一种大樱桃设施栽培的温度调控方法
【专利摘要】本发明公开了一种大樱桃设施栽培的温度调控方法，属于果树栽培领域。该发明在芽萌动前、萌芽后到花前、花期、坐果后4个时期对设施内温度进行调控，创造最适宜大樱桃生长发育的温度，实现提高樱桃树的成活率、大樱桃的座果率和品质的效果。
【专利说明】一种大樱桃设施栽培的温度调控方法
【技术领域】
[0001]本发明属于果树栽培领域，具体是一种大樱桃设施栽培的温度调控方法。
【背景技术】
[0002]大樱桃的经济价值非常地高，是落叶果树中成熟较早的果树之一，素有“春果第一枝”之称，对调节春果市场淡季有着重要作用，不仅是人们喜庆家宴的稀有佳品，而且是加工罐头、果脯、蜜饯和多种食品的上等原料，其根、茎、叶、核、鲜果还有重要的药用价值。
[0003]我国的大樱桃生产技术水平低，目前，大樱桃的栽培技术主要有两种，一种是果园露地栽培，另一种是设施栽培。现有技术中的大樱桃设施栽培技术，是利用自然气候的低温，满足需冷量，完成休眠期。一般是以大樱桃自然休眠结束，满足其对7.2°C以下低温需求量为依据，在I月上、中旬对露地生长的大樱桃架设温室大棚，通过对大棚进行温度、湿度、水肥、通风等管理措施，来满足大樱桃生长发育所需要的条件，一次来提早大樱桃的成熟期，促进成品提前上市，一般能提早上市一个月。有中国专利200410035457.2公开了一种大樱桃温室大棚设施栽培技术，该发明是采用在温室大棚内设置二氧化碳发生器、声频发生器、臭氧发生器、增温设备，在大棚顶部设置卷帘机等设施，根据大樱桃的生长发育需要，使用各种设施，醋精大樱桃的生长发育，提高大棚内大樱桃的产量，提早成熟期，大樱桃的成熟期可提前40天，在4月中旬即可成熟。但是该发明操作复杂，用工量和能耗大，并且没有指出大樱桃生长发育各阶段具体适应温度，粗放的温度调控方法会造成大樱桃树发生生理性病害，甚至死亡。
【发明内容】
[0004]本发明针对现有技术存在的缺陷，提出一种大樱桃设施栽培的温度调控方法，通过对具体温度范围调控，使大樱桃在生长发育各个阶段都处于最适温度，极大提高樱桃树的成活率、大樱桃的座果率和品质。
[0005]为实现上述目的，本发明提供的温度调控具体方式如下:
[0006]一种大樱桃设施栽培的温度调控方法，包括芽萌动前温度调控，萌芽后到花前温度调控，花期温度调控和坐果后温度调控:
[0007]A、芽萌动前的温度调控:从扣棚到芽萌动，约需一个月的时间，期间温度须缓慢上升，不宜过高，维持在6?10°C，白天高不超过15°C，夜间温度不能低于0°C ;
[0008]B、萌芽后到花前温度调控:花前温度控制在10?15°C，夜间温度不能低于8°C ;
[0009]C、花期温度调控:花期温度的控制在15?20°C，温度不能过高或过低，日温差不能超过12°C ;
[0010]D、坐果后温度调控:座果后温度维持在15?20°C为宜，最高不超过25°C，最低不低于10C ο
[0011 ] 所述的花期温度调控，最低温度不能低于10°C，遇到夜间的低温，特别注意生火提温。
[0012]所述的花期温度调控，最高温度不能超过25°C，遇到晴好天气，要特别注意通风降温。
[0013]所述的坐果后温度调控，果实膨大后期温度不可过高，否则会造成落果和品质变劣现象。
[0014]所述的一种大樱桃设施栽培的温度调控方法，要在棚内挂上温度计及时观察，温度计挂在树体上1/3部分。
[0015]所述的一种大樱桃设施栽培的温度调控方法，观察树体中上部的温度，当温度升到最高温度附近时，即打开风口降温，不能等升到极限温度后再行通风降温；当温度降到最低温度附近时，即点燃火炉升温，不能等降到极限温度后再行生火升温。
[0016]所述的一种大樱桃设施栽培的温度调控方法，提温要速提地温，慢升气温，浇水覆膜:早春扣棚后要速浇大水，水温10?15°c，浇大水能迅速提高地温，然后覆地膜，半卷草帘，结合放风口，逐渐提升气温。
