专利名称：一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统的制作方法
技术领域：
一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统技术领域[0001]本实用新型涉及生产设备技术领域，尤其涉及一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统。
背景技术：
[0002]众所周知，当蚀刻技术已广泛的应用于传统加工中难以加工的薄型件加工上，主要运用于航空、机械、标牌等工业中，并且在半导体以及印制板的加工中更是不能缺少。现有的技术中的刻蚀机是使用化学溶液，经化学反应达到可是目的，使用时，设备生产的废弃直接发到车间中，造成空气和产品表面的污染，同时产品上时常会有残留的化学溶液得不到清理，这使得产品的质量受到严重影响。实用新型内容[0003]本实用新型公开了一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，用以解决现有技术中产品上时常会有残留的化学溶液得不到清理，同时设备生产的的废弃直接发到车间中，造成空气和产品表面的污染的问题。[0004]为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是:[0005]一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，其中，包括:印刷装置、曝光装置、显影装置、蚀刻装置、清洗装置，所述曝光装置分别与所述印刷装置以及显影装置连接，所述蚀刻装置的后段与所述清洗装置连接，所述显影装置的后段与所述蚀刻装置连接，所述清洗装置的后段与去膜装置连接、所述去膜装置后段与水洗装置连接，所述水洗装置的后段与烘干装置连接。[0006]上述的一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，其中，所述清洗装置与所述去膜装置之间设有膨松装置。[0007]上述的一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，其中，所述清洗装置的外侧设有第一报警装置。[0008]上述的一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，其中，所述水洗装置外侧设有第二报警装置。[0009]上述的一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，其中，在所述印刷装置、曝光装置、显影装置、蚀刻装置以及清洗装置的外侧设有一罩体，所述罩体外侧设有一空气过滤器。上述的一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，其中，所述清洗装置与所述膨松装置之间设有检测装置。[0011]上述的一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，其中，所述烘干装置为电加热烘干机。[0012]本实用新型的一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，采用了如上的方案具有以下的效果:通过清洗装置与水洗装置有效的清洗产品上的化学溶剂并由烘干装置使得产品上的液体烘干去除，同时利用罩体阻隔了设备生产时的废气，并且通过空气过滤器将废气过滤净化。
[0013]通过阅读参照如下附图对非限制性实施例所作的详细描述，实用新型的其它特征，目的和优点将会变得更明显。[0014]图1为本实用新型一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统的示意图。[0015]如图参考:印刷装置1、曝光装置2、显影装置3、蚀刻装置4、清洗装置5、第一报警装置51、检测装置6、膨松装置7、去膜装置8、水洗装置9、第二报警装置91、罩体10、空气过滤器11、烘干装置12。
具体实施方式
[0016]为了使实用新型实现的技术手段、创造特征、达成目的和功效易于明白了解，下结合具体图示，进一步阐述本实用新型。[0017]图1所示，一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，其中，包括:印刷装置1、曝光装置2、显影装置3、蚀刻装置4、清洗装置5，曝光装置2分别与印刷装置I以及显影装置3连接，在此进一步的曝光装置2与显影装置3连成一体，蚀刻装置4的后段与清洗装置5连接，显影装置3的后段与蚀刻装置4连接，清洗装置5的后段与去膜装置8连接、去膜装置8后段与水洗装置9连接，水洗装置9的后段与烘干装置12连接。[0018]在本实用新型的具体实施例中，清洗装置5与去膜装置8之间设有膨松装置7，在此膨松装置7完成的是一种浸泡式过程，先将其软泡再给后工序退膜。在后一工序的去膜中使用3%的强碱或10-13%的RR-2的有机去膜液剥除，抗氧产品表面氧化，除泡剂消泡。[0019]在本实用新型的具体实施例中，清洗装置5的外侧设有第一报警装置51，由第一报警装置51完成对清洗装置5的监控以及报警提示。[0020]在本实用新型的具体实施例中，水洗装置9外侧设有第二报警装置91，进一步的，由第二报警装置91完成对水洗装置9的监控以及报警提示。