对应。此外,Y轴方向上排列的像素区域IOOa对应于相同的颜色。 另一方面,从X轴方向的排列来看,像素区域IOOa的对应颜色按RGB的顺序变化。S卩,存在于彼此相邻的一组第一提岸111间的多个像素区域100a,各自对应于相同的颜色。另一方面,任意的像素区域100a,与由一组第一提岸111在X轴方向上划分的两个相邻的像素区域 IOOa的各自对应于不同的颜色。图5中示出平坦化膜103的上面。平坦化膜103的上面,大部分为平坦面103a,但在第二提岸121下方的区域形成有凹部122。该凹部122,其上部为箱形状的箱形部123(上部凹部),下部为大致圆柱形状的接触孔部125 (下部凹部)(参照图3和图4)。箱形部123 的内部形状被设为底部和上面为长方形的棱锥台形状,接触孔部125的内部形状被设为圆锥台形状,这些箱形部123和接触孔部125连通。如图5所示,箱形部123在Y轴方向上彼此相邻的像素区域IOOa之间,以横穿在X 轴方向上彼此相邻的一组第一提岸111间的区域的方式形成。此外,箱形部123形成为沿与第一提岸111交叉的方向横穿形成多个像素区域IOOa的边界的区域。具体而言,箱形部123形成于从在X轴方向上彼此相邻的一组第一提岸111中的一方的第一提岸111的侧面Illa的下端位置到另一方的第一提岸111的侧面Illa的下端位置为止连续的区域。在本实施方式中,箱形部123以与X轴方向交叉的边部(缘部)进入到第一提岸111的侧面Illa的下方的状态而形成。此外,箱形部123没有进入到第一提岸111的顶面Illb下方的区域10北,位于顶面Illb的下方的平坦化膜103的高度被设为与像素区域IOOa中的平坦化膜103的高度相同。另一方面,在形成有箱形部123的区域中,平坦化膜103的高度比位于顶面Illb的下方的平坦化膜103的高度低。区域10 沿顶面Illb延伸,在Y轴方向上高度均一。箱形部123具有四边形的底面123a和上方向直径扩大的方向倾斜的四个侧面 12!3b、C。在该箱形部123内配置有阳极电极112的电极端部112a、b (参照图3)。接触孔部125是贯通平坦化膜103的孔,形成在箱形部123的底面123a。并且,在箱形部123的底面123a侧和TFT105的SD电极106侧分别具有开口。在该接触孔部125 内,阳极电极112的一部分凹入而形成接触插头112c,该接触插头112c与SD电极106电连接。阳极电极112按每个像素部100设置,在彼此相邻的像素部100的阳极电极112之间为了绝缘而确保预定的间隔距离。由接触插头112c的圆板形状的下端部构成所述“接触部”。
从附图可知,俯视观察,接触部的区域比箱形部123的底面123a的区域小。S卩,凹部122的俯视面积比接触孔部125的俯视面积大。此外,在Z轴方向上接触孔部125的全部区域与箱形部123的区域重叠。此外,箱形部123俯视为四边形的形状,但可以是圆形,也可以是多边形。而且,接触孔部125俯视为圆形的形状,但可以是四边形,也可以是多边形。在本实施方式中,箱形部123的底面123a为所述“台阶”的一例。此外,凹部122, 在形成了台阶的部位阶段性地直径缩小,在箱形部123的四个侧面12!3b、C、接触孔部125连续地直径缩小。而且,凹部122,台阶被设为一级,但也可以形成多级台阶。此外,在各台阶中,如图3所示,接触孔部125的开口边缘可以是有角的形状,也可以与图3不同,为没有角而弯曲的形状。而且,箱形部123的侧面12!3b、C与底面123a相交的部分也同样,可以是有角的形状,也可以是没有角而弯曲的形状。此外,在本实施方式中,箱形部123具有在平坦化膜的上面(平坦面103a)上开口的上侧开口部。接触孔部125具有在平坦化膜的下面(钝化膜107侧的面)上开口的下侧开口部。而且,在本实施方式中,接触孔部125贯通平坦化膜103,形成有接触孔部125的区域为所述“除去了平坦化膜的区域”。如图4(c)的X2-X2’剖面所示,在X轴方向上彼此相邻的凹部122之间确保有预定的间隔距离。具体而言,在第一提岸111的顶面Illb下方没有形成箱形部123。这是为了使平坦化膜103的在第一提岸111的顶面Illb下方的区域中的高度与像素区域IOOa相同。由此,第一提岸111的顶面Illb的高度在Y轴方向上大概均一。这样,通过在第一提岸111的顶面Illb下方的区域不形成凹部122,能够良好地保持第一提岸111的形状和顶面Illb的高度。如前所述,箱形部123形成在第一提岸111的侧面Illa下方的区域,这是为了使第二提岸121整体变低,在涂敷了含有有机发光材料的墨的情况下,提高墨在Y轴方向排列的像素区域IOOa间的流动性。第二提岸121形成在上述凹部122的上方,为跟随凹部122的内部形状的形状。具体而言,第二提岸121为沿着图5所示的箱形部123的底面123a和四个侧面123b、c的形状,在第二提岸121上部形成与凹部122大概相似的小的凹陷即凹部127。此外,根据制造条件等,会在接触孔部125的上方形成小凹陷。在该凹部127内为了制造方便也会堆积有机发光材料129(图3),但因为由第二提岸121绝缘,所以不发光。此外,在第二提岸121,形成有向比图5所示的平坦面103a高的位置突出的突出部 121a。由该突出部121a形成Y轴方向上的像素部100的边界。具体而言,由突出部121a 的有机发光层113侧的倾斜面121b规定了有机发光层113的Y轴方向上的侧面。由此可知,箱形部123形成在成为多个像素部100各自的边界的区域。准确地说,突出部121a比阳极电极121的上面高。然而,在本实施方式中,由于与突出部121a从平坦面103a突出的突出量相比,阳极电极112的厚度非常薄,例如为十分之一左右,所以如上述那样简明地表示。上述突出部121a被设得比第一提岸111低。由此,如后所述,在含有有机发光材料的墨滴下时,允许墨向第一提岸111的延伸方向流动。此外,通过第一提岸111,防止涂敷于像素区域IOOa的墨流入到对应于不同颜色的相邻的像素区域100a。
