一种外源施加MEcPP提高植物抗性的方法

本发明属于分子生物学和植物抗逆性领域，具体涉及一种外源施加mecpp提高植物抗性的方法。

背景技术：

1、近年来，苔藓植物因其易于培养、生活史短、可用于景观建造和环境监测等优势，受到了广泛关注。研究表明，苔藓植物分化于约4.7亿年前，其在长期适应环境变化过程中已经进化出一定的逆境胁迫耐受性，是一种优质的抗逆研究材料。小立碗藓(physcomitriumpatens)的基因组测序完成，遗传背景清晰，它的许多基因都参与植物胁迫反应。

2、2-c-甲基-d-赤藓糖醇2,4-环二磷酸(methylerythritol cyclodiphosphate，mecpp)是甲基赤藓糖醇磷酸(methylerythritolphosphate，mep)途径的中间代谢产物。在现有技术中，通常是通过逆境胁迫和遗传改良的方法来增加植物内源mecpp含量，但上述方法的效果并不理想。比如，逆境胁迫会影响植物的生长发育和作物的产量和质量；遗传改良周期长且部分植物没有合适的遗传转化体系。

3、因此，如何提供一种适用性广、方便快捷的提高植物抗性的方法成为了本领域亟待解决的问题。

技术实现思路

1、为了解决提升植物抗逆性过程中存在的改良周期长、没有合适的遗传转化体系的问题，本发明提供了一种遗传改良周期短、适用于大部分植物且能提高植物抗性的外源施加mecpp的方法，本发明提供了如下技术方案：

2、本发明提供了2-c-甲基-d-赤藓糖醇2,4-环二磷酸在提高植物抗性中的应用，所述2-c-甲基-d-赤藓糖醇2,4-环二磷酸为2-c-甲基-d-赤藓糖醇2,4-环二磷酸溶液，所述2-c-甲基-d-赤藓糖醇2,4-环二磷酸溶液的浓度为10μm～50μm。

3、本发明还提供了一种外源施加2-c-甲基-d-赤藓糖醇2,4-环二磷酸提高植物抗性的方法，包括如下步骤：

4、将2-c-甲基-d-赤藓糖醇2,4-环二磷酸溶液喷施于苗期植物叶片上。

5、优选地，喷施所述2-c-甲基-d-赤藓糖醇2,4-环二磷酸溶液时，直至叶面有2-c-甲基-d-赤藓糖醇2,4-环二磷酸溶液滴落。

6、优选地，所述提高植物抗性为提高植物耐高温性能。

7、优选地，所述植物为小立碗藓。

8、本发明还提供了一种耐高温植物的培育方法，包括如下步骤：

9、按如上所述的方法处理植物叶片1h后，将植物进行耐高温培养，再对植物进行恢复培养，得到耐高温植物。

10、优选地，所述植物为苗期植物。

11、优选地，所述耐高温培养的操作为：将植物于40～45℃环境中培养4～5h。

12、优选地，所述恢复培养的操作为：将植物于25℃环境中培养。

13、优选地，所述植物为小立碗藓。

14、本发明的有益效果在于：

15、本发明提供了一种外源施加mecpp提高植物抗性的方法，通过将mecpp溶液喷施于苗期植物叶片上实现。本发明外源施加mecpp提高植物抗性的方法简单易操作、节约时间、适用范围广、符合经济性，并且经过外源施加mecpp后，植物的抗性显著提升，具有理想的应用前景。

技术特征：

1.2-c-甲基-d-赤藓糖醇2,4-环二磷酸在提高植物抗性中的应用，其特征在于，所述2-c-甲基-d-赤藓糖醇2,4-环二磷酸为2-c-甲基-d-赤藓糖醇2,4-环二磷酸溶液，所述2-c-甲基-d-赤藓糖醇2,4-环二磷酸溶液的浓度为10μm～50μm。

2.一种外源施加2-c-甲基-d-赤藓糖醇2,4-环二磷酸提高植物抗性的方法，其特征在于，包括如下步骤：

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，喷施所述2-c-甲基-d-赤藓糖醇2,4-环二磷酸溶液时，直至叶面有2-c-甲基-d-赤藓糖醇2,4-环二磷酸溶液滴落。

4.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述提高植物抗性为提高植物耐高温性能。

5.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述植物为小立碗藓。

6.一种耐高温植物的培育方法，其特征在于，包括如下步骤：

7.如权利要求6所述的培育方法，其特征在于，所述植物为苗期植物。

8.如权利要求6所述的培育方法，其特征在于，所述耐高温培养的操作为：将植物于40～45℃环境中培养4～5h。

9.如权利要求6所述的培育方法，其特征在于，所述恢复培养的操作为：将植物于25℃环境中培养。

10.如权利要求6所述的培育方法，其特征在于，所述植物为小立碗藓。

技术总结
本发明属于分子生物学和植物抗逆性领域，具体涉及一种外源施加2‑C‑甲基‑D‑赤藓糖醇2,4‑环二磷酸(MEcPP)提高植物抗性的方法。本发明外源施加MEcPP提高植物抗性的方法包括于植物苗期喷施MEcPP溶液以提高植物抗性的步骤。本发明提供了一种简单、易操作、节约时间和适用范围广的提高植物抗性的方法，为提高植物应对胁迫的耐受能力提供了策略和方法。

技术研发人员：刘莉,段柳,杨卓,普晓俊
受保护的技术使用者：湖北大学
技术研发日：
技术公布日：2025/3/6