[0021]在本实用新型的具体实施例中，在印刷装置1、曝光装置2、显影装置3、蚀刻装置4以及清洗装置5的外侧设有一罩体10，罩体10外侧设有一空气过滤器11，进一步的利用罩体10隔离印刷装置1、曝光装置2、显影装置3、蚀刻装置4以及清洗装置5所产生的废气，并通过空气过滤器11来完成对废气的过滤净化。[0022]在本实用新 型的具体实施例中，清洗装置5与膨松装置7之间设有检测装置6在当产品经过清洗装置5后对产品进行检测。[0023]在本实用新型的具体实施例中，烘干装置12为电加热烘干机，在烘干装置12中吸附剂充填量极为充裕，大容量的干燥剂保证了空气与干燥剂有充足的接触时间，使干燥剂能充分吸收水份，达到稳定的出口露点。保证出口空气露点的稳定，除水效果。[0024]在本实用新型的具体实施方式
中，首相严格挑选合格材料进行切料清洗，产品由传送轨道进入印刷装置I中进行感光油墨印在产品金属板上的操作，接着产品产品进入曝光装置2与显影装置3中。在曝光装置2与显影装置3中油墨烘干的金属板材通过曝光装置2将产品轮廓曝在金属板上然后通过显影装置3将产品轮廓显影出来(必要时将产品进行坚膜)。接着进入蚀刻装置4中进行刻蚀，在之前显影装置3中显影好的金属板通过蚀刻装置4蚀刻，Fecl3与露出来的金属反应，将产品中不需要的部分漏空，留下所需要的产品形状，之后进入清洗装置5进行清洗，清洗完后进入检测装置6中进行检验(检验过程为人工或者机械)。[0025]其次，当检验完后，进入膨松装置7中进行对产品的软泡，接着进入去膜装置8中对软泡后的产品进行脱模。[0026]最后，进入烘干装置12通过其真空的烘干功能对产品的外残留的化学溶液进行去除，之后再由专业人员对产品进行检验，打包入库。[0027]综上所述，本实用新型一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，采用了如上的方案具有以下的效果:通过清洗装置与水洗装置有效的清洗产品上的化学溶剂并由烘干装置使得产品上的液体烘干去除，同时利用罩体阻隔了设备生产时的废气，并且通过空气过滤器将废气过滤净化，其结构简单，使用方便。[0028]以上对实用新型的具体实施例进行了描述。需要理解的是，实用新型并不局限于上述特定实施方式，其中未尽详细描述的设备和结构应该理解为用本领域中的普通方式予以实施；本领域技术人员可以在权利要求的范围内做出各种变形或修改，这并不影响实用新型的实质内容 。
权利要求1.一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，其特征在于，包括:印刷装置、曝光装置、显影装置、蚀刻装置、清洗装置，所述曝光装置分别与所述印刷装置以及显影装置连接，所述蚀刻装置的后段与所述清洗装置连接，所述显影装置的后段与所述蚀刻装置连接，所述清洗装置的后段与去膜装置连接、所述去膜装置后段与水洗装置连接，所述水洗装置的后段与烘干装置连接。
2.根据权利要求1所述的带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，其特征在于，所述清洗装置与所述去膜装置之间设有膨松装置。
3.根据权利要求1所述的带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，其特征在于，所述清洗装置的外侧设有第一报警装置。
4.根据权利要求1所述的带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，其特征在于，所述水洗装置外侧设有第二报警装置。
5.根据权利要求1所述的带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，其特征在于，在所述印刷装置、曝光装置、显影装置、蚀刻装置以及清洗装置的外侧设有一罩体，所述罩体外侧设有一空气过滤器。
6.根据权利要求2所述的带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，其特征在于，所述清洗装置与所述膨松装置之间设有检测装置。
7.根据权利要求1所述的带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，其特征在于，所述烘干装置为 真空电加热烘干机。
专利摘要本实用新型公开一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，其中，包括印刷装置、曝光装置、显影装置、蚀刻装置、清洗装置，曝光装置分别与印刷装置以及显影装置连接，蚀刻装置的后段与清洗装置连接，显影装置的后段与蚀刻装置连接，清洗装置的后段与去膜装置连接、去膜装置后段与水洗装置连接，水洗装置的后段与烘干装置连接。通过使用本实用新型一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，采用了如上的方案具有以下的效果通过清洗装置与水洗装置有效的去除残留的化学溶液，同时利用罩体阻隔了设备生产时的废气，并且通过空气过滤器将废气过滤净化。
文档编号H05K3/00GK203136340SQ201320129549
公开日2013年8月14日 申请日期2013年3月20日 优先权日2013年3月20日
发明者何公明 申请人:宁波东盛集成电路元件有限公司