此外,突出部121a的端部,在Y轴方向上向凹部122外伸出,位于平坦面103a的上方(图3)。即,俯视观察,第三提岸121的区域比凹部122的区域稍大。其结果,如后所述易于电场集中的阳极电极112的弯曲部112d由第二提岸121覆盖。具体而言,由第二提岸121的突出部121a和侧壁121c覆盖弯曲部112d。在图中,弯曲部112d被描述为有棱角的形状,但也可以是以较小的曲率半径折弯、弯曲的形状。在该情况下,能够由第二提岸 121覆盖曲率半径小的部分。此夕卜,由第二提岸121覆盖电极端部112a、b。而且,由第二提岸121覆盖位于第二提岸121下方的接触插头112c。电极端部112a、b和接触插头112c的上侧开口边缘也是电场易于集中的部分(之后进行叙述)。在本实施方式中,由彼此相邻的两个第一提岸111中的彼此相对的部分构成所述 “一组隔壁”。具体而言,例如,在由与Y轴和Z轴平行的假想平面将各第一提岸111分为了两部分的情况下,由在两个第一提岸111中的、形成有夹持有机发光层113而彼此相对的两个侧面Illa的两部分构成所述“一组隔壁”。此外,由第二提岸121构成所述“预定的隔壁”。4.显示面板的工作在所述图像显示部10显示图像的情况下,通过有源矩阵方式,由信号线驱动电路 21和扫描线驱动电路23经由TFT105向预定的像素部100施加电压。其结果,电流在预定的像素部100的阳极电极112与阴极电极114之间流动而使有机发光层113发光。此外, 根据像素部100对应的颜色(红、绿、蓝),形成有机发光层113的有机发光材料不同,各像素部100放射红、绿、蓝中的某一颜色的光。上述图像显示部10采用了线提岸方式,Y轴方向上排列的多个有机发光层113的膜厚被设得均一,所以亮度、色度也均一,能够显示品质良好的图像。如前所述,堆积于第二提岸121的凹部127内的有机发光材料129由于第二提岸 121而与阳极电极112电绝缘,所以在有机发光材料129中没有电流流动,不发光。在此,对第二提岸121的功能进行说明。首先,为了进行比较,对在没有形成第二提岸121的情况下会发生怎样的现象进行说明。图6中示意性地示出在没有形成第二提岸121时的图像显示部130的剖面(与图 3对应)。在该图中,在Z轴方向的最上部以涂白示出了处于切断面的里侧的第一提岸111 的侧面111a。在没有第二提岸121的情况下,不仅在像素区域IOOa的阳极电极112上堆积了有机发光材料131,在配置于凹部122的阳极电极112上也直接堆积了有机发光材料 133。因此,在对阳极电极112施加了电压的情况下,不仅在有机发光材料131,在凹部122 内的有机发光材料133也有电流流动,两者都发光。但是,因为阳极电极112的电极端部112a、b、弯曲部112d以及接触插头112c的开口边缘部11 为棱角形状,所以电场容易集中,有时会发生亮度不均。具体而言,当对阳极电极112施加电压时,电场集中在曲率半径小的电极端部112a、b等,会在有机发光材料 133中局部地流动电流。局部的电流会导致发光面内的亮度不均、由局部劣化引起的短寿命化这样的问题。尤其是,电极端部112a、b比弯曲部112d和开口边缘部11 更易于电场集中,所以由第二提岸121覆盖电极端部112a、b的必要性高。此外,电极端部llh、b使得在堆积有机发光材料的区域产生台阶,所以在该台阶部分有机发光材料133的膜中断,有时会出现电极端部112a、b等与阴极电极114接触而发生短路的情况。此外,在弯曲部112d和开口边缘部11 也由于难以控制有机发光材料133的膜厚,所以与电极端部llh、b同样,有时会出现电极端部llh、b与阴极电极114接触而发生短路的情况。由此,覆盖电极端部112a、b、弯曲部112d以及开口边缘部11 的重要性很高。与此相对,在本实施方式的图像显示部10中,如图3所示,由绝缘性的第二提岸 121覆盖阳极电极112的电场易于集中的部分以及容易发生短路的部分。由此,使得在有机发光材料129中没有电流流动,防止了局部的电流流动而产生亮度不均等、以及发生短路。如上所述,由第二提岸121在Y轴方向排列的多个像素部100间隔断会产生亮度不均和短路的区域的电流路径,由此形成这些多个像素部100各自的Y轴方向上的边界。上述的由于电场集中引起的亮度不均以及短路的发生,在没有形成凹部122的情况下也是同样的。这是因为不管是否有凹部122,电极端部122a、b以及接触插头112c的开口边缘部11 由于曲率半径小、有机发光层133的膜厚分布不稳定,所以都会使得电场容易集中。然而,在本实施方式的显示面板1中,因为形成凹部122、在该凹部122内配置电极端部112a、b,所以形成弯曲部112d。虽然该弯曲部112d中的电场集中是由于形成箱形部123而产生的问题,但通过由第二提岸121覆盖弯曲部112d,防止了由于电场集中而使电流局部流动。此外,上述的情况也适用于阳极电极112的X轴方向上的电极侧部112f,该电极侧部112f由绝缘性的第一提岸111覆盖。此外,通过由第一提岸111覆盖电极侧部112f,也防止了泄漏电流通过有机发光层113与第一提岸111的界面在与阴极电极114之间流动。在本实施方式中,由电极端部112a、b的至少一方形成所述“像素电极层的端部的一部分”。5.制造方法以下说明上述显示面板1的制造方法。图7 图10中左右并列地示意性示出图像显示部10制造时的Χ1-ΧΓ剖面和 X2-X2’剖面。此外,图11、图12示意性地示出显示面板1制造时的Y2-Y2’剖面。在图7 图10中,将X1-X1,剖面表示于(al)等,将X2-X2,剖面表示于(a2)等。 有时将(al)等和(a2)等简单地略记为(a)等。在图7 图12中,省略基板101的图示, TFT层102省略了 SD电极106以外的图示。此外,关于Y1-Y1,剖面,由于能够容易地从其他附图以及本实施方式的说明中推测出,所以省略图示。在上述图中,有时以涂白图示了处于切断面的里侧的提岸111、121的侧面、凹部122的侧面等。这是为了易于理解地表示第一提岸111和第二提岸121的高度的不同。(1)平坦化膜形成工序如图7(a)、(b)所示,在TFT层102上涂敷了由正型的感光性材料构成的抗蚀 (resist)膜137后,使用多色调掩模140进行曝光。然后,在显像处理中,被照射了光的部分(曝光部分)被除去,形成凹部123和接触孔部125。然后,进行烧成处理(烘焙处理)。抗蚀膜137由旋涂法等液层制膜法来涂敷,通过掩埋TFT层102上的凹部来使表
