一种防指纹壳体的制作方法
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及具有防指纹功能的壳体。
【背景技术】
[0002] 手机、电脑等电子设备在日常使用中，用户手指接触后会残留指纹痕迹，同时还有 外界的污物，如灰尘等也容易掉落到产品外壳上，影响表面的清洁度，如何简单的去除和防 止这些污物越来越受人们关注。防指纹膜是一种同时具有疏水性和疏油性的薄膜，不易粘 附外界的灰尘及污物，且即使被灰尘、指纹等污染也较易去除。
[0003] 但通常情况下，防指纹膜与基才之间的附着力普遍较差，容易从基材表面剥离，影 响使用效果及使用寿命。 【实用新型内容】
[0004] 为解决防指纹层在基材上易磨损、易脱离的问题，本实用新型的提供了一种防指 纹壳体，可以使防指纹层在壳体基材上形成良好附着。
[0005] 本实用新型提供一种防指纹壳体，所述防指纹壳体包含壳体基材，壳体基材上依 次设置有氧化铝层，SiO2缓冲层和防指纹层，所述壳体基材为铝或铝合金。所述防指纹层为 疏水性和疏油性的含氟高分子聚合物。这种防指纹壳体具有良好的防指纹能力，同时壳体 基材上的防指纹膜附着紧密，不易发生脱落。
[0006] 如本实用新型的一个实施例，所述氧化铝层的厚度为15~25nm。氧化铝层的厚度 应控制在一定的范围内，厚度过高则容易发生爆膜，同时影响膜层色泽；厚度过低则影响与 其他膜层的附着效果。
[0007] 如本实用新型的一个实施例，所述Si02缓冲层厚度为15~30nm。
[0008] 如本实用新型的一个实施例，所述防指纹层厚度为8~15nm。
[0009] 如本实用新型的一个实施例，所述氧化铝层中还包含有第一过渡层，所述第一过 渡层含有Al2O3和SiO2。
[0010] 如本实用新型的一个实施例，所述SiOgl冲层与防指纹层之间有第二过渡层，所 述第二过渡层含有Si、F和0元素。
[0011] 有本实用新型获得的防指纹壳体具有良好的防指纹特性，防指纹膜与壳体之间连 接紧密，不易脱落，同时，其耐划伤性能有一定程度的提高。
【附图说明】
[0012] 图1为本实用新型壳体一个实施例的层次结构示意图；
[0013] 其中：10 壳体基材；11 氧化错层；12 3;10 2缓冲层；13 防指纹层。
【具体实施方式】
[0014] 为了使本实用新型所解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下 结合附图及实施例，对本实用新型作进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例 仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
[0015] 如图1 :其是显示本实用新型防指纹壳体的结构示意图。该防指纹壳体依次包括 壳体基材10,氧化铝层ll，Si02缓冲层12以及防指纹层13。其中，壳体基材10选自铝，铝 合金中的一种。氧化铝层11直接附着在壳体基材上，可以有效改善强壳体基材10与SiO2缓冲层12的结合力。为了进一步确保防指纹层在壳体基材10上的附着效果，氧化铝层11 厚度在15~25nm之间时能充分发挥在壳体基材10与SiO2缓冲层12与防指纹层13之间的 介质连接作用；SiO2缓冲层12厚度为15~30nm，膜层制作过程中，磁控溅射SiO2缓冲层时其 中部分SiO2会进入氧化铝层内部，与氧化铝中的Al 203混合形成第一过渡层，第一过渡层中 具有Al2O3和SiO2形成的物理渗透结合结构，可以进一步增强防指纹膜层间的结合力。同 时，SiOgl冲层中的部分SiO2会与防指纹层13中的部分F元素结合，形成含有Si-F复合 结构的第二过渡层。最外的防指纹层13厚度在8~15nm之间为最佳，太厚影响壳体色泽，太 薄则防指纹效果欠佳。
[0016] 防指纹壳体的制备工艺：通过采用磁控溅射镀膜与蒸发镀膜相结合，在真空度为 8X10 3Pa~5X10 3Pa 情况下，通入 Ar 和 02，Ar 流量为 300~600sccm ;02流量为 200~400sccm。 先打开铝靶，功率为9KW，镀膜15~30min后，关闭铝钯，获得氧化铝层11 ;之后，调整氧气流 量，打开硅靶，功率在3~5KW之间，镀膜30~45min后，关闭硅靶，获得SiO2缓冲层12 ;关闭气 流，打开蒸发镀电源，在三个不同的电压档位下镀防指纹层13,所述电压档位为第一档电压 为10~30V，第二档电压为30~35V，第三档电压为35~45V。关闭蒸发镀电源，镀膜完毕，炉内 冷却后即可得所需产品。