[0017]有益效果:本发明通过对具体温度范围调控，使大樱桃在生长发育各个阶段都处于最适温度，极大提高樱桃树的成活率、大樱桃的座果率和品质。
【具体实施方式】
[0018]以下实施例除所述温度调控方法外，其他管理均按照常规设施栽培大樱桃方法进行操作。
[0019]实施例1:3月上旬扣棚，从扣棚到芽萌动，约需一个月的时间，期间温度须缓慢上升，不宜过高，维持在6?10°C，白天高不超过15°C，夜间温度不能低于0°C ;花前温度控制在10?15°C，夜间温度不能低于8°C;花期温度的控制在15?20°C，温度不能过高或过低，最低温度不能低于10°C，遇到夜间的低温，特别注意生火提温，最高温度不能超过25°C，遇到晴好天气，要特别注意通风降温，日温差不能超过12°C ;座果后温度维持在15?20V为宜，最高不超过25V，最低不低于10°C，果实膨大后期温度不可过高，否则会造成落果和品质变劣现象。
[0020]温度检测要在棚内挂上温度计及时观察，温度计挂在树体上1/3部分，观察树体中上部的温度，当温度升到最高温度附近时，即打开风口降温，不能等升到极限温度后再行通风降温；当温度降到最低温度附近时，即点燃火炉升温，不能等降到极限温度后再行生火升温。
[0021]提温要速提地温，慢升气温，浇水覆膜:早春扣棚后要速浇大水，水温10?15°C，浇大水能迅速提高地温，然后覆地膜，半卷草帘，结合放风口，逐渐提升气温。
【权利要求】
1.一种大樱桃设施栽培的温度调控方法，其特征在于，包括以下方法: 八、芽萌动前的温度调控:从扣棚到芽萌动，约需一个月的时间，期间温度须缓慢上升，不宜过高，维持在6?101白天高不超过151夜间温度不能低于01 ； 8、萌芽后到花前温度调控:花前温度控制在10?151:，夜间温度不能低于81 ； 匕花期温度调控:花期温度的控制在15?201，温度不能过高或过低，日温差不能超过 12。。； 0、坐果后温度调控:座果后温度维持在15?201:为宜，最高不超过251，最低不低于10。。。
2.根据权利要求1所述的一种大樱桃设施栽培的温度调控方法，其特征在于，所述的花期温度调控，最低温度不能低于101:，遇到夜间的低温，特别注意生火提温。
3.根据权利要求1所述的一种大樱桃设施栽培的温度调控方法，其特征在于，所述的花期温度调控，最高温度不能超过251:，遇到晴好天气，要特别注意通风降温。
4.根据权利要求1所述的一种大樱桃设施栽培的温度调控方法，其特征在于，所述的坐果后温度调控，果实膨大后期温度不可过高，否则会造成落果和品质变劣现象。
5.根据权利要求1所述的一种大樱桃设施栽培的温度调控方法，其特征在于，所述的一种大樱桃设施栽培的温度调控方法，要在棚内挂上温度计及时观察，温度计挂在树体上1/3部分。
6.根据权利要求1所述的一种大樱桃设施栽培的温度调控方法，其特征在于，所述的一种大樱桃设施栽培的温度调控方法，观察树体中上部的温度，当温度升到最高温度附近时，即打开风口降温，不能等升到极限温度后再行通风降温；当温度降到最低温度附近时，即点燃火炉升温，不能等降到极限温度后再行生火升温。
7.根据权利要求1所述的一种大樱桃设施栽培的温度调控方法，其特征在于，所述的一种大樱桃设施栽培的温度调控方法，提温要速提地温，慢升气温，浇水覆膜:早春扣棚后要速浇大水，水温10?151:，浇大水能迅速提高地温，然后覆地膜，半卷草帘，结合放风口，逐渐提升气温。
【文档编号】A01G9/20GK104429721SQ201410648526
【公开日】2015年3月25日 申请日期:2014年11月15日 优先权日:2014年11月15日
【发明者】刘艳霞 申请人:刘艳霞