24面平坦化。也可以使用狭缝式涂敷(slit coat)法、喷涂(spraycoat)法、辊涂(roll coat) 法、模具涂敷(die coat)法、浸涂法等液层制膜法来涂敷。用于曝光处理的多色调掩模140包括使光透射的透光部141、使透射光减弱的半透光部142、和遮挡光的遮光部143。对于半透光部142配置与曝光机的解析度 (resolution)相比充分细微的图案,有通过调整每单位面积上配置的微细图案的数量来调整透射率的方式、或者通过层叠具有任意的透射率的膜来调整透射率的方式等,由这样的半透光部142来实现中间曝光。特别是,在以RGB为单位使凹部123的深度不同时,多色调掩模140优选配置与曝光机的解析度相比充分细微的图案、调整每单位面积上配置的微细图案的数量来调整透射率的方式。Χ1-ΧΓ剖面与像素区域100a对应,由于不形成凹部122,所以由遮光部143遮光。 其结果,如图7 (bl)所示,维持了平坦面103a。另一方面,关于X2-X2’剖面、Y2-Y2,剖面, 分别将图7(a2)、(b2)、图11(a)、(b)对比可知,透光部141与接触孔部125的形成区域对应,半透光部142与箱形部123的形成区域(接触孔部125的形成区域以外的区域)对应。 在本实施方式中,因为接触孔部125的形成区域与箱形部123的形成区域重叠,所以上述半透光部142与箱形部123的形成区域中的、接触孔部125的形成区域以外的区域对应。在显像处理中,被照射了通过透光部141的强光的部分被除掉,形成贯通平坦化膜103的孔、即接触孔部125。此外,被照射了通过半透光部142的弱光的部分(除去接触孔部125的形成区域)被除掉,平坦化膜103的上面凹陷,形成箱形部123。在钝化膜107(参照图幻,在涂敷抗蚀膜137之前,通过光刻处理(曝光、显像、蚀刻处理等),形成与接触孔部125连通的开口部。或者不形成钝化膜107。通过烧成处理,例如残留在抗蚀膜137上的溶剂等被除去,所形成的形状稳定,并且提高了与TFT层102的密合性。在此,对曝光处理与凹部122的形状的关系进行简单说明。箱形部123和接触孔部125被设为向上方直径扩大的形状。这是因为通过了透光部141和半透光部142的光由于衍射而扩散引起的。具体进行说明。例如,在透光部141中直行的光较强,一直到达抗蚀膜137的最深部,但衍射的光较弱,所以只能到达抗蚀膜137的中间或表面。特别是,与直行光的角度差越大则光的强度越弱。其结果,对应于透光部141的部分在抗蚀膜137的下面侧开口,在其周围,抗蚀膜137的厚度逐渐增加从而形成倾斜面。上述情况,对箱形部123来说也是同样的。也可以认为形成于作为绝缘保护膜的钝化膜107的开口部为接触孔的一部分。在该情况下,可以认为凹部122具有接触孔中除去了上述开口部的部分的功能。(2)阳极电极形成工序图8 (a) (e)、图11(c) (g)中示出形成阳极电极112的处理。首先,在平坦化膜103上通过例如溅射法、真空蒸镀法等形成Ag和ITO等的薄膜 149(图 8 (a)、图 11(c))。接着,在薄膜149上涂敷正型的抗蚀剂150,使用单色调掩模151进行曝光(图 8(b)、图11(d))。单色调掩模151包括使光透射的透光部152和遮挡光的遮光膜部153。通过该单色调掩模151,抗蚀剂150的曝光部分成为格子形状。
然后,通过显像、烧成处理将抗蚀剂150形成预定的图案(图8(c)、图11(e))。此时,抗蚀剂150,俯视观察,成为由格子形状的槽155划分、多个矩形部分以行列状排列的形状。然后,通过干式蚀刻处理(或者湿式蚀刻处理),除掉薄膜149的没有被抗蚀剂 150覆盖的格子形状的部分,形成俯视为矩形的阳极电极112 (图8 (d)、图11 (f))。然后,除掉抗蚀剂150(图8(e)、图11(g))。(3)提岸形成工序对在平坦化膜103和阳极电极112上形成提岸的提岸形成工序进行说明。在形成有阳极电极112的平坦化膜103上涂敷由正型的感光性树脂材料构成的提岸材料,使用单色调掩模161进行曝光(图9 (a)、图12 (a))。在提岸材料的涂敷中,例如使用旋涂法等在平坦化膜103上以大概均一的厚度堆积提岸材料层160。并且,提岸材料层160,其像素区域IOOa中的厚度与凹部123内的厚度为相同程度,提岸材料层160的上面形状形成为与平坦化膜103的上面形状大概类似的形状。可以在形成凹部122等、存在凹部的部分有些厚度变化。在提岸材料的涂敷中,也能够使用例如喷涂(spray coat)法、辊涂(roll coat)法、模具涂敷(die coat)法、浸涂法、狭缝式涂敷(slit coat)法等。单色调掩模161包括使光透射的透光部162和遮挡光的遮光部163。在本实施方式中,因为提岸材料层160由正型的感光性材料构成,所以将形成第一提岸111、第二提岸 121的部分遮光,将光照射到提岸111、121以外的部分。接着,通过显像处理除掉像素区域100a上的提岸材料层160,对剩余部分进行烧成处理(图9(b)、图12(b))。这样,同时形成第一提岸111和第二提岸121。关于对上述第二提岸121的曝光和烧成,在图13(a)、(b)中示意性地示出并进行说明。图13(a)、(b)分别与图12(a)、(b)对应。如图13(a)所示,遮光部163与比箱形部123稍大的区域对应。这是为了在比箱形部123稍大的区域上形成第二提岸121,由第二提岸121覆盖弯曲部112d。与所述的图7 (a2)、(b2)的曝光处理与凹部122的形状的关系同样,通过了透光部 162的光由于衍射而扩散(图13(a)中P、Q的箭头),强度弱地照射提岸材料层160中位于遮光部162下方的部分。通过对凹部侧面160a的上端160b照射衍射光,能够更可靠地使第二提岸121的高度比第一提岸111的高度低。通过上述曝光后的显像处理,得到图13(b)所示的第二提岸121的未烧成体166。 