引流入渗沉淀种植坑的制作方法

文档序号:289690阅读:326来源:国知局
引流入渗沉淀种植坑的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开的引流入渗沉淀种植坑,包括沉淀种植坑(3)、引流入渗孔(4),所述的沉淀种植坑(3)是在陡坡(2)为25—60度的山地表面开挖形成,沉淀种植坑(3)的外侧用于种植树木(1)、内侧往山体内打一引流入渗孔(4)。本实用新型通过在陡坡土地上对雨水实施聚集入渗,高效贮存,延时利用的“非灌溉”增强树木抗旱能力的方法,达到避免形成水土流失,使树木获得高成活率、高生长量所需的水环境的目的。适用于地面坡度陡峭的山地上种植树木,特别是在25—60度的陡坡地上。
【专利说明】引流入渗沉淀种植坑

【技术领域】
[0001]本实用新型属于水土流失治理【技术领域】,主要涉及的是一种引流入渗沉淀种植坑,适用于坡度陡峭的山地上种植树木,特别是在25— 60度的陡坡地上。

【背景技术】
[0002]生态环境是人类赖以生存和发展的基本条件,是不可替代的基础资源。但是,水土流失极大地破坏了生态环境。在坡度陡峭的山地,特别是在25— 60度的陡坡地上,由于各次天然降水的强度、数量不定,加之土壤入渗率不高,各次降水会在陡坡土地的地表,很快形成自然径流聚集,沿先期雨水冲刷的沟槽,流到地域之外,造成水土流失。为了减少这种水土流失,人们用植树的方法在陡坡地上造林,试图拦堵雨水造成的水土流失。然而因各次降水在陡坡土地上能自然存留的水量有限,栽植的树木,往往会因缺水补充导致干旱,因而成活率很低。即便是能栽植成活的树木,往往也会因根系吸水地层间缺乏适时的水量补充而生长缓慢。同理,用播种的方法种树,种子往往因缺水导致出苗率很低。幼树苗也会因缺水补充而生长缓慢甚至死亡。
[0003]在干旱少雨的山地造林,人们经过不断探索,目前比较成熟的方法是提高树木抗旱能力和修山坡防护工程以集流保墒、有效利用降水。鱼鳞坑整地和挖水平沟就是两个成功实践措施,它们通过改变小地形的方法防止山坡地水土流失,将雨水及雪水就地拦蓄,使其渗入山地,减少或防止形成坡面径流,增加林木可利用的土壤水分。但是,鱼鳞坑仅适用于缓坡地带,在30度以上的陡坡地几乎不可能实施,且储水量较小、易被冲毁。水平沟容积比鱼鳞坑大,故蓄水量也大,但它需沿等高线修筑,工程量比较大,在陡坡山地实施困难重重。
[0004]鱼鳞坑等现有技术方案仅只是在陡坡地的“地表一个面”上,对各次降水补充的强度与数量、土壤入渗率等进行改变治理,并且所做的工程设施的容积,往往只能小于雨水在陡坡土地上的最大变幅、变量的体积,结果是所做的工程设施极易被自然冲毁,形成更大的水流造成水土流失。


