专利名称：具有可掀盖式保护罩的电子产品基板清洗设备的制作方法
技术领域：
本装置涉及电子产品加工领域，特别涉及一种电子产品基板清洗设备。
背景技术：
基板是制造PCB的基本材料，一般情况下，基板就是覆铜箔层压板，单、双面印制板在制造中是在基板材料-覆铜箔层压板上，有选择地进行孔加工、化学镀铜、电镀铜、蚀刻等加工，得到所需电路图形。另一类多层印制板的制造，也是以内芯薄型覆铜箔板为底基，将导电图形层与半固化片交替地经一次性层压黏合在一起，形成3层以上导电图形层间互连。它具有导电、绝缘和支撑三个方面的功能。印制板的性能、质量、制造中的加工性、制造成本、制造水平等，在很大程度上取决于基板材料。基板材料技术与生产，已历经半世纪的发展，全世界年产量已达2. 9亿平方米，这一发展时刻被电子整机产品、半导体制造技术、电子安装技术、印制电路板技术的革新发展所驱动。电子产品加工企业在生产过程中需要对诸如瓷条基板、酚醛树脂基板等进行自动清洗。然而，现有的电子产品基板清洗设备存在清洗部水珠滑落至基板，最终影响清洗质量的问题。
发明内容本实用新型的目的是提供一种能有效提高清洗效果的电子产品基板清洗设备。本实用新型为解决上述技术问题所采用的技术方案是区别于现有技术中的电子产品基板清洗设备，本实用新型提供的电子产品基板清洗设备的清洗部上方的保护罩是采用可掀盖方式的保护罩。由于现有技术中电子产品基板清洗设备的结构是本领域普通法技术人员所公知，故在此不再赘述。本设备的有益效果在于由于上方防护罩采用可掀盖方式设计(I)防护罩可以向上自由翻转，易于清洗槽内部的清洁清扫，使清洁清扫作业具有足够空间；(2)防护罩可以向上自由翻转，大大方便了清洗旋盘的更换，缩短了机种段取时间。作为一种优选的方式，所述的保护罩可采用倾斜的保护罩。可以防止因为内部水汽蒸发造成防护罩上水珠滞留问题。防护罩上无水珠滞留，则无水滴滴落到洗净的基板上，保证清洗质量。由于防护罩上无水汽滞留，作业者可以透过防护罩直接观察到内部状况，无水汽遮挡视线。提高了工作的质量。
本实用新型共有附图2幅。[0014]图1为电子广品基板清洗设备不意图。图2为电子产品基板清洗设备局部放大示意图在图中，1-保护罩。
具体实施方式
如图1-2所示，电子产品基板清洗设备，清洗部上方的保护罩I是是采用可掀盖方式的保护罩。由于上方防护罩采用可掀盖方式设计(1)防护罩可以向上自由翻转，易于清洗槽内部的清洁清扫，使清洁清扫作业具有足够空间；(2)防护罩可以向上自由翻转，大大方便了清洗旋盘的更换，缩短了机种段取时间。本实用新型不局限于上述实施例，任何在本实用新型披露的技术范围内的等同构思或者改变，均列为本实用新型的保护范围。
权利要求1.具有可掀盖式保护罩的电子产品基板清洗设备，其特征在于所述清洗设备的清洗部上方的保护罩是采用可掀盖方式的保护罩。
2.如权利要求1所述的具有可掀盖式保护罩的电子产品基板清洗设备，其特征在于所述的保护罩是倾斜的保护罩。
专利摘要具有可掀盖式保护罩的电子产品基板清洗设备，清洗部上方的保护罩是采用可掀盖方式的保护罩。由于上方防护罩采用可掀盖方式设计，防护罩可以向上自由翻转，易于清洗槽内部的清洁清扫，使清洁清扫作业具有足够空间；防护罩可以向上自由翻转，大大方便了清洗旋盘的更换，缩短了机种段取时间。
文档编号H05K3/26GK202907349SQ20122062952
公开日2013年4月24日 申请日期2012年11月23日 优先权日2012年11月23日
发明者马建平, 王克, 王明臣 申请人:大久制作(大连)有限公司