然后,在烧成处理中,未烧成体166变形,像素区域100a侧的倾斜面166a的倾斜角度变小 (直线R),形成第二提岸121。在该烧成处理中,未烧成体166的表面部分熔融,该熔融部分与像素电极112密合而成为正锥形形状。此外存在如下情况通过烧成处理,进一步向像素区域100a侧(箱形部123的外侧)稍微流动,未烧成体166(或者第二提岸121)有时会在 Y轴方向上扩展。在上述曝光、显像处理中,通过在凹部122的上方形成第二提岸121,使得第二提岸121比第一提岸111低。此外,通过使第二提岸121比箱形部123宽大,由第二提岸121 覆盖阳极电极112的弯曲部112d。在曝光处理中,若使直线P、Q比提岸材料层160的凹部开口边缘160b靠下方,则基本能够可靠地使第二提岸121比第一提岸111低。通过使第二提岸121比第一提岸111低,在后述的印刷处理中,能够使得含有有机发光材料的墨越过第二提岸121而流动。在第一提岸111的高度不一致的情况下,只要第二提岸121的高度比第一提岸111 的最小的高度低即可。此外,为了使刚刚滴下之后墨172的流动更顺畅,优选将第二提岸 121的高度设为第一提岸111的高度的80%以下。提岸111、121的高度设为以平坦化膜 103的平坦面103a为基准的高度。在本实施方式中,第二提岸121的高度被设为第一提岸 111的高度的30%以上且60%以下。在提岸111、121的形成中,为了使得用于形成有机发光层113的墨不漏出到相邻的像素部100,至少表面的一部分被设为具有拨液性。(4)有机发光层形成工序对有机发光层113的形成工序进行说明。在有机发光层113的形成中使用喷墨法。图10(a)、图12(c)中示出印刷装置的喷墨头170。喷墨头170在X轴方向上延伸,一边沿Y轴方向移动,一边从多个喷嘴171将含有有机发光材料的墨172滴到第一提岸111之间。从各喷嘴171中射出对应颜色的墨172。涂敷的墨172由于其表面张力而在第一提岸111之间隆起,成为上面弯曲的状态 (图10(b))。第一提岸111为拨液性的,涂敷的墨172被排拒而难以超过第一提岸111。这是由于在X轴方向上相邻的像素区域IOOa涂敷彼此不同颜色的墨172,所以要避免其超过第一提岸111而使不同颜色的墨172混合。此外,涂敷的墨172超过第二提岸121,以在Y轴方向上相连的状态存留(图 12(d))。并且,因为墨172能够在Y轴方向上流动,所以在Y轴方向上排列的多个像素区域 IOOa上涂敷的墨量均勻。当对涂敷的墨172进行干燥时,形成预定厚度的有机发光层113(图10(c)、图 12(e))。此外,虽然在第二提岸121的凹部127内堆积了有机发光材料129,但如前所述不发光。(5)阴极电极形成工序等对形成阴极电极114的工序进行说明。通过溅射法、真空蒸镀法等使阴极材料堆积在有机发光层113等上,形成阴极电极114(图10(c)、图12(e))。可以在阴极电极114的层上通过真空蒸镀法制作密封膜,也可以在阴极电极114的层与配置在阴极电极114的层上的密封基板之间封入树脂作为密封膜,也可以在阴极电极114的层与配置在阴极电极114的层上的密封基板之间封入惰性气体(省略图示)。在本实施方式中,平坦化膜形成工序相当于所述“第一工序”。此外,提岸形成工序相当于所述“第二工序”。6.作用效果本实施方式的显示面板1,设为通过线状的第一提岸111将多个像素部100呈条状划分的线提岸方式。形成划分多个像素部100的第二提岸121,其高度比第一提岸111低。 由此,在形成有机发光层113的情况下,涂敷的墨172能够超过第二提岸121而流动,在Y 轴方向上排列的多个像素区域IOOa中,墨172的涂敷量变得均一(图12(d))。在墨172不能超过第二提岸121的情况下,需要调节各像素区域IOOa上墨172的涂敷量,会存在各像素区域IOOa的涂敷量不均的情况。此外,因为墨172能够超过第二提岸121而流动,所以容易调节干燥后的有机发光层113的膜厚。例如,在墨172不能超过第二提岸121的情况下,即便将滴到各像素区域 IOOa的墨172的液滴数只增加或减少一滴,有机发光层113的膜厚也会发生较大变化,会难以设为目标厚度。与此相对,在本实施方式的显示面板1中,通过调节凹部122的容积,调节堆积在第二提岸121的凹部127的有机发光材料129的体积,能够对有机发光层113的膜厚进行微调。此外,在本实施方式的显示面板1中,在平坦化膜103形成凹部123,在该凹部123 上形成第二提岸121,由此即使在第一提岸111和第二提岸121的曝光量不变化,也能够同时形成高度不同的第一提岸111和第二提岸121。因此,在对提岸111、121曝光时,多色调掩模140的使用不是必须的,不需要选择适合于多色调掩模140的提岸材料。由此,增加了提岸材料的选择项,提岸材料的限制变少。可以使用多色调掩模140、且在凹部123上形成第二提岸121。通常使用多色调掩模在平坦化膜103形成深度不同的孔,因此同时形成在平坦化膜103必然形成的接触孔和凹部很容易。即,能够在不增加制造工序数量的情况下同时形成彼此高度不同的两个提岸111、121。在本实施方式中,凹部122具有接触孔部125,凹部 122具备接触孔的功能。此外,在本实施方式的显示面板1中,阳极电极112不仅在像素区域IOOa还延伸凹部123。阳极电极112的配置在凹部123内的部分被第二提岸121覆盖,因此不会使有机发光层113发光。然而,假设电极端部112b位于像素区域100a,则在为了防止局部的电流 (或者短路)而由第二提岸121覆盖了电极端部112b的情况下,可能会减少阳极电极112 的露出面积。其结果使得能有效发光的面积减小。与此相对,在本实施方式中,通过将电极端部112a、b配置于凹部123,阳极电极 112的露出面积变得不容易减少,能有效发光的面积就变大。由于将电极端部llh、b配置于凹部123,从而在阳极电极112形成沿凹部123的开口边缘的弯曲部112d,但因为第二提岸121比凹部123宽大,所以弯曲部112d被第二提岸121覆盖,防止了在发光层局部的电流流动。此外,在本实施方式的显示面板1中,俯视观察,在形成凹部122的区域内形成接触孔部125。