【发明内容】

[0005]本实用新型的目的由此产生,提出一种引流入渗沉淀种植坑。通过在陡坡土地上对雨水实施聚集入渗,高效贮存,延时利用的“非灌溉”增强树木抗旱能力的方法,达到避免形成水土流失,使树木获得高成活率、高生长量所需的水环境的目的。
[0006]本实用新型实现上述目的采取的技术方案是:一种引流入渗沉淀种植坑,包括沉淀种植坑、引流入渗孔,所述的沉淀种植坑是在陡坡为25— 60度的山地表面开挖形成,沉淀种植坑的外侧用于种植树木、内侧往山体内打一引流入渗孔。
[0007]本实用新型所述的引流入渗孔为斜孔,方向和山体坡面垂直。
[0008]本实用新型所述的沉淀种植坑是在地表沿自然冲刷沟槽开挖,长50— 100cm,宽30一60cm,深 30—40cm。
[0009]本实用新型所述的引流入渗孔为一向下打的斜孔,孔径10 — 20cm,深20— 40cm。
[0010]本实用新型在所述的沉淀种植坑裸露部分上覆盖有地膜。
[0011]本实用新型通过在陡坡地表自然冲刷沟槽开挖引流入渗沉淀种植坑用于拦堵雨水,利用水往低处流的自然规律,将平均落地的各次雨水聚集流入沉淀坑。使引流入渗沉淀种植坑地表和坑内的引流入渗孔结合入渗,启用“土壤水库”贮存各次各类雨水,增大各次雨水的入渗量,减少各次雨水的蒸发、径流的流失量。通过在“地表和地下两个面”上,动态的对各次降水补充的强度、数量与土壤入渗率等进行改变治理,改变降水的自然存留规律,增大陡坡林木根系直接需水地层间降水的存留量、延长存留时段,实现就地“拦堵”贮存,既减少水土流失,又解决了树木缺水的问题。并且陡坡土地上的弓I流入渗沉淀种植坑容积,大于雨水的最大变幅、变量的体积,不易被自然冲毁,避免形成水土流失,使陡坡土地的植树造林和水土流失治理难题容易得到解决:一是将强降水量就近拦堵转变成有效降水被树木利用,为陡坡土地树木抗干旱找到了水源、水量;二是靠雨水非灌溉能治理陡坡土地树木遇到干旱时的生长速率低的难题;三是能干旱水土流失同治。为山区困难地造林找到一种“非灌溉”增强树木抗旱能力的方法,更好的实现水土保持。

【专利附图】

【附图说明】
[0012]图1是本实用新型的示意图。
[0013]图2是本实用新型种植有树木的示意图。
[0014]图中:1、树木,2、陆坡,3、沉淀种植坑,4、引流入渗孔。

【具体实施方式】
[0015]结合附图,通过实施例对本实用新型进一步详细说明。
[0016]如图1结合图2所示:本实施例所述的引流入渗沉淀种植坑
[0017]包括沉淀种植坑3、引流入渗孔4,所述的沉淀种植坑3是在陡坡2为25—60度的山地表面植树部位(根据造林作业设计的株行距确定),最好沿自然冲刷沟槽布点开挖沉淀种植坑3,这样更利于聚集雨水。每个沉淀坑长50—100cm,宽30—60cm,深30—40cm。沉淀种植坑3外侧用于种植树木1、内侧沿山体和坡面垂直向下打一引流入渗孔4。该引流入渗孔为一向下打的斜孔,孔径10—20cm,深20—40cm。作用是把雨水引向山体内部,加大入渗量。为防止沉淀坑裸露部分蒸发水分,在所述的沉淀坑裸露部分上覆盖地膜。由此增大雨水的入渗量,减少蒸发和径流的流失量,既避免水土流失又为树木贮存了水源,实现“天水”利用的最大化。
【权利要求】
1.一种引流入渗沉淀种植坑,其特征是:包括沉淀种植坑(3)、引流入渗孔(4),所述的沉淀种植坑(3)是在陡坡(2)为25— 60度的山地表面开挖形成,沉淀种植坑(3)的外侧用于种植树木(I)、内侧往山体内打一引流入渗孔(4)。
2.根据权利要求1所述的引流入渗沉淀种植坑,其特征是:所述的引流入渗孔(4)为斜孔,方向和山体坡面垂直。
3.根据权利要求1所述的引流入渗沉淀种植坑,其特征是:所述的沉淀种植坑(3)是在地表沿自然冲刷沟槽开挖,长50— 100cm,宽30— 60cm,深30— 40cm。
4.根据权利要求1所述的引流入渗沉淀种植坑,其特征是:所述的引流入渗孔(4)为一向下打的斜孔,孔径10 — 20cm,深20— 40cm。
5.根据权利要求1所述的引流入渗沉淀种植坑,其特征是:在所述的沉淀种植坑(3)裸露部分上覆盖有地膜。
【文档编号】A01G23/00GK204132090SQ201420278004
【公开日】2015年2月4日 申请日期:2014年5月28日 优先权日:2014年5月28日
【发明者】张笑寒, 张孟仁, 姚忠臣, 薛少锋, 薛雯雯, 山晓伟, 房黎 申请人:张笑寒
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