[0017] 在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语"设置"、"连接"、"相连"等应 做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也 可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连 通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解 上述术语在本发明中的具体含义。
[0018] 实施例1
[0019] 样品基材为压铸铝合金；膜层从内至外依次为氧化铝层、SiO2缓冲层和防指纹层。
[0020] 制作方法：采用真空镀膜机(型号SP-1912ASI-XH)设备，在6X 10 3Pa真空条件下 通入Ar和O2，打开铝钯，在9KW的功率下镀膜20min后关闭铝钯，获得氧化铝层。调整02流 量，打开硅钯，在3KW的功率下镀膜40min后关闭硅钯，即获得SiOgl冲层。
[0021 ] 关闭气体，在I. 0 X 10 2Pa的真空条件下打开蒸发镀装置，在28V电压下蒸镀2min， 33V下蒸镀2min，38V下蒸镀6min，即可得防指纹层。关闭蒸发镀电压，镀膜完成。炉内冷 却5min后，获得样品A1。
[0022] 对比例1
[0023] 样品基材为压铸铝合金；膜层从内至外依次为SiO2和防指纹层。
[0024] 制作方法：采用真空镀膜机(型号SP-1912ASI-XH)设备，在6X 10 3Pa真空条件下 通入Ar和O2，打开硅钯，在3KW的功率下镀膜40min后关闭硅钯，即获得SiOgl冲层。
[0025] 关闭气体，在1.0 X 10-2的真空条件下打开蒸发镀装置，在28V电压下蒸镀2min， 33V下蒸镀2min，38V下蒸镀6min，即可得防指纹层。关闭蒸发镀电压，镀膜完成。炉内冷 却5min后，获得样品Dl。
[0026] 性能测试：
[0027] 测试样品水接触角，使用下述测试1中方法测试样品水接触角值，水接触角测试 值越高，说明疏水性越好；通常要求初始值大于90°，则产品防指纹性合格，否则为不合 格。耐摩擦性能测试，用下述测试2中的方法样品表面进行摩擦后，测试样品表面的水接触 角，水接触角测试值变化越小，说明耐摩擦性能越好；通常变化值在20°以内为合格。
[0028] 测试1、水接触角测试：采用东莞康迪电子CA07电子水滴接触角量测仪，对上述制 备的样品AU Dl进行测试。
[0029] 测试2、耐摩擦测试：使用韩国MINOAN耐磨橡皮擦，橡皮擦荷重为500g，对样品 AUDI进行500次往返摩擦。摩擦后使用水滴接触角量测仪对摩擦后样品水接触角进行测 试。
[0030] 测试结果见下表：
[0032] 根据上述的测试结果可以看出：按照本实用新型提供的技术方案获得的防指纹壳 体具有优良的防指纹特性，同时，防止指纹膜层与壳体基材间还具有更好的附着力。
[0033] 以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本 实用新型的特征和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型 的保护范围之内。
【主权项】
1. 一种防指纹壳体，其特征在于，所述壳体包含壳体基材，壳体基材上依次设置有氧化 铝层，SiO 2缓冲层和防指纹层；所述壳体基材为铝或铝合金。2. 如权利要求1所述的防指纹壳体，其特征在于，所述氧化铝层的厚度为15~25nm。3. 如权利要求1所述的防指纹壳体，其特征在于，所述SiOgl冲层为15~30nm。4. 如权利要求1所述的防指纹壳体，其特征在于，所述防指纹层厚度为8~15nm。5. 如权利要求1所述的防指纹壳体，其特征在于，所述氧化铝层与SiO 2缓冲层之间有 第一过渡层。6. 如权利要求1所述的防指纹壳体，其特征在于，所述SiO 2缓冲层与防指纹层之间有 第二过渡层。
【专利摘要】为解决防指纹层在基材上易磨损、易脱离的问题，本实用新型提供了一种防指纹壳体，依次包括壳体基材，氧化铝层，SiO2缓冲层和防指纹层，具有良好的防指纹效果，同时防指纹层与壳体基材间有良好的附着力，不易脱落。
【IPC分类】B32B9/04, B32B15/04
【公开号】CN204869869
【申请号】CN201520264386
【发明人】吴涛, 王继厚, 陈梁
【申请人】比亚迪股份有限公司
【公开日】2015年12月16日
【申请日】2015年4月28日