若凹部和接触孔形成在不同的区域,则像素区域IOOa会变窄,通过将接触孔部 125形成在凹部122内,能够抑制像素区域IOOa的减小。(变形例1)第二提岸121的凹部127的形状,能够通过改变箱形部123的形状而容易地变化。 图14、图15中分别示出通过改变箱形部123的深度、面积而改变了第二提岸121的凹部127 的深度D、面积W的例子。通过改变凹部127的深度、面积,能够使凹部127的容积(内部空间的体积)变化,使堆积于凹部127的有机发光材料129的量增减。在凹部127上虽然堆积有机发光材料129,但不供给电流,所以不会有助于发光。 但是,通过改变堆积于凹部127的有机发光材料129的量,能够调节有机发光层113的膜厚。例如,在按红、绿、蓝各颜色调节有机发光层113的膜厚的情况下,即使不改变各色的墨 172的滴下量,也能够通过预先使凹部127的体积按各颜色不同,从而按各颜色调节有机发光层113的膜厚。并且,通过按各颜色调节有机发光层113的膜厚,能够容易地进行与发光色对应的亮度、色度调整。也可以不必使所有三种颜色的有机发光层113的膜厚按各颜色都不相同,例如可以使三种颜色中的两种颜色的有机发光层113的膜厚相等。为了使箱形部123的深度不同,例如可以在多色调掩模140上设置透射率彼此不同的多个半透光部142。并且,以透射率高的半透光部与形成深凹部的部分对应、透射率低的半透光部与形成浅凹部的部分对应的方式形成多色调掩模。通过使用该多色调掩模来进行曝光、显像处理,能够同时形成深度不同的凹部。在使凹部深的情况下,可以贯通平坦化膜 103。为了使箱形部123的宽度不同,例如可以改变多色调掩模140的半透光部142的宽度。也可以按各颜色使箱形部123的深度和宽度这双方不同。在本变形例中,箱形部123的深度和/或宽度变化,但接触孔部125的下侧开口部的大小和形状没有变化。由此,不会使阳极电极与TFT层102的导电性变化。(变形例2)第二提岸121,在Y轴方向的端部的像素区域IOOa侧的倾斜面121b上,规定了有机发光层113的Y轴方向上的侧面。可以按红、绿、蓝各颜色使该倾斜面121b的倾斜角度不同。图16 (a)、(b)、(c)中分别示出使倾斜面121b的倾斜角度不同、为θ 1 θ 3的例子。通过调节相对于箱形部123的、第二提岸121的Y轴方向的长度,来调整倾斜面 121b的倾斜角度。例如,如图16(a)所示,在缩短第二提岸121的Y轴方向的长度、减小了俯视观察在Y轴方向上从箱形部123伸出的量的情况下,由提岸的烧成处理(参照图13(b)) 引起的上述说明过的变形的程度变大,烧成后的倾斜面121b的倾斜角度变小。反过来,如图16(c)所示,在加长第二提岸121的Y轴方向的长度、增大了俯视观察在Y轴方向上从箱形部123伸出的量的情况下,由烧成处理引起的变形的程度变小,烧成后的倾斜面121b的倾斜角度变小。在图16(b)中,从箱形部123伸出的伸出量为处于(a)与(c)中间的大小, 倾斜面121b的倾斜角度也为处于(a)与(c)中间的大小。由图中的直线M1、M3在视觉上表现出(a)与(c)中的从箱形部123伸出的伸出量的不同。通过将倾斜面121b的倾斜角度设为适于各色的墨172的角度,能够防止例如干燥后形成的有机发光层113的膜厚变得不均一的情况等,能够使有机发光层113的形状为适当的形状。具体进行说明。刚刚滴到多个像素区域IOOa上等的墨172以在Y轴方向相连的状态存留(参照图12(d))。但是,在随着干燥的进行,存留的墨172的上面高度变为第二提岸121以下的情况下,各像素区域IOOa上的墨172与第二提岸121的凹部127上的墨172 分离。并且,在第二提岸121的倾斜面121b具有拨液性、且干燥中途的墨172还残留有流动性的情况下,各像素区域IOOa上的墨172的上面由于其表面张力而弯曲。通过适当地设置倾斜面121b的倾斜角度,能够使该弯曲的程度适当,由此能够使干燥后的有机发光层 113的形状变为适当的形状。倾斜面121b的倾斜角度例如能够基于各色的墨172的粘性和/或表面张力来确定。与所有三种颜色的有机发光层113对应的倾斜面121b的倾斜角度不必互不相同,可以使两种颜色的倾斜面121b的倾斜角度相同。即,能够根据各色使用的墨172的特性而设定适当倾斜角度,所以能够使用的墨的选择项增加。在日本特开2007-311235号公报中,通过在提岸表面形成亲液性的突状部,从而控制墨的锁住(pinning)位置,防止了有机发光层的膜厚变得不均一。与此相对,在本变形例的显示面板1中,通过改变倾斜面121b的倾斜角度,从而控制墨的锁住位置,能够防止有机发光层的膜厚变得不均一。(变形例3)在上述实施方式中,在阳极电极112与阴极电极114之间夹有有机发光层113。进而,可以在阳极电极112与有机发光层113之间插入空穴注入输送层,在有机发光层113与阴极电极114之间插入电子注入层。图17中示意性地示出图1中的A-A’剖面。本变形例的图像显示部200,在阳极电极112上层叠形成空穴注入输送层201,在有机发光层113上层叠形成电子注入层202。空穴注入输送层201具有使空穴稳定、或者辅助生成空穴,对有机发光层113注入和输送空穴的功能,具有大的功函数。该空穴注入输送层201能够由例如银(Ag)、钼(Mo)、 铬(Cr)、钒(V)、钨(W)、镍(Ni)、铱(Ir)等氧化金属形成。在此,在由过渡金属的氧化物构成空穴注入输送层201的情况下,能够取得多种氧化价数,由此可以取得多个能级,其结果,空穴注入变得容易,能够降低驱动电压。关于空穴注入输送层201,除了由上述的金属氧化物形成以外,还可以使用PEDOT(聚噻吩与聚丙乙烯磺酸的混合物)、酞菁系、三芳基胺系、三苯基胺系等来形成。在所述阳极电极形成工序之后、提岸形成工序之前,进行空穴注入输送层201的形成。并且,通过溅射法、真空蒸镀法等在平坦化膜103和阳极电极112上形成空穴注入输送层201。在由氧化金属形成空穴注入输送层201的情况下,可以在平坦化膜103和阳极电极112上制作金属膜,对该金属膜进行氧化,从而形成空穴注入输送层201。