一种线圈绕线结构的制作方法

文档序号:10391298阅读:308来源:国知局
一种线圈绕线结构的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及线圈绕线结构,属于电子技术领域。
【背景技术】
[0002]条码扫描仪用超精密系列微小线圈,该条码扫描仪会在恶劣环境下使用,对于线圈的要求能够抗震动,抗跌落,稳定可靠;普通的绕线以及焊锡方式无法满足震动和抗跌落的要求,对于这款小线圈生产过程中存在如下问题:①在绕线阶段,因漆包线太细,起头线和尾线容易断;②在焊锡阶段,往往由于毛细现象造成焊锡尺寸不符合图纸要求。
[0003]有鉴于此,本发明人研究和设计了一种线圈绕线结构,本案由此产生。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型的目的在于提供一种线圈绕线结构,通过引脚的绕线设置,可以解决上述背景中的技术问题,本实用新型解决其技术问题所采取的技术方案是:
[0005]—种线圈绕线结构,包括线圈骨架以及从线圈骨架上引出的四个引脚,其特征在于:每个引脚上各有一组漆包线绕线结构,所述漆包线绕线结构为在每个引脚上部形成密绕三圈结构,延续在每个引脚中部形成稀绕两圈结构,再延续在每个引脚底部形成密绕两圈结构。
[0006]作为实施例的优选方式,所述漆包线绕线结构由三根漆包线绞合而成。
[0007]本实用新型采取了上述的技术方案,可以实现以下有益效果:①缠绕引脚时采取跳线设计,引脚的长度空间里实现引脚上部密绕三圈,然后稀绕两圈,再在底部密绕两圈,通过中间稀绕两圈对助焊剂以及焊锡的毛细效应进行干扰,最终实现上部三圈?四圈全部上锡,底部一?三圈不上锡,这样在保证稳定电气连接的前提下,底部保持漆包线的柔性,避免在恶劣条件下断裂;②漆包线绕线均由三根漆包线绞合而成,让漆包线绕线在缠绕引脚时从一股并成三股绞在一起,让强度提升10倍。
【附图说明】
[0008]图1为本实用新型的结构示意图。
【具体实施方式】
[0009]如图1所示,本实用新型揭示了一种线圈绕线结构,包括线圈骨架I以及从线圈骨架上引出的四个引脚,每个引脚上各有一组漆包线绕线结构3,所述漆包线绕线结构3为在每个引脚上部形成密绕三圈结构,延续在每个引脚中部形成稀绕两圈结构,再延续在每个引脚底部形成密绕两圈结构。
[0010]作为实施例的优选方式,所述漆包线绕线结构3由三根漆包线绞合而成。
[0011]在本实施例中,四个引脚从左到右依次为第一引脚21、第二引脚22、第三引脚23和第四引脚24,一股漆包线从第一引脚21绕线形成绕线结构3,然后绕入线圈骨架I,在线圈骨架I绕线完成后绕入第三引脚23绕成绕线结构3;另一股漆包线绕从第二引脚22绕线形成绕线结构3,然后绕入线圈骨架I,在线圈骨架I绕线完成后绕入第四引脚24绕成绕线结构3,两股漆包线的起头和收尾分别在四个引脚上绕成一组密稀密式漆包线绕线结构,通过全自动精密绕线加上全自动绞线,在各个引脚绕线处使用全自动绞线工艺,漆包线绕线在各个引脚部分均由三根漆包线绞合而成,在缠绕引脚时从一股并成三股绞在一起,让强度提升10倍;全自动缠绕引脚时采取跳线设计,在引脚2.3mm的空间里实现引脚上部密绕三圈,然后稀绕两圈,再在底部密绕两圈,通过中间稀绕两圈对助焊剂以及焊锡的毛细效应进行干扰,最终实现上部三圈?四圈全部上锡,底部一?三圈不上锡,这样在保证稳定电气连接的前提下,底部保持漆包线的柔性,避免在恶劣条件下断裂。
[0012]以上所述,仅为本实用新型较佳实施例而已,故不能依此限定本实用新型实施的范围,即依本实用新型专利范围及说明书内容所作的等效变化与修饰,皆应仍属本实用新型涵盖的范围内。
【主权项】
1.一种线圈绕线结构,包括线圈骨架以及从线圈骨架上引出的四个引脚,其特征在于:每个引脚上各有一组漆包线绕线结构,所述漆包线绕线结构为在每个引脚上部形成密绕三圈结构,延续在每个引脚中部形成稀绕两圈结构,再延续在每个引脚底部形成密绕两圈结构。2.如权利要求1所述的一种线圈绕线结构,其特征在于:所述漆包线绕线结构由三根漆包线绞合而成。
【专利摘要】一种线圈绕线结构,包括线圈骨架以及从线圈骨架上引出的四个引脚,其特征在于:每个引脚上各有一股漆包线绕线结构,所述漆包线绕线结构为在每个引脚上部形成密绕三圈结构,延续在每个引脚中部形成稀绕两圈结构,再延续在每个引脚底部形成密绕两圈结构;本实用新型采取了上述的技术方案,可以实现以下有益效果:①缠绕引脚时采取跳线设计,引脚的长度空间里实现引脚上部密绕三圈,然后稀绕两圈,再在底部密绕两圈,通过中间稀绕两圈对助焊剂以及焊锡的毛细效应进行干扰,最终实现上部三圈~四圈全部上锡,底部一~三圈不上锡,这样在保证稳定电气连接的前提下,底部保持漆包线的柔性,避免在恶劣条件下断裂。
【IPC分类】H01F27/28, H01F27/30
【公开号】CN205303138
【申请号】
【发明人】张明
【申请人】厦门迈斯磁电有限公司
【公开日】2016年6月8日
【申请日】2016年1月4日
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