雾化装置的制作方法

文档序号:33868049发布日期:2023-04-20 04:46阅读:44来源:国知局
雾化装置的制作方法

本申请涉及电子设备领域,尤其是涉及电子雾化装置类的电子设备。


背景技术:

1、电子雾化装置包括吸嘴、供电设备及雾化器,雾化器中设有雾化介质载体,雾化介质储存在雾化介质载体内,雾化器中的加热元件加热雾化介质,使得雾化介质雾化。使用者在使用电子雾化装置时,从吸嘴进行抽吸时,雾化后的雾化介质从雾化器的雾化管、吸嘴的吸气管被使用者抽吸。

2、然而,由于雾化器、吸嘴之间的结构间隙等,导致未完全雾化的雾化介质及雾化完成的气溶胶形成的雾化烟雾除了进入到吸嘴的吸气管之外,还会进入到吸嘴的其他结构处,因而会影响吸嘴的洁净感。并且,雾化后的雾化介质一般温度较高,而吸嘴的其它部位温度相对较低,因此,雾化后的雾化介质会冷凝,从而在吸嘴结构中产生无法及时处理的冷凝液,进而影响使用者的体验感。


技术实现思路

1、为解决上述技术问题,本申请提供一种雾化装置,能够避免雾化介质流入到吸嘴内部非吸气管的位置,保证吸嘴处的洁净感。

2、本申请提供了一种雾化装置,包括雾化器,所述雾化装置包括透明吸嘴、阻油件及第一密封件。所述透明吸嘴包括吸气管,所述阻油件设有通孔。其中,所述第一密封件和所述阻油件依次安装在所述透明吸嘴和所述雾化器之间,且所述吸气管及所述通孔连通。

3、具体地,所述第一密封件设有安装通孔,所述吸气管面向所述第一密封件的一端置于在所述安装通孔内。

4、具体地,所述吸气管与所述安装通孔过盈配合。

5、具体地,所述吸气管与所述通孔同轴对齐,且所述通孔的投影位于所述吸气管内。

6、具体地,所述第一密封件包括密封主体及由所述密封主体延伸的安装部。所述安装通孔设置在所述密封主体上,所述阻油件安装在所述安装部内。

7、具体地,所述安装部为由所述密封主体延伸而成的安装环。

8、具体地,上述雾化装置还包括外壳,所述雾化器、所述阻油件及所述第一密封件均置在所述外壳内,且所述密封主体的端缘抵顶在所述外壳的内壁面。

9、具体地,上述雾化装置还包括第二密封件,所述阻油件位于所述第一密封件和所述第二密封件之间。

10、具体地,所述第一密封件包括密封主体及由所述密封主体延伸的安装环。所述安装环抵顶在所述第二密封件上而形成一个容置腔,所述阻油件安装在所述容置腔内。所述安装通孔设置在所述密封主体上,所述第二密封件设有与所述容置腔连通的导引通孔。

11、具体地,所述雾化器包括雾化管,所述第二密封件背向所述第一密封件延伸有一个导引部,所述导引部连接在所述雾化管内。所述导引通孔设置在所述导引部上,并贯穿所述第二密封件。

12、本申请的有益效果是:相较于现有的雾化装置,本申请提出的雾化装置包括透明吸嘴、阻油件及第一密封件。透明吸嘴包括吸气管,阻油件设有通孔。阻油件和第一密封件依次安装在透明吸嘴和雾化器之间,第一密封件的设置避免了未雾化完全的雾化介质及雾化完成后的气溶胶逸散形成的雾化烟雾从阻油件间隙泄漏流入透明吸嘴中的同时也减少了冷凝液的产生。且吸气管、安装通孔及通孔连通。



技术特征:

1.一种雾化装置,包括雾化器,其特征在于,所述雾化装置包括透明吸嘴、阻油件及第一密封件;

2.根据权利要求1所述的雾化装置,其特征在于,所述第一密封件设有安装通孔,所述吸气管面向所述第一密封件的一端置入在所述安装通孔内。

3.根据权利要求2所述的雾化装置,其特征在于,所述吸气管与所述安装通孔过盈配合。

4.根据权利要求2所述的雾化装置,其特征在于,所述吸气管与所述通孔同轴对齐,且所述通孔的投影位于所述吸气管内。

5.根据权利要求2-4任一项所述的雾化装置,其特征在于,所述第一密封件包括密封主体及由所述密封主体延伸的安装部;

6.根据权利要求5所述的雾化装置,其特征在于,所述安装部为由所述密封主体延伸而成的安装环。

7.根据权利要求5所述的雾化装置,其特征在于,还包括外壳,所述雾化器、所述阻油件及所述第一密封件均置在所述外壳内,且所述密封主体的端缘抵顶在所述外壳的内壁面。

8.根据权利要求2-4任一项所述的雾化装置,其特征在于,还包括第二密封件,所述阻油件位于所述第一密封件和所述第二密封件之间。

9.根据权利要求8所述的雾化装置,其特征在于,所述第一密封件包括密封主体及由所述密封主体延伸的安装环;

10.根据权利要求9所述的雾化装置,其特征在于,所述雾化器包括雾化管;


技术总结
本申请提供了一种雾化装置,包括透明吸嘴、阻油件及第一密封件。透明吸嘴包括吸气管,阻油件设有通孔。阻油件和第一密封件均安装在透明吸嘴和雾化器之间,且第一密封件位于透明吸嘴与阻油件之间,吸气管及通孔连通。第一密封件的设置避免了未雾化完全的雾化介质及雾化完成后的气溶胶逸散形成的雾化烟雾从阻油件间隙泄漏流入透明吸嘴中的同时也减少了冷凝液的产生。

技术研发人员:张志良
受保护的技术使用者:爱奇迹(香港)有限公司
技术研发日:20220907
技术公布日:2024/1/13
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