电子注入层202具有将从阴极电极112注入的电子向有机发光层113输送的功能,例如优选由钡、氟化锂等形成。在有机发光层形成工序之后、阴极电极形成工序之前,进行电子注入层202的形成。并且,通过真空蒸镀法等在有机发光层103和提岸111、121上形成上述材料的膜。在本变形例的图像显示部200中,同样也可以在提岸形成工序中,通过在凹部122 的上方形成第二提岸121,由此即使在第一提岸111和第二提岸121的曝光量不变化,也能够同时形成高度不同的第一提岸111和第二提岸121。由此,能够起到所述实施方式所记载的作用效果。此外,本变形例的图像显示部200具有空穴注入输送层201和电子注入层 202,能够控制向有机发光层113的电荷(空穴、电子)的供给平衡,使发光效率更高。在本变形例中,空穴注入输送层201以覆盖平坦化膜103的整个面的方式形成,但也可以仅在阳极电极112上形成。此外,在阳极电极112为反射电极的情况下,可以在阳极电极112与空穴注入输送层201之间插入由ITO(氧化铟锡)膜等构成的电极覆盖层。此外,在本变形例中,可以省略电子注入层202。在本变形例中,箱形部的底面比第一提岸111 的底面低,而且比在第一提岸111的顶面Illb下方的空穴注入输送层201的下面低。(变形例4)
在所述实施方式和变形例中,凹部122具有箱形部123和接触孔部125。也可以将该箱形部123加深直到在平坦化膜的下面侧开口,使得凹部122的容积最大。图18是表示本变形例中的显示面板的剖面(相当于图2的B-B’剖面)的图。在本变形例中,除了平坦化膜和第二隔壁的形状以外,大部分与所述实施方式相同,因此对相同的构成部分标记与所述实施方式相同的标号,对不同的构成部分进行说明。在平坦化膜253形成大致四棱锥台形状的凹部272。该凹部272的上侧开口部的形状与所述实施方式的凹部122相同。凹部272的底面27 由钝化膜107的上面形成。此外,在凹部272的四个侧面272b、c(图18中仅代表性地示出侧面272b)都没有形成台阶, 凹部272为从上侧开口部向下侧开口部连续地直径缩小的形状。形成有底面27 的区域被设为所述“除去了平坦化膜的区域”。上述凹部272,可以通过在所述图7(a2)、(b2)以及图11 (a)、(b)的工序中,在大概与底面27 相当的区域上照射透光部141的光,然后进行显像而形成。即,即便不使用多色调掩模,也能够通过使用了单色调掩模的曝光处理来形成凹部272。如在所述图7 (a2)、 (b2)的工序中说明的那样,由于曝光处理中的光的衍射,侧面272b、c倾斜,凹部272成为朝向下方直径缩小的形状。此外,配置在凹部272内的阳极电极沈2,穿过钝化膜107的开口 107a,在接触部 262g与SD电极106连接。这样,本变形例的凹部272,俯视观察,形成在与接触部重叠的区域,兼具作为接触孔的功能。本变形例中,凹部272由箱形部273构成,箱形部273兼具作为接触孔的功能,所以可以认为是将箱形部和接触孔部一体化的形态。并且,在本变形例中,所述“形成有接触孔的区域”,相当于俯视观察形成有接触部的区域。第二提岸271为沿着凹部272的底面27 和侧面272的形状。此外,与所述实施方式的第二提岸121同样地形成突出部271a和倾斜面271b。由于凹部272变深,第二提岸271的上部的凹部277的容积变得比所述实施方式的凹部127大。其结果,堆积于凹部 277的有机发光材料279的体积变得比所述实施方式的有机发光材料129的体积大。在图中,有机发光层113的膜厚设得与所述实施方式相同,但在使墨的涂敷量相等的情况下,本变形例的有机发光层的膜厚比所述实施方式中的有机发光层的膜厚薄。第二提岸271的形成以及有机发光层113的形成与所述实施方式相同。在本变形例中,能够使用单色调掩模对具有凹部272的平坦化膜253进行曝光,容易进行平坦化膜253的形成。此外,因为能够尽可能地增大凹部272的容积,所以适于想要增大堆积于凹部277的有机发光材料279的体积的情况。在本变形例中,如图18所示,凹部272的四个侧面272b、c(图中,代表性地示出侧面272b)分别被设为平面,但并不限于此。即,凹部272的侧面可以至少一部分是曲面。也可以凹部272的整个侧面是曲面,例如可以将凹部设为碗状的形状。(变形例5)在所述实施方式和变形例中,凹部122等在X轴方向上进入到第一提岸111的侧面Illa下方,但也可以设为不进入到第一提岸111下方的方式。图19(a)、(b)是示出本变形例中的显示面板的剖面(分别与图4的Χ1_ΧΓ剖面、 Χ2-Χ2’剖面相当)的图。在该图中,省略了有机发光层和阴极电极的图示。
31
在本变形例中,除了平坦化膜和第二隔壁的形状以外,大部分与所述实施方式相同,因此对相同的构成部分标记与所述实施方式相同的标号,对不同的构成部分进行说明。在本变形例中,在X轴方向上,凹部422的边缘部(侧面423c的上端)在第一提岸411的侧面411a的下端位置终止,没有进入到第一提岸411下方。因此,在第二提岸421 中,在中央形成比第一提岸411低的低部451,在X轴方向的端部形成与第一提岸411相同高度的高部452。其结果,低部451的X轴方向上的长度比所述实施方式的第二提岸121短。 在这一点上,从提高墨的流动性的观点来看,比所述实施方式的第二提岸121差。但是,在更稳定地确保第一提岸411的顶面411b的高度这一点上,比所述实施方式好。此外,在本变形例中,凹部422的容积变小,但接触孔部425的大小与所述实施方式相同,箱形部423的容积减小。此外,伴随箱形部423的容积减小,第二提岸421的上部的凹部427的容积也变小。第一提岸411与第二提岸421之间的边界不明确,但对第一提岸411中与像素区域IOOa相邻的部分进行了延长的部分为第一提岸411,在图19(b)中,以虚线示出第一提岸 411的侧面411a。此外,在图19(b)中,除第一提岸411以外的部分为第二提岸421。也可以将所述高部452认为是第一提岸411的构成要素。在该情况下,可以认为 在本变形例中,第一提岸411的宽度(X轴方向上的长度)并不是一定的,在与第二提岸421 相邻的部分变得宽。