一种设置水洗装置的仿裸皮生产设备的制造方法

文档序号:9083907阅读:350来源:国知局
一种设置水洗装置的仿裸皮生产设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及仿裸皮设备技术领域,尤其是指一种设置水洗装置的仿裸皮生产设备。
【背景技术】
[0002]仿裸皮是一种对无纺布进行上浆及烘干后形成的一种类似皮料的一种仿皮料,通常用于皮鞋、箱包等皮具上;仿裸皮生产设备包括有烘烤室及热烫滚轮组,还包括有放布机、上浆机及烘烤室,还有烫平等装置;目前设备大都是烘烤室连接热烫滚轮组,生产产品时,料带通过烘烤室烘干后进入热烫滚轮组进行热烫定型,很多时候由于在生产过程中附着粉尘,进入热烫滚轮组容易附着在上面影响产品的效果,另外由于烘干后进入热定型,产品上的涂覆物容易起泡,影响产品的表面效果。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型在于针对目前仿裸皮生产设备在生产过程存在的不足,而提供解决以上问题的一种设置水洗装置的仿裸皮生产设备。
[0004]为达到上述目的,本实用新型采用如下技术方案:
[0005]—种设置水洗装置的仿裸皮生产设备,所述仿裸皮生产设备包括有烘烤室及热烫滚轮组,烘烤室及热烫滚轮组间至少设置一件仿裸皮料带进行清洗的水洗装置。
[0006]较佳的,所述水洗装置包括一水槽,水槽中设置有若干导料轮,水槽的底部设置一搅动电机带动的搅动轮。
[0007]较佳的,所述水槽的顶部设置一拉料电机带动的一对拉料轮组。
[0008]较佳的,所述水洗装置设置两件。
[0009]本实用新型的有益效果在于:本实用新型的一种设置水洗装置的仿裸皮生产设备,所述仿裸皮生产设备包括有烘烤室及热烫滚轮组,烘烤室及热烫滚轮组间至少设置一件仿裸皮料带进行清洗的水洗装置;生产产品时,料带通过烘烤室烘干后进入料带水洗装置,能有效的洗除料带生产过程中附着的粉尘,避免进入热烫滚轮附着在上面影响产品的效果,另外由于烘干后进入水洗装置,对料带进行冷却,避免产品上的涂覆物起泡,保证产品的表面效果。
【附图说明】
[0010]图1为本实用新型的结构示意图
【具体实施方式】
[0011]下面结合附图1对本实用新型作进一步阐述:
[0012]—种设置水洗装置的仿裸皮生产设备,所述仿裸皮生产设备包括有烘烤室I及热烫滚轮组2,烘烤室I及热烫滚轮组2间至少设置一件仿裸皮料带进行清洗的水洗装置3。
[0013]本实施例中,水洗装置3包括一水槽31,水槽31中设置有若干导料轮32,将料带能有效的带入水槽31中,水槽31的底部设置一搅动电机33带动的搅动轮34,搅动轮34的搅动能有效的去除料带表面的异物。
[0014]为了带动料带运动,在水槽31的顶部设置一拉料电机35带动的一对拉料轮组36。
[0015]作为较佳实施方式,为了达到较佳的洗涤效果,避免清洗水对料带进行二次污染,水洗装置3设置两件,进行两次清洁处理。
[0016]生产产品时,料带通过烘烤室I烘干后进入料带水洗装置3,能有效的洗除料带4生产过程中附着的粉尘,避免进入热烫滚轮附着在上面影响产品的效果,另外由于烘干后进入水洗装置3,对料带进行冷却,避免产品上的涂覆物起泡,保证产品的表面效果。
[0017]以上所述实施例,只是本实用新型的较佳实例,并非来限制本实用新型实施范围,故凡依本实用新型申请专利范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰,均应包括于本实用新型专利申请范围内。
【主权项】
1.一种设置水洗装置的仿裸皮生产设备,其特征在于,所述仿裸皮生产设备包括有烘烤室(I)及热烫滚轮组(2),其特征在于,烘烤室(I)及热烫滚轮组(2)间至少设置一件仿裸皮料带进行清洗的水洗装置(3),所述水洗装置(3)包括一水槽(31)及水槽(31)中设置有若干导料轮(32)。2.根据权利要求1所述的一种设置水洗装置的仿裸皮生产设备,其特征在于,所述水槽(31)的底部设置一搅动电机(33)带动的搅动轮(34)。3.根据权利要求2所述的一种设置水洗装置的仿裸皮生产设备,其特征在于,所述水槽(31)的顶部设置一拉料电机(35)带动的一对拉料轮组(36)。4.根据权利要求1-3任意一项所述的一种设置水洗装置的仿裸皮生产设备,其特征在于,所述水洗装置(3)设置两件。
【专利摘要】本实用新型涉及一种设置水洗装置的仿裸皮生产设备;所述仿裸皮生产设备包括有烘烤室及热烫滚轮组,烘烤室及热烫滚轮组间至少设置一件仿裸皮料带进行清洗的水洗装置;生产产品时,料带通过烘烤室烘干后进入料带水洗装置,能有效的洗除料带生产过程中附着的粉尘,避免进入热烫滚轮附着在上面影响产品的效果,另外由于烘干后进入水洗装置,对料带进行冷却,避免产品上的涂覆物起泡,保证产品的表面效果。
【IPC分类】B32B38/16, B32B37/10
【公开号】CN204736529
【申请号】CN201520100779
【发明人】孙松楷
【申请人】东莞市科迪实业有限公司
【公开日】2015年11月4日
【申请日】2015年2月10日
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