在这样认为的情况下,变为凹部422的缘部进入到第一提岸411的侧面411a的下方的方式。(其他)1.在上述实施方式及其变形例中说明的显示面板1,例如被用于电视显像器等显示装置。图20中示出具备显示面板1的有机电致发光显示装置500(以下,简记为显示装置500)。此外,图21中示出表示显示装置500的主要结构的框图。显示装置500,除显示面板1以外,还具备调谐器510、外部信号输入部511、图像处理部512、声音处理部513、控制部514、以及向显示面板1供给电力的电源线供给部515。此外,在显示装置500的内部或外部连接有扬声器516。在显示装置500中,由调谐器510接收到的信号通过省略了图示的解调/分离电路分离为图像信号和声音信号,分别被传送到图像处理部512和声音处理部513。在图像处理部512中,对图像信号进行合成(复合)来生成帧图像信号,按预定周期依次传送到显示面板1。显示面板1的控制电路25基于帧图像信号,至少控制信号线驱动电路21和扫描线驱动电路23,使图像显示部10依次显示一帧的图像。声音处理部513对声音信号进行合成以及放大,输出到扬声器516。在外部信号输入部511,连接有例如DVD录像机520等外部的图像再生设备,向该外部信号输入部511输入该图像再生设备的图像信号、声音信号。图像处理部512、声音处理部513根据控制部514的指令,选择调谐器510和外部信号输入部511中的任一方的信号,将其输出至显示面板1等。控制部514 具备 CPU (Central Processing Unit,中央处理单元)、R0M、RAM 等,根据由省略图示的遥控器和/或操作开关等输入的动作指令,控制各构成,实现显示装置500 的各种动作。上述显示装置500具备所述实施方式及其变形例中记载的显示面板1,由此能够起到与所述实施方式等同样的作用效果。2.在上述实施方式和变形例1 3中,为了易于理解地说明本发明的构成和作用 /效果而采用作为一例的各构成,本发明除了本质的部分,不限定于上述方式。例如,在上述实施方式中,如图2所示,作为一例,采用了相对于有机发光层113在其Z轴方向下侧配置阳极电极112的结构,但本发明不限定于此,也可以采用相对于有机发光层113在其Z轴方向下侧配置阴极电极114这样的结构。3.在上述实施方式和变形例1 5中,可以设为阳极电极112为反射金属、阴极电极114为透明或半透明金属的顶部发光构造,也可以设为阳极电极112为透明或半透明金属、阴极电极114为反射金属的底部发光(bottom emission,底部发射)构造。4.在上述实施方式和变形例1 5中,以在基板上具有TFT层102的有源矩阵驱动为前提进行了说明,但本申请也可以适用于无源矩阵驱动。在该情况下,不需要TFT层, 可以通过用于驱动有机发光层的驱动配线来向有机发光层供给电流。产业上的利用可能性本发明在实现亮度不均少、具有高画质性能的显示装置方面有用。
权利要求
1.一种有机电致发光显示面板,具备 平坦化膜,其使驱动配线层的上方平坦化;一组隔壁,其形成在所述平坦化膜的上方,规定呈列状配置的多个像素部的各自的侧面;以及有机发光层,其形成在存在于所述一组隔壁之间的所述多个像素部, 所述平坦化膜具有凹部,所述凹部沿与所述一组隔壁交叉的方向横穿成为所述多个像素部的各自的边界的区域而形成;以及预定的隔壁,所述预定的隔壁由与所述一组隔壁相同的材料构成,与所述一组隔壁连结,在所述平坦化膜的凹部的上方跟随其内部形状而形成,比所述一组隔壁低。
2.根据权利要求1所述的有机电致发光显示面板,形成在所述平坦化膜的所述凹部的底面比所述一组隔壁的底面低。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的有机电致发光显示面板,在所述平坦化膜与所述有机发光层之间,与所述多个像素部的各自对应地夹着像素电极层,所述像素电极层的端部的一部分配置在形成于所述平坦化膜的凹部, 所述预定的隔壁覆盖了配置在形成于所述平坦化膜的凹部的所述像素电极层的端部的一部分。
4.根据权利要求1 3的任一项所述的有机电致发光显示面板, 形成于所述平坦化膜的凹部没有形成在所述一组隔壁的下方。
5.根据权利要求1 3的任一项所述的有机电致发光显示面板,形成于所述平坦化膜的凹部,以其边缘部进入到所述一组隔壁的各自的侧面位置的下方的状态而形成。
6.根据权利要求1 5的任一项所述的有机电致发光显示面板, 所述一组隔壁形成为线状。
7.根据权利要求1 6的任一项所述的有机电致发光显示面板,形成于所述多个像素部的有机发光层是由同一颜色的发光材料构成的有机发光层。
8.根据权利要求3所述的有机电致发光显示面板,所述平坦化膜具有连接所述像素电极层与所述驱动配线层的接触孔, 所述凹部形成在与形成有所述接触孔的区域在上下方向上重叠的区域。
9.根据权利要求8所述的有机电致发光显示面板, 在所述凹部的内部存在除去了所述平坦化膜的区域, 所述接触孔至少被设置在除去了所述平坦化膜的区域, 所述像素电极层与所述驱动配线层经由所述接触孔而接触。
10.根据权利要求8或权利要求9所述的有机电致发光显示面板,在所述驱动配线层的上面与所述平坦化膜的下面之间具有绝缘保护层, 所述绝缘保护层,在形成有所述接触孔的区域中具有开口部, 所述绝缘保护层的开口部的面积比所述凹部的面积小。
11.根据权利要求1 10的任一项所述的有机电致发光显示面板,所述凹部具有在平坦化膜的上面侧开口的上侧开口部、和在下面侧开口的下侧开口部,所述凹部为随着从所述上侧开口部接近所述下侧开口部而连续或阶段性地直径缩小的形状。
12.根据权利要求8所述的有机电致发光显示面板,形成有所述凹部的上侧开口部的俯视区域,比形成有所述接触孔的俯视区域大、且与形成有所述接触孔的俯视区域的整体重叠。
13.根据权利要求1 12的任一项所述的有机电致发光显示面板,所述一组隔壁至少存在三组,对于所述至少三组隔壁中的三组隔壁,红色、绿色、蓝色各对应着一组隔壁, 在各组隔壁之间设置有所述有机发光层、所述凹部和所述预定的隔壁。
14.根据权利要求13所述的有机电致发光显示面板, 将形成于所述平坦化膜的凹部设为第一凹部,所述预定的隔壁,通过跟随所述第一凹部的内部形状而凹陷,从而在上部形成第二凹部,在所述第二凹部堆积有与所述有机发光层同样的有机发光材料, 形成于所述三组隔壁中的一组隔壁之间的第一凹部和第二凹部,其容积与形成于其他两组隔壁之间的第一凹部和第二凹部不同。
15.根据权利要求13所述的有机电致发光显示面板, 将形成于所述平坦化膜的凹部设为第一凹部,所述预定的隔壁通过跟随所述第一凹部的内部形状而凹陷,从而在上部形成第二凹部,在所述第二凹部堆积有与所述有机发光层同样的有机发光材料, 形成于所述三组隔壁中的一组隔壁之间的所述第二凹部,其面积与形成于其他两组隔壁之间的所述第二凹部不同。
16.根据权利要求13所述的有机电致发光显示面板, 所述凹部,具有上部凹部,其形状为随着从在平坦化膜的上面侧开口的上侧开口部向在下面侧开口的下侧开口部接近而连续地直径缩小;和下部凹部,其形状为随着从所述下侧开口部向所述上侧开口部接近而连续地直径扩大,并且,在所述上部凹部与所述下部凹部之间存在台阶,所述像素电极层,从所述像素部延伸到所述凹部内而形成,通过所述下侧开口部与所述驱动电极层电连接,形成于所述三组隔壁中的一组隔壁之间的所述上部凹部和所述第二凹部,各自的深度或面积分别与形成于其他两组隔壁之间的所述上部凹部和所述第二凹部不同,并且,形成于所述三组隔壁之间的所述下部凹部的所述下侧开口部为彼此相同的形状。
17.根据权利要求13所述的有机电致发光显示面板,所述预定的隔壁,具有在所述三组隔壁的延伸方向上规定所述有机发光层的侧面的倾斜面,形成于所述三组隔壁中的一组隔壁之间的预定的隔壁的倾斜面的倾斜角度,与形成于其他两组隔壁之间的预定的隔壁的倾斜面的倾斜角度不同。
18.根据权利要求3所述的有机电致发光显示面板, 在所述像素电极层中配置在所述凹部的开口边缘的部分弯曲,所述预定的隔壁,形成在比所述凹部面积大的区域,在所述一组隔壁的延伸方向上覆盖所述像素电极层弯曲的部分。
19.根据权利要求1 18的任一项所述的有机电致发光显示面板, 所述驱动配线层为薄膜晶体管层。
20.根据权利要求3所述的有机电致发光显示面板,所述像素电极层由金属、半导体、或者金属以及半导体构成。
21.一种有机电致发光显示装置,具备权利要求1至权利要求20的任一项所述的有机电致发光显示面板。
22.—种有机电致发光显示面板的制造方法,包括第一工序,在薄膜晶体管层的上方形成平坦化膜,使所述薄膜晶体管层的上方平坦化;第二工序,在所述平坦化膜的上方形成一组隔壁,所述一组隔壁规定呈列状配置的多个像素区域的各自的侧面;以及第三工序,在存在于所述一组隔壁之间的所述多个像素区域中形成有机发光层, 在所述第一工序中,在所述平坦化膜形成凹部,所述凹部沿与所述一组隔壁交叉的方向横穿成为所述多个像素部的各自的边界的区域而形成,在所述第二工序中,形成预定的隔壁,使所述预定的隔壁跟随所述平坦化膜的凹部的内部形状、且形成为比所述一组隔壁低的形状,所述预定的隔壁由与所述一组隔壁同样的材料构成、与所述一组隔壁连结。
23.根据权利要求22所述的有机电致发光显示面板的制造方法, 在所述第二工序中,在所述平坦化膜上涂敷形成所述一组隔壁和所述预定的隔壁的隔壁材料, 经由留下所述一组隔壁和所述预定的隔壁的掩模图案,使所述隔壁材料曝光, 所述预定的隔壁,通过跟随所述平坦化膜的凹部的内部形状而进入到所述凹部的内部,从而成为比所述一组隔壁低的高度。
24.根据权利要求23所述的有机电致发光显示面板的制造方法,在所述第二工序中,留下所述预定的隔壁的掩模图案是留下比形成于所述平坦化膜的凹部的俯视区域大的掩模图案。
25.根据权利要求22所述的有机电致发光显示面板的制造方法, 在所述第一工序中,经由在所述平坦化膜形成所述凹部的掩模图案使所述平坦化膜曝光, 在所述平坦化膜形成所述凹部的掩模图案是具有光的透射率相互不同的多个透光区域的多色调掩模图案。
26.根据权利要求25所述的有机电致发光显示面板的制造方法,在所述第一工序中,通过所述多色调掩模图案,在形成所述凹部的区域中,使照射到形成接触孔的区域和其周围的区域的光的透射率不同而曝光,在所述平坦化膜形成具有台阶的凹部。
27.根据权利要求22或23所述的有机电致发光显示面板的制造方法,在所述第二工序中,经由使照射到形成所述一组隔壁的区域和形成所述预定的隔壁的区域的光的透射率相等的掩模图案,使所述隔壁材料曝光。
28.根据权利要求22 27的任一项所述的有机电致发光显示面板的制造方法,还包括如下的第四工序在所述第二工序之前,在所述平坦化膜上与所述多个像素区域的各自对应地形成像素电极层,在所述第四工序中,所述像素电极层的端部的一部分被配置在所述凹部的内部,在所述第二工序中,通过所述预定的隔壁覆盖所述像素电极层的端部的一部分。
29.根据权利要求观所述的有机电致发光显示面板的制造方法,在所述第四工序中,所述像素电极层形成为从所述像素区域延伸到所述凹部的内部、 在所述凹部的开口边缘弯曲的形状,在所述第二工序中,留下所述预定的隔壁的掩模图案是留下比形成于所述平坦化膜的凹部的俯视区域大的掩模图案,通过所述预定的隔壁覆盖所述像素电极层的弯曲部分。
全文摘要
有机电致发光显示面板,具备形成在平坦化膜(103)的上方、规定多个像素部(100)的各自的侧面的一组第一堤岸(111),和形成在多个像素部(100)的有机发光层(113)。平坦化膜(103)具有凹部(122),凹部(122)沿与一组第一堤岸(111)交叉的方向横穿成为多个像素部(100)的各自的边界的区域而形成。此外,有机电致发光显示面板具有由与第一堤岸(111)相同的材料构成的、与一组第一堤岸(111)连结的第二堤岸(121)。所述第二堤岸(121)在凹部(122)的上方跟随其内部形状而形成,比第一堤岸(111)低。
文档编号H05B33/12GK102405686SQ201080001720
公开日2012年4月4日 申请日期2010年4月19日 优先权日2010年4月19日
发明者吉田英博, 小野晋也, 西山诚司 申请人:松下电